JP2016094616A - 光学用粘着剤、光学用粘着テープ及び積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】a)炭素数1〜14のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート60〜95重量部、b)カルボキシル基含有モノマー0.1〜1重量部、及び、c)ヒドロキシル基、アミノ基又はアミド基含有モノマー10〜30重量部を含むモノマー混合物をリビングラジカル重合により共重合させて得られた分子量分布(Mw/Mn)1.05〜2.5の(メタ)アクリルポリマーと、架橋剤とを含有し、前記a)炭素数1〜14のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートは、ビシクロ環構造を有する(メタ)アクリレートを含む光学用粘着剤。
【選択図】 なし
Description
以下、本発明を詳述する。
しかしながら、フリーラジカル重合は、分子量及び分子量分布、共重合体組成等を充分に制御できず、低分子量成分が生成したり、共重合の場合であってもホモポリマーが生成したりするという欠点がある。本発明者らは、このような低分子量成分又はホモポリマーが、高温高湿下に晒された後に粘着剤が曇りやすくなったり、接着面に気泡が生じたり、加工性が悪化したりする原因となっていると考えた。また、粘着剤に用いられるポリマーには、粘着剤に凝集力を付与する目的で、(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基含有モノマーを配合することが一般的である。本発明者らは、フリーラジカル重合により得られたポリマーでは、カルボキシル基含有モノマーを含むポリマー鎖が遊離した状態で含まれ、これが透明電極を劣化させる原因となっているものと考えた。透明電極の劣化を防止するためには、カルボキシル基含有モノマーの配合量を減らすことが考えられるが、カルボキシル基含有モノマーの配合量を減らすと得られる粘着剤の凝集力を確保できない。
リビングラジカル重合は、重合反応が停止反応又は連鎖移動反応等の副反応で妨げられることなく分子鎖が生長していく重合であるため、分子量及び分子量分布、共重合体組成等を制御しやすく、低分子量成分の生成及び共重合せずに生じるホモポリマーの生成を抑えることができる。更に、リビングラジカル重合を採用することにより、カルボキシル基含有モノマーの配合量を減らしても充分な凝集力を確保できるとともに、遊離状態のカルボキシル基含有モノマー含むポリマー鎖を減らすことができることから、透明電極の劣化を防止することができる。
なお、(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。
上記ビシクロ環構造は特に限定されず、上記ビシクロ環構造を有する官能基として、例えば、ビシクロ[1.1.0]ブチル基、ビシクロ[1.1.1]ペンチル基、ビシクロ[2.1.0]ペンチル基、ビシクロ[3.1.0]ヘキシル基、ビシクロ[2.1.1]ヘキシル基、ビシクロ[2.2.0]ヘキシル基、ビシクロ[2.2.1]ヘプチル基、ビシクロ[3.1.1]ヘプチル基、ビシクロ[3.2.0]ヘプチル基、ビシクロ[4.1.0]ヘプチル基、ビシクロ[2.2.2]オクチル基、ビシクロ[3.2.1]オクチル基、ビシクロ[3.3.0]オクチル基、ビシクロ[4.1.1]オクチル基、ビシクロ[4.2.0]オクチル基、ビシクロ[5.1.0]オクチル基、ビシクロ[3.2.2]ノニル基、ビシクロ[3.3.1]ノニル基、ビシクロ[4.2.1]ノニル基、ビシクロ[4.3.0]ノニル基、ビシクロ[5.1.1]ノニル基、ビシクロ[5.2.0]ノニル基、ビシクロ[6.1.0]ノニル基、ビシクロ[4.3.1]デシル基、及び、これらのビシクロ環構造を有する官能基の水素原子の一部を鎖状アルキル基又は環状アルキル基で置換した構造を有する官能基等が挙げられる。なお、上記置換は1箇所であってもよく、複数箇所であってもよい。なかでも、ノルボルニル基、イソボルニル基が好ましく、イソボルニル基が特に好ましい。即ち、上記ビシクロ環構造を有する(メタ)アクリレートとしては、イソボルニル基と(メタ)アクリロイル基とを有するイソボルニル(メタ)アクリレートが特に好ましい。
上記b)カルボキシル基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、フタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等が挙げられる。なかでも、アクリル酸が好ましい。
上記c)ヒドロキシル基、アミノ基又はアミド基含有モノマーのうち、ヒドロキシル基含有モノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、片末端をアクリロイル基で変性したポリエチレングリコール、片末端をアクリロイル基で変性したポリプロピレングリコール等が挙げられる。なかでも、ヒドロキシエチルアクリレートが好ましい。
上記アミノ基含有モノマーとしては、例えば、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、ジエチルアミノ(メタ)アクリレート、アミノメチル(メタ)アクリレート、アミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。なかでも、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートが好ましい。
