JP2016084517A - 原料ガス供給装置及び成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】キャリアガスを原料容器に供給するキャリアガス供給路41と、原料ガスを原料容器から供給するための原料ガス供給路42と、においてバルブV2,V4を含む原料容器3側の部分を流路用加熱部により加熱するように構成する。また原料容器を容器用加熱部により加熱するように構成する。そして加熱を停止するときに容器用加熱部12を先行してオフにし、その後流路用加熱部11をオフにするように制御する。または容器用加熱部12による加熱を停止したときに、その降温速度が原料容器3内の原料ガスの降温速度よりも早い原料回収用部材70を原料容器3内に設ける。
【選択図】図1
Description
ところで原料タンク内にキャリアガスを供給したときに固体原料が飛散して流出管内に入り込み、バルブに付着することを防止するために、流出管におけるバルブと原料容器との間にフィルタを設け、更に飛散した固体原料が流入管に逆流することを防止するために流入管にもフィルタを設けることを検討している。一方装置構造の制約やオペレータによる作業性などの観点から、原料容器と、原料容器に接続される配管及びバルブと、を別々のマントルヒータにより加熱し、これらマントルヒータを共通のスイッチにより同時にオン、オフする装置を検討している。
前記第2の供給路に設けられたバルブの中で前記原料容器に最も近い流出側バルブと当該原料容器との間を含む部位を固体原料の昇華温度以上の温度に加熱するための流路用加熱部と、
前記原料容器を固体原料の昇華温度以上の温度に加熱するための容器用加熱部と、
前記流路用加熱部及び容器用加熱部の加熱を停止するときに、原料容器内の温度が、前記第2の供給路において原料容器から前記流出側バルブに至るまでの温度よりも低い状態を維持しながら、前記第2の供給路及び原料容器が降温されるように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。
前記第2の供給路に設けられたバルブの中で前記原料容器に最も近い流出側バルブと当該原料容器との間を含む部位と、前記原料容器と、を固体原料の昇華温度以上の温度に加熱する加熱部と、
前記原料容器内に設けられ、前記容器用加熱部により加熱を停止したときに、その降温速度が前記原料容器内の気相の降温速度よりも早い原料回収用部材と、を備えたことを特徴とする。
内部に基板が載置される載置部を備え、気化した原料を含む原料ガスが前記第2の供給路を介して供給される処理容器と、
前記処理容器内の雰囲気を排気するための排気機構と、を備えたことを特徴とする成膜装置。
また他の発明によれば、容器用加熱部により加熱を停止したときに、その降温速度が原料容器内の気相の降温速度よりも早い原料回収用部材を原料容器内に設けていることから、原料回収部材の表面に再固化が起こり、このため原料ガスが流出する流路に滞留するガスの原料の濃度が低くなり、同様の効果が得られる。
成膜処理部2は、例えば処理容器となる真空チャンバである真空容器21内に、ウエハWを水平保持すると共に、不図示のヒータを備えた載置台22と、原料ガス等を真空容器21内に導入するガス導入部23(具体的にはガスシャワーヘッド)と、を備えている。真空容器21内は真空ポンプなどからなる真空排気部24により真空排気され、この内部に原料供給部から原料ガスが導入されることにより、加熱されたウエハWの表面にて成膜が進行するように構成されている。
キャリアガス供給路41の先端には、N2ガス供給源であるキャリアガス供給源31が設けられており、キャリアガス供給路41には、上流側にキャリアガスの流量を設定値にコントロールするためのマスフローコントローラ(MFC)61が設けられており、キャリアガス供給路41における天井から立ち上がっている部分の配管に上流側からバルブV3、バルブV2、及びフィルタ部32がこの順序で介設されている。
図5は、原料容器3内と流路側の領域とについて、温度(横軸)と原料の濃度(縦軸)との関係を模式的にイメージとして示した図である。T1、T2、T3は、夫々原料容器3の加熱温度、流路側の領域の加熱温度、流路用加熱部11をオフした時点における原料容器3内の温度に相当する。原料容器3内においては、容器用加熱部12をオフにすることにより温度がT1から降温し、原料容器3内の原料の濃度は、実線(1)に示すように飽和蒸気圧曲線に対応して減少していく。
これに対して流路側の領域においては、流路用加熱部11をオフにした時点では、原料の濃度は実線(2)に示すように温度T3に対応する飽和濃度に相当する濃度まで下がっている。その後、原料の濃度は、降温に伴う原料容器3内の飽和濃度の減少と共に低くなっていく。
第1の実施の形態において流路用加熱部11及び容器用加熱部12の加熱温度を夫々設定温度である160℃及び150℃に調整するために流路用加熱部11及び容器用加熱部12の各々において温度の検出を行うが、この検出値を用いて容器用加熱部12のオン及び流路用加熱部11のオフのタイミングを制御してもよい。この場合図6に示すように流路側の領域の温度を検出する流路用温度検出部51、原料容器3内の温度を検出する容器用温度検出部52の各々で検出される温度検出値を制御部9に入力するように構成する。
