JP2016082228A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 一次レーザー光線を発生させるように構成されたレーザー媒体と、
   前記一次レーザー光線を受信するように構成された少なくとも１つの光学素子と、
   二次レーザー光線を発生させるように構成され、前記レーザー媒体とは異なる二次レーザー光源と、
   前記二次レーザー光線を受信し、前記二次レーザー光線を空間変調することによって、異なる強度を有する空間的強度パターンを有する空間変調二次レーザー光線を生成するように構成された空間光変調器と、を含むレーザーシステムであって、
   前記一次レーザー光線の波長とは異なる波長を有する前記空間変調二次レーザー光線が、前記レーザー媒体及び前記少なくとも１つの光学素子の少なくとも１つに入射するように、前記レーザーシステムは構成されており、前記空間変調二次レーザー光線が入射する、前記レーザー媒体及び前記少なくとも１つの光学素子の少なくとも１つは、前記一次レーザー光線の波長に反応して励起されず前記二次レーザー光線の波長に反応して励起される少なくとも１種類のドーパントを含むことにより、前記前記空間変調二次レーザー光線の入射が、前記レーザー媒体及び前記少なくとも１つの光学素子の前記少なくとも１つにおける部分を熱収縮又は熱膨張させることによって、前記一次レーザー光線の波面を制御可能に変化させるように構成されている、レーザーシステム。
2. 前記二次レーザー光線は、前記一次レーザー光線とは異なる波長を有する、請求項１に記載のレーザーシステム。
3. 前記少なくとも１種類のドーパントは、入射する前記二次レーザー光線のエネルギーを吸収し且つ異なる波長を有する光を放出するように、構成されている、請求項１に記載のレーザーシステム。
4. 前記一次レーザー光線の前記波面を測定するように構成された波面センサーと、
   前記波面センサーによって測定された前記一次レーザー光線の前記波面に基づいて、前記空間光変調器によって行われる前記二次レーザー光線の空間変調を制御するように構成された制御装置と、をさらに含む、請求項１に記載のレーザーシステム。
5. 前記波面センサーは、前記一次レーザー光線の前記波面を経時的に繰り返し測定するように構成されており、
   前記制御装置は、前記空間光変調器を制御することによって、前記二次レーザー光線の前記空間的強度パターンを修正して、経時的に前記波面センサーによって測定された前記一次レーザー光線の前記波面の変化に基づいて、前記二次レーザー光線が前記光学素子の容積内の熱エネルギーを制御可能に調節することによって、前記光学素子の熱膨張及び熱収縮を制御し、前記一次レーザー光線の前記波面における収差又は光路差を最小限にするように構成されている、請求項４に記載のレーザーシステム。
6. 前記一次レーザー光線の前記波面を測定するように構成された波面センサーと、
   測定された前記一次レーザー光線の前記波面に基づいて、前記二次レーザー光源の動作を制御するように構成された制御装置と、をさらに含む請求項１に記載のレーザーシステム。
7. 一次レーザー光線の波面を制御する方法であって、
   レーザー媒体によって一次レーザー光線を発生させることと、
   前記一次レーザー光線を少なくとも１つの光学素子に誘導することと、
   前記レーザー媒体とは異なる二次レーザー光源によって二次レーザー光線を発生させることと、
   前記二次レーザー光線を空間変調することによって、異なる強度を有する空間的強度パターンを有する空間変調二次レーザー光線を生成することと、
   前記一次レーザー光線の波長とは異なる波長を有する前記空間変調二次レーザー光線を、前記レーザー媒体及び前記少なくとも１つの光学素子の少なくとも１つに入射するように誘導することであって、前記空間変調二次レーザー光線が入射する、前記レーザー媒体及び前記少なくとも１つの光学素子の少なくとも１つは、前記一次レーザー光線の波長に反応して励起されず前記二次レーザー光線の波長に反応して励起される少なくとも１種類のドーパントを含むことにより、前記前記空間変調二次レーザー光線の前記入射が、前記レーザー媒体及び前記少なくとも１つの光学素子の少なくとも１つにおける部分を熱収縮又は熱膨張させ、前記一次レーザー光線の波面を制御可能に変化させることと、を含む、方法。