上記アミド基含有モノマーとしては、例えば、ジアセトンアクリルアミド(ダイアセトンアクリルアミド)、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、アクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられる。なかでも、ジアセトンアクリルアミドが好ましい。
上記(メタ)アクリル酸エステルは特に限定されず、イソミリスチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステルや、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの(メタ)アクリル酸エステルは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
リビングラジカル重合は、重合反応が停止反応又は連鎖移動反応等の副反応で妨げられることなく分子鎖が生長していく重合であるため、分子量及び分子量分布、共重合体組成等を制御しやすく、低分子量成分の生成及び共重合せずに生じるホモポリマーの生成を抑えることができる。このため、上記(メタ)アクリルポリマーを含有することにより、本発明の光学用粘着剤は、高温高湿下に晒された後でも曇らず、耐発泡性に優れ、かつ、加工性にも優れたものとなる。また、リビングラジカル重合を採用することにより、カルボキシル基含有モノマーの配合量を減らしても充分な凝集力を確保できるとともに、遊離状態のカルボキシル基含有モノマーを含むポリマー鎖を減らすことができることから、透明電極の劣化を防止することができる。
リビングラジカル重合は、重合反応が停止反応又は連鎖移動反応等の副反応で妨げられることなく分子鎖が生長していく重合である。リビングラジカル重合では、生長末端ラジカルが失活することなく、また反応中に新しくラジカル種が発生することもなく、反応が進行する。その反応途中では、全てのポリマー鎖が均一にモノマーと反応しながら重合し、全てのポリマーの組成は均一に近づく。そのため、架橋性官能基を含むヒドロキシル基、アミノ基又はアミド基含有モノマー12や、カルボキシル基含有モノマー13は、リビングラジカル重合された(メタ)アクリルポリマー1の全てのポリマーに含まれる。このようなリビングラジカル重合された(メタ)アクリルポリマー1を、架橋剤を用いて架橋すると、ほとんど全てのポリマーがポリマー鎖間の架橋に関与することができる。
図2に、リビングラジカル重合により得られた(メタ)アクリルポリマーを架橋した場合を説明する模式図を示した。リビングラジカル重合により得られた(メタ)アクリルポリマーでは、全てのポリマーの組成は均一であり、架橋性官能基を含むヒドロキシル基、アミノ基又はアミド基含有モノマーを含むことから、すべてのポリマー鎖が架橋に関与している(なお、図2では架橋性官能基の例として水酸基を記載した。)。このように、ほとんど全てのポリマーがポリマー鎖間の架橋に関与することができることから、低分子量成分の生成及び共重合せずに生じるホモポリマーの生成を抑えて、優れた耐発泡性や加工性を発揮することができる。更に、カルボキシル基含有モノマーの配合量を減らしても充分な凝集力を確保できるとともに、遊離状態のカルボキシル基含有モノマーを含むポリマー鎖がほとんど含まれないことから、透明電極の劣化を防止することができる。
図3にフリーラジカル重合を説明する模式図を示した。
フリーラジカル重合では、反応中に連続的にラジカル種が発生してモノマーに付加し、重合が進行する。そのためフリーラジカル重合では、反応の途中で生長末端ラジカルが失活したポリマー24や、反応中に新しく発生したラジカル種により生長したポリマー25が生成する。そのため、(メタ)アクリルポリマーをフリーラジカル重合で製造すると、架橋性官能基を含むヒドロキシル基、アミノ基又はアミド基含有モノマー22を含まない、比較的低分子量のポリマーが生成してしまう。このようなフリーラジカル重合された(メタ)アクリルポリマー2を、架橋剤を用いて架橋しても、ヒドロキシル基、アミノ基又はアミド基含有モノマーを含まないポリマーは、ポリマー鎖間での架橋に関与することができない。
図4に、フリーラジカル重合された(メタ)アクリルポリマーを架橋した場合を説明する模式図を示した。フリーラジカル重合された(メタ)アクリルポリマーでは、ポリマーの組成が不均一であり、ヒドロキシル基、アミノ基又はアミド基含有モノマーを含まない比較的低分子量のポリマーを含むことから、架橋に関与できないポリマー鎖が存在している(なお、図4では架橋性官能基の例として水酸基を記載した。)。また、遊離状態のカルボキシル基含有モノマーを含むポリマー鎖も含まれる。フリーラジカル重合された(メタ)アクリルポリマーを用いた場合には、架橋されない比較的低分子量の成分により、接着面に気泡が生じたり、加工性が悪化したりする。また、凝集力を確保するためには比較的多量のカルボキシル基含有モノマーを配合する必要があり、透明電極の劣化を防止することができない。更に、遊離状態のカルボキシル基含有モノマーを含むポリマー鎖も透明電極の劣化の原因となる。
