JP2016099611A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】照明光学系3は、複数のランプユニット及び該ランプユニットからの露光光を反射する平面ミラー68を有する。照明光学系3は、平面ミラー68の曲率を補正可能なミラー変形ユニットと、ランプユニットの照射強度を制御可能な光学制御部77と、を備える。光学制御部77は、ミラー変形ユニットによる平面ミラー68の曲率補正に基づいて複数のランプユニットの照射強度を制御して、ワークに照射される露光光の照度を制御する。
【選択図】図2
Description
また、他の近接露光装置としては、照明光学系に設けられた反射鏡の曲率を補正するミラー曲げ機構を備え、ミラー曲げによって露光パターンの補正を行って高精度な露光結果を得ることが知られている。
(1) ワークを支持するワーク支持部と、
マスクを支持するマスク支持部と、
複数の光源及び該光源からの露光光を反射する反射鏡を有する照明光学系と、
前記反射鏡の曲率を補正可能なミラー曲げ機構と、
を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光装置であって、
前記光源の照射強度を制御可能な制御装置を備え、
前記制御装置は、前記ミラー曲げ機構による前記反射鏡の曲率補正に応じて前記複数の光源の照射強度を制御して、前記ワークに照射される前記露光光の照度を制御することを特徴とする露光装置。
(2) 前記制御装置は、前記複数の光源から略均一な照度の光が照射された状態での前記反射鏡の曲率補正による照度分布に基づいて、前記複数の光源の照射強度を制御して、前記ワークに照射される前記露光光の照度を制御することを特徴とする(1)に記載の露光装置。
(3) 前記制御装置は、前記ミラー曲げ機構の複数のアクチュエータの駆動量に基づいて、前記複数の光源の照射強度を制御して、前記ワークに照射される前記露光光の照度を制御することを特徴とする(1)に記載の露光装置。
(4) 前記制御装置は、前記複数の光源を点灯又は消灯した際の複数の点灯パターンに応じた複数の照度分布を記憶する記憶手段を備え、
前記制御装置は、前記ミラー曲げ機構による前記反射鏡の曲率補正に基づいて、前記複数の照度分布にそれぞれ対応する複数の点灯パターンから選択又は演算される所望の点灯パターンに応じて前記複数の光源の照射強度を制御することを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の露光装置。
(5) 前記照明光学系は、前記光源と前記反射鏡との間に、複数のレンズがマトリックス配置されたインテグレータを備え、
前記インテグレータのレンズは、縦方向に3個以上7個以下、横方向に3個以上7個以下で並ぶように配置されることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の露光装置。
(6) (1)〜(5)のいずれかに記載の露光装置を用いて、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光方法であって、
前記ミラー曲げ機構による前記反射鏡の曲率補正を行う工程と、
前記反射鏡の前記曲率補正に応じて、前記制御装置により前記複数の光源の照射強度を制御する工程と、
を備え、前記ワークに照射される前記露光光の照度を制御することを特徴とする露光方法。
図1に示すように、近接露光装置PEは、被露光材としてのワークWより小さいマスクMを用い、マスクMをマスクステージ1で保持すると共に、ワークWをワークステージ(ワーク支持部)2で保持し、マスクMとワークWとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、照明光学系3からパターン露光用の光をマスクMに向けて照射することにより、マスクMのパターンをワークW上に露光転写する。また、ワークステージ2をマスクMに対してX軸方向とY軸方向の二軸方向にステップ移動させて、ステップ毎に露光転写が行われる。
なお、上下微動装置8は、モータ17とボールねじによってスライド体12を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体12を駆動するようにしてもよい。
なお、上下微動装置8によってワークステージ2の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置7を省略してもよい。
なお、本実施形態の場合には、216個のランプユニット60の所定数の点灯パターンLPと、これらに対応する複数の照度分布Fが記憶手段に記憶されている。
また、複数のランプユニット60の照射強度の制御は、カセット81毎に行われてもよく、このため、カセット81毎に制御した複数の点灯パターンLPと、これらに対応する複数の照度分布Fが記憶手段に記憶されてもよい。
2 ワークステージ(ワーク支持部)
3 照明光学系
60,60a,・・・,60d ランプユニット(光源)
65 オプティカルインテグレータ(インテグレータ)
68 平面ミラー(反射鏡)
70 ミラー変形ユニット(ミラー曲げ機構)
74 アクチュエータ
77 光学制御部(制御装置)
94 ミラー制御部
F 照度分布
LP 点灯パターン
M マスク
P マスクのパターン
PE 近接露光装置
W ワーク
Claims (6)
- ワークを支持するワーク支持部と、
マスクを支持するマスク支持部と、
複数の光源及び該光源からの露光光を反射する反射鏡を有する照明光学系と、
前記反射鏡の曲率を補正可能なミラー曲げ機構と、
を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光装置であって、
前記光源の照射強度を制御可能な制御装置を備え、
前記制御装置は、前記ミラー曲げ機構による前記反射鏡の曲率補正に応じて前記複数の光源の照射強度を制御して、前記ワークに照射される前記露光光の照度を制御することを特徴とする露光装置。 - 前記制御装置は、前記複数の光源から略均一な照度の光が照射された状態での前記反射鏡の曲率補正による照度分布に基づいて、前記複数の光源の照射強度を制御して、前記ワークに照射される前記露光光の照度を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記ミラー曲げ機構の複数のアクチュエータの駆動量に基づいて、前記複数の光源の照射強度を制御して、前記ワークに照射される前記露光光の照度を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記複数の光源を点灯又は消灯した際の複数の点灯パターンに応じた複数の照度分布を記憶する記憶手段を備え、
前記制御装置は、前記ミラー曲げ機構による前記反射鏡の曲率補正に基づいて、前記複数の照度分布にそれぞれ対応する複数の点灯パターンから選択又は演算される所望の点灯パターンに応じて前記複数の光源の照射強度を制御することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記照明光学系は、前記光源と前記反射鏡との間に、複数のレンズがマトリックス配置されたインテグレータを備え、
前記インテグレータのレンズは、縦方向に3個以上7個以下、横方向に3個以上7個以下で並ぶように配置されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の露光装置。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光方法であって、
前記ミラー曲げ機構による前記反射鏡の曲率補正を行う工程と、
前記反射鏡の前記曲率補正に応じて、前記制御装置により前記複数の光源の照射強度を制御する工程と、
を備え、前記ワークに照射される前記露光光の照度を制御することを特徴とする露光方法。
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