8. 前記二次レーザー光線を発生させることは、前記一次レーザー光線とは異なる波長を有する二次レーザー光線を発生させることを含む、請求項７に記載の方法。
9. 前記少なくとも１種類のドーパントは、入射する前記二次レーザー光線のエネルギーを吸収し且つ異なる波長を有する光を放出するように、構成されている、請求項７に記載の方法。
10. 前記一次レーザー光線の前記波面を測定することと、
    測定された前記一次レーザー光線の前記波面に基づいて前記二次レーザー光線の空間変調を制御することと、をさらに含む請求項７に記載の方法。
11. 前記一次レーザー光線の前記波面を経時的に繰り返し測定することと、
    前記二次レーザー光線の前記空間的強度パターンを修正することによって、経時的に測定された前記一次レーザー光線の前記波面の変化に基づいて、前記二次レーザー光線が前記光学素子の容積内の熱エネルギーを制御可能に調節することによって、前記光学素子の熱膨張及び熱収縮を制御し、前記一次レーザー光線の前記波面における収差又は光路差を最小限にすることと、をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
12. 前記一次レーザー光線の前記波面を測定することと、
    測定された前記一次レーザー光線の前記波面に基づいて前記二次レーザー光源の動作を制御することと、をさらに含む請求項７に記載の方法。
13. 一次レーザー光線を発生させるように構成されたレーザー媒体と、
    前記一次レーザー光線を受信するように構成された、ドープ光熱屈折(ＰＴＲ）ガラス
    光学素子と、
    前記一次レーザー光線とは異なる波長を有する二次レーザー光線を発生させるように構成され、前記レーザー媒体とは異なる二次レーザー光源と、を含み、
    前記二次レーザー光線が前記ドープＰＴＲガラス光学素子に入射することによって前記ドープＰＴＲガラス光学素子の温度を修正するように構成されており、前記レーザー媒体及び前記二次レーザー光線が入射する前記ドープＰＴＲガラス光学素子の少なくとも１つは、前記一次レーザー光線の波長に反応して励起されず前記二次レーザー光線の波長に反応して励起される少なくとも１種類のドーパントを含む、レーザーシステム。
14. 前記少なくとも１種類のドーパントは、入射する前記二次レーザー光線のエネルギーを吸収し且つ異なる波長を有する光を放出するように、構成されている、請求項１３に記載のレーザーシステム。
15. 前記ドーパントは、前記ドープＰＴＲガラス光学素子の全体にわたって均一である、請求項１３に記載のレーザーシステム。
16. 前記ドーパントは、ネオジム（Ｎｄ）、ツリウム（Ｔｈ）又はイッテルビウム（Ｙｂ）を含む、請求項１３に記載のレーザーシステム。
17. 前記レーザー媒体は、複数のレーザー光源を含み、前記ドープＰＴＲガラス光学素子は、前記複数のレーザー光源によって発生させられた前記一次レーザー光線を結合するように構成されている、請求項１３に記載のレーザーシステム。
18. 前記ドープＰＴＲガラス光学素子は、ＰＴＲ光学格子を含む、請求項１３に記載のレーザーシステム。
19. 前記ＰＴＲ光学格子は、前記一次レーザー光線の波長の光に対して、前記二次レーザー光線の波長の光を優先的に反射するように構成された反射コーティングを含む、請求項１３に記載のレーザーシステム。
20. 前記光学素子は、前記レーザー媒体とは異なる要素を備え、且つ、前記一次レーザー光線の波長に反応して励起されず前記二次レーザー光線の波長に反応して励起される前記ドーパントを含む、請求項１３に記載のレーザーシステム。