上記有機テルル化合物として、例えば、(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−クロロ−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−ヒドロキシ−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−メトキシ−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−アミノ−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−ニトロ−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−シアノ−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−メチルカルボニル−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−フェニルカルボニル−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−メトキシカルボニル−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−フェノキシカルボニル−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−スルホニル−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−トリフルオロメチル−4−(メチルテラニル−メチル)ベンゼン、1−クロロ−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−ヒドロキシ−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−メトキシ−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−アミノ−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−ニトロ−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−シアノ−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−メチルカルボニル−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−フェニルカルボニル−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−メトキシカルボニル−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−フェノキシカルボニル−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−スルホニル−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−トリフルオロメチル−4−(1−メチルテラニル−エチル)ベンゼン、1−クロロ−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−ヒドロキシ−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−メトキシ−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−アミノ−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−ニトロ−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−シアノ−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−メチルカルボニル−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−フェニルカルボニル−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−メトキシカルボニル−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−フェノキシカルボニル−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−スルホニル−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、1−トリフルオロメチル−4−(2−メチルテラニル−プロピル)ベンゼン、2−(メチルテラニル−メチル)ピリジン、2−(1−メチルテラニル−エチル)ピリジン、2−(2−メチルテラニル−プロピル)ピリジン、2−メチルテラニル−エタン酸メチル、2−メチルテラニル−プロピオン酸メチル、2−メチルテラニル−2−メチルプロピオン酸メチル、2−メチルテラニル−エタン酸エチル、2−メチルテラニル−プロピオン酸エチル、2−メチルテラニル−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メチルテラニルアセトニトリル、2−メチルテラニルプロピオニトリル、2−メチル−2−メチルテラニルプロピオニトリル等が挙げられる。