本発明では、流路側の領域における原料の析出を抑える手法として、第1の実施形態に代えて例えば流路用加熱部11及び容器用加熱部12に対する給電を同時に停止するシーケンスを採用すると共に、図8に示す手法を採用してもよい。図8では、原料ガス供給路42の開口部の下方と原料容器3の内周面との間にて、原料容器3の天井部から支持部材71を介して板状の原料回収用部材70が吊り下げて設けられ、その板面が原料容器3の中央部を向くように設定されている。原料回収用部材70は、各々内部にペルチェ素子が設けられ、一面側、他面側が夫々冷却面、加熱面として形成された板状ユニットを、加熱面同士が対向するように接合し、これにより原料回収用部材70の板面が冷却面となるように構成されている。
なお本発明では、第2の実施形態は、第1の実施の形態と併用するようにしてもよい。
3 原料容器
11 流路用加熱部
12 容器用加熱部
31 キャリアガス供給源
32、33 フィルタ部
41 キャリアガス供給路
42 原料ガス供給路
51 流路用温度検出部
52 容器用温度検出部
9 制御部
70 冷却部材
V1〜V5 バルブ
Claims (10)
- 固体原料を収容した原料容器に第1の供給路を介して不活性ガスであるキャリアガスを供給し、気化した原料を含む原料ガスを第2の供給路を介して原料の消費区域に供給する原料ガス供給装置において、
前記第2の供給路に設けられたバルブの中で前記原料容器に最も近い流出側バルブと当該原料容器との間を含む部位を固体原料の昇華温度以上の温度に加熱するための流路用加熱部と、
前記原料容器を固体原料の昇華温度以上の温度に加熱するための容器用加熱部と、
前記流路用加熱部及び容器用加熱部の加熱を停止するときに、原料容器内の温度が、前記第2の供給路において原料容器から前記流出側バルブに至るまでの温度よりも低い状態を維持しながら、前記第2の供給路及び原料容器が降温されるように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする原料ガス供給装置。 - 前記流路用加熱部及び容器用加熱部を一括してオフするために設けられ、その操作により制御部にオフ指令が送られるオフスイッチ部を備えていることを特徴とする請求項1記載の原料ガス供給装置。
- 前記第2の供給路において前記原料容器から前記流出側バルブに至るまでの間に、パーティクルを除去するためのフィルタ部が設けられていることを特徴とする請求項1または2記載の原料ガス供給装置。
- 前記流路用加熱部は、前記第1の供給路に設けられたバルブの中で前記原料容器に最も近い流入側バルブと当該原料容器との間を含む部位を固体原料の昇華温度以上の温度に加熱するように構成され、
前記流路用加熱部及び容器用加熱部の加熱を停止するときに、原料容器内の温度が、原料容器から前記流入側バルブに至るまでの温度よりも低い状態が維持されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の原料ガス供給装置。 - 前記制御部は、加熱部のオフ指令を受けた後、前記容器用加熱部への給電を停止し、その後、設定時間が経過した後、流路用加熱部への給電を停止するように制御信号を出力することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の原料ガス供給装置。
- 容器用加熱部の受け持ち範囲の温度を検出する温度検出部を備え、
前記制御部は、加熱部のオフ指令を受けた後、前記容器用加熱部への給電を停止し、前記温度検出部の温度検出値が設定温度以下になった後、流路用加熱部への給電を停止するように制御信号を出力することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の原料ガス供給装置。 - 前記制御部は、前記流路用加熱部及び容器用加熱部の各受持ち範囲の加熱を開始するときに、原料容器から前記流出用バルブに至るまでの温度が原料容器内の温度よりも高い状態が維持されるように制御信号を出力することを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の原料ガス供給装置。
- 固体原料を収容した原料容器に第1の供給路を介して不活性ガスであるキャリアガスを供給し、気化した原料を含む原料ガスを第2の供給路を介して原料の消費区域に供給する原料ガス供給装置において、
前記第2の供給路に設けられたバルブの中で前記原料容器に最も近い流出側バルブと当該原料容器との間を含む部位と、前記原料容器と、を固体原料の昇華温度以上の温度に加熱する加熱部と、
前記原料容器内に設けられ、前記容器用加熱部により加熱を停止したときに、その降温速度が前記原料容器内の気相の降温速度よりも早い原料回収用部材と、を備えたことを特徴とする原料ガス供給装置。 - 前記加熱部は、前記第2の供給路に設けられたバルブの中で前記原料容器に最も近い流出側バルブと当該原料容器との間を含む部位を固体原料の昇華温度以上の温度に加熱する流路用加熱部と、
前記原料容器を固体原料の昇華温度以上の温度に加熱する容器用加熱部と、を備えていることを特徴とする請求項8記載の原料ガス供給装置。 - 請求項1ないし9のいずれか一項に記載の原料ガス供給装置と、
内部に基板が載置される載置部を備え、気化した原料を含む原料ガスが前記第2の供給路を介して供給される処理容器と、
前記処理容器内の雰囲気を排気するための排気機構と、を備えたことを特徴とする成膜装置。
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