これらの有機テルル化合物中のメチルテラニル基は、エチルテラニル基、n−プロピルテラニル基、イソプロピルテラニル基、n−ブチルテラニル基、イソブチルテラニル基、t−ブチルテラニル基、フェニルテラニル基等であってもよく、また、これらの有機テルル化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記アゾ化合物は、ラジカル重合に一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリアン酸)、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、ジメチル−1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボキシレート)、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1’−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス{2−[1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル]プロパン}二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩、2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]四水和物、2,2’−アゾビス(1−イミノ−1−ピロリジノ−2−メチルプロパン)二塩酸塩、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等が挙げられる。これらのアゾ化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記リビングラジカル重合において重合溶媒を用いる場合、該重合溶媒は特に限定されず、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、トルエン、キシレン等の非極性溶媒や、水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の高極性溶媒を用いることができる。これらの重合溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
また、重合温度は、重合速度の観点から0〜110℃が好ましい。
上記分子量分布が2.5を超えると、上記リビングラジカル重合において生成した低分子量成分等が増えるため、高温高湿下に晒された後に光学用粘着剤が曇りやすくなるか、接着面に気泡が発生しやすくなるか、光学用粘着剤を用いて製造した粘着テープの加工性が低下するかのいずれかの問題が生じる。上記分子量分布の好ましい上限は2.0であり、より好ましい上限は1.8である。
重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、ゲルパミエーションクロマトグラフィ(GPC)法によりポリスチレン換算分子量として測定される。具体的には、重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、(メタ)アクリルポリマーをテトラヒドロフラン(THF)によって50倍希釈して得られた希釈液をフィルターで濾過し、得られた濾液を用いてGPC法によりポリスチレン換算分子量として測定される。GPC法では、例えば、2690 Separations Model(Waters社製)等を使用できる。
例えば、上記(メタ)アクリルポリマーが架橋性官能基として水酸基を有する場合、架橋剤として例えばイソシアネート系架橋剤を用いることにより、上記(メタ)アクリルポリマーを架橋させることができる。
上記イソシアネート系架橋剤として、例えば、コロネートHX(日本ポリウレタン工業社製)、コロネートL(日本ポリウレタン工業社製)、マイテックNY260A(三菱化学社製)等が挙げられる。
上記粘着付与樹脂としては、例えば、水添ロジンエステル樹脂、水添テルペンフェノール樹脂等が挙げられる。
なお、ゲル分率は、次のようにして測定される。まず、光学用粘着テープを50mm×100mmの平面長方形状に裁断して試験片を作製し、試験片を酢酸エチル中に23℃にて24時間浸漬した後、酢酸エチルから取り出して、110℃の条件下で1時間乾燥させる。乾燥後の試験片の重量を測定し、下記式(1)を用いてゲル分率を算出する。なお、試験片には、粘着剤層を保護するための離型フィルムは積層されていないものとする。
ゲル分率(重量%)=100×(W2−W0)/(W1−W0) (1)
(W0:基材の重量、W1:浸漬前の試験片の重量、W2:浸漬、乾燥後の試験片の重量)
上記粘着剤層の厚みは用途によって設定されるので特に限定されないが、好ましい下限が1μm、好ましい上限が100μmである。上記厚みが1μm未満であると、光学用粘着テープが剥がれやすくなり、接着面に気泡が発生しやすくなることがある。上記厚みが100μmを超えると、薄い粘着テープが得られないことがある。上記厚みのより好ましい下限は25μm、より好ましい上限は75μmである。
少なくとも2つの被着体(例えば、上記電子機器を構成する部材等)の間に粘着剤層を配した積層体であって、上記被着体のうち少なくとも1つが透明な被着体であり、上記粘着剤層が本発明の光学用粘着剤から形成されている積層体もまた、本発明の1つである。
(1)リビングラジカル重合ポリマー(LRP)の合成
Tellurium(40メッシュ、金属テルル、アルドリッチ社製)6.38g(50mmol)をテトラヒドロフラン(THF)50mLに懸濁させ、これに1.6mol/Lのn−ブチルリチウム/ヘキサン溶液(アルドリッチ社製)34.4mL(55mmol)を、室温でゆっくり滴下した。この反応溶液を金属テルルが完全に消失するまで攪拌した。この反応溶液に、エチル−2−ブロモ−イソブチレート10.7g(55mmol)を室温で加え、2時間攪拌した。反応終了後、減圧下で溶媒を濃縮し、続いて減圧蒸留して、黄色油状物の2−メチル−2−n−ブチルテラニル−プロピオン酸エチルを得た。
得られたリビングラジカル重合ポリマー(LRP)をテトラヒドロフラン(THF)によって50倍希釈して得られた希釈液をフィルター(材質:ポリテトラフルオロエチレン、ポア径:0.2μm)で濾過し、得られた濾液をゲルパミエーションクロマトグラフ(Waters社製、2690 Separations Model)に供給して、サンプル流量1ミリリットル/min、カラム温度40℃の条件でGPC測定を行い、ポリマーのポリスチレン換算分子量を測定して、分子量分布(Mw/Mn)を求めた。カラムとしてはGPC KF−806L(昭和電工社製)を用い、検出器としては示差屈折計を用いた。
上記で得られたリビングラジカル重合ポリマー(LRP)含有溶液に、共重合体固形分100重量部に対して、架橋剤であるマイテックNY260A(三菱ガス化学社製)0.2重量部を添加し、攪拌した後、離型ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの離型処理面上に塗工し、110℃で10分間乾燥することにより酢酸エチルを除去して、厚み50μmの粘着剤層を形成した。なお、粘着剤層の両側の表面には、粘着剤層を保護するために厚み50μmの離型処理したPETフィルムを積層した。
実施例1と同様に、リビングラジカル重合ポリマー(LRP)含有溶液を作製した後、共重合体固形分100重量部に対して、架橋剤であるマイテックNY260A(三菱ガス化学社製)1.5重量部を添加し、攪拌した後、離型ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの離型処理面上に塗工し、110℃で10分間乾燥することにより酢酸エチルを除去して、厚み50μmの粘着剤層を形成した。なお、粘着剤層の両側の表面には、粘着剤層を保護するための離型フィルムを積層した。
(1)フリーラジカル重合ポリマー(FRP)の合成
反応容器内に、重合溶媒として酢酸エチル50gを加え、窒素でバブリングした後、窒素を流入しながら反応容器を加熱して還流を開始した。続いて、重合開始剤としてV−60(2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、和光純薬工業社製)0.15gを酢酸エチルで10倍希釈した重合開始剤溶液を反応容器内に投入し、表1に示すモノマーの合計100gを2時間かけて滴下添加した。滴下終了後、重合開始剤としてV−60(2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、和光純薬工業社製)0.15gを酢酸エチルで10倍希釈した重合開始剤溶液を反応容器内に再度投入し、4時間重合反応を行い、フリーラジカル重合ポリマー(FRP)含有溶液を得た。リビングラジカル重合ポリマー(LRP)の場合と同様にして、分子量分布(Mw/Mn)を求めた。
リビングラジカル重合ポリマー(LRP)の場合と同様にして、両面粘着テープを得た。
フリーラジカル重合ポリマー(FRP)の合成において表1に示すモノマーを用いた以外は比較例4と同様にして、両面粘着テープを得た。
実施例、比較例で得られた両面粘着テープについて、下記の評価を行った。結果を表1に示した。
両面粘着テープについて、カッター刃を用いて打ち抜き作業を40回行い、カッター刃に粘着剤が付着することにより発生する刃汚れ、及び、打ち抜き作業時における粘着剤の糸引き現象を目視により観察した。
粘着剤が付着することにより発生する刃汚れが見られず、粘着剤の糸引き現象も見られない場合を「○」、刃汚れは多少見られるが、糸引き現象は見られない場合を「△」、刃汚れが見られ、かつ、糸引き現象も見られる場合を「×」として切断加工性を評価した。
両面粘着テープを45mm×60mmの平面形状を有するように裁断した。裁断された両面粘着テープの一方の離型ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、露出した粘着剤層に透明なポリエチレンテレフタレートフィルムを貼り付け、次いで、もう一方の離型ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、露出した粘着剤層をスライドガラス(商品名「S−1214」MATSUNAMI社製)に貼り合わせて、ポリエチレンテレフタレートフィルム/両面粘着テープ/スライドガラスの層構造を有する試験片を作製した。試験片作製直後のヘイズ値(%)を、ヘイズメータを用いてJIS K 7105に従って測定し、更に、この試験片を温度85℃、湿度85RH%の恒温恒湿器に24時間放置した後、試験片を取り出してただちにヘイズ値を測定した。下記式(2)によりΔヘイズ値を算出した。
Δヘイズ値(%)={24時間放置した後の試験片のヘイズ値(%)}−{試験片作製直後のヘイズ値(%)}(2)
Δヘイズ値が0.3以下である場合を「透明」、ヘイズ値が0.3を超える場合を「白濁」として透明性を評価した。
両面粘着テープを45mm×60mmの平面形状を有するように裁断した。裁断された両面粘着テープの一方の離型ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、粘着剤層を露出させた。次いで、厚みが0.18mmのITO付フィルムのITO膜面上に、両面粘着テープの露出した面を貼り合わせた。更に、両面粘着テープのもう一方の離型ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、粘着剤層を露出させ、厚みが2.0mmの平面形状を有するポリカーボネート板(PC板)上に両面粘着テープの露出した面を貼り合わせることにより、ポリカーボネート板(PC板)上に、両面粘着テープとITO付フィルムとがこの順で積層されている積層体を得た。その後、得られた積層体を23℃、0.5MPaのオートクレーブにて15分間処理を行った後、温度85℃、相対湿度(RH)85%の条件で500時間静置し、試験サンプルを得た。得られた試験サンプルの接着界面における気泡発生状態を目視により観察した。
0.01mm以上の大きさの気泡が全く観察されなかった場合を「〇」と、0.01mm以上の大きさの気泡が1つの試験サンプル当たり1〜5個観察された場合を「×」として、気泡発生状態を評価した。
両面粘着テープを長さ40mm×幅60mmの平面形状を有するように裁断した。更に、幅方向で隣り合う2つの角を、それぞれ角からの長さが10mm、角から幅の10mmのサイズの平面形状で切断し、凸状のテープを得た。
凸状のテープの一方の離型ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、凸状のテープの露出した面をポリエチレンテレフタレート上に貼り付けた。更に、凸状のテープのもう一方の離型ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、凸状のテープの露出した面を長さ40mm×幅60mmの平面形状を有するITOフィルムのITO膜面上に貼り合わせた。これにより、ITOフィルムのITO膜面上に、両面粘着テープとポリエチレンテレフタレートとがこの順で積層されている導電性フィルム積層体を得た。
得られた初期抵抗値及び高温高湿下放置後の抵抗値より、下記式により抵抗値変化率(%)を算出した。得られた抵抗値変化率(%)が3未満であった場合を「○」と、3以上、10未満であった場合を「△」と、10以上であった場合を「×」と評価した。
抵抗値変化率(%)=(高温高湿下放置後の抵抗値−初期抵抗値)/初期抵抗値×100
11 炭素数1〜14のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート
12 ヒドロキシル基、アミノ基又はアミド基含有モノマー
13 カルボキシル基含有モノマー
2 フリーラジカル重合された(メタ)アクリルポリマー
21 炭素数1〜14のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート
22 ヒドロキシル基、アミノ基又はアミド基含有モノマー
23 カルボキシル基含有モノマー
24 反応の途中で生長末端ラジカルが失活したポリマー
25 反応中に新しく発生したラジカル種により生長したポリマー
Claims (3)
- a)炭素数1〜14のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート60〜95重量部、b)カルボキシル基含有モノマー0.1〜1重量部、及び、c)ヒドロキシル基、アミノ基又はアミド基含有モノマー10〜30重量部を含むモノマー混合物をリビングラジカル重合により共重合させて得られた分子量分布(Mw/Mn)1.05〜2.5の(メタ)アクリルポリマーと、架橋剤とを含有し、
前記a)炭素数1〜14のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートは、ビシクロ環構造を有する(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする光学用粘着剤。 - 請求項1記載の光学用粘着剤から形成されている粘着剤層を有することを特徴とする光学用粘着テープ。
- 少なくとも2つの被着体の間に粘着剤層を配した積層体であって、前記被着体のうち少なくとも1つが透明な被着体であり、前記粘着剤層が請求項1記載の光学用粘着剤から形成されていることを特徴とする積層体。
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