JP2016072351A - シリコン表面パッシベーション方法及び表面パッシベーション処理されたシリコン - Google Patents
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Abstract
Description
ここで、前記雰囲気中の保持の際の温度は200℃から400℃の範囲であってよい。
また、前記雰囲気中に保持する時間は10分以上であってよい。
また、前記雰囲気の圧力は8から12Torrの範囲であってよい。
また、前記オゾンを含有する雰囲気は酸素を含有する気体に光源から紫外線を照射することにより作製してよい。
また、前記紫外線は真空紫外線であってよい。
また、前記光源はキセノンエキシマランプであってよい。
また、前記光源と前記シリコンとの間に遮光を行う物体を配置してよい。
本発明のほかの側面によれば、上記何れかの方法により表面パッシベーション処理されたシリコンが与えられる。
本発明の更に他の側面によれば、上記表面パッシベーション処理されたシリコンを使用した太陽電池が与えられる。
2 石英製ガラス窓
3 遮蔽板
4 試料
5 ヒーター
6 真空チャンバ
Claims (10)
- シリコン表面をオゾンを含有する雰囲気中に保持することによる、シリコン表面パッシベーション方法。
- 前記雰囲気中の保持の際の温度は200℃から400℃の範囲である、請求項1に記載のシリコン表面パッシベーション方法。
- 前記雰囲気中に保持する時間は10分以上である、請求項1または2に記載のシリコン表面パッシベーション方法。
- 前記雰囲気の圧力は8から12Torrの範囲である、請求項1から3の何れかに記載のシリコン表面パッシベーション方法。
- 前記オゾンを含有する雰囲気は酸素を含有する気体に光源から紫外線を照射することにより作製する、請求項1から4の何れかに記載のシリコン表面パッシベーション方法。
- 前記紫外線は真空紫外線である、請求項5に記載のシリコン表面パッシベーション方法。
- 前記光源はキセノンエキシマランプである、請求項6に記載のシリコン表面パッシベーション方法。
- 前記光源と前記シリコンとの間に遮光を行う物体を配置する、請求項5から7の何れかに記載のシリコン表面パッシベーション方法。
- 請求項1から8の何れかの方法により表面パッシベーション処理されたシリコン。
- 請求項9の表面パッシベーション処理されたシリコンを使用した太陽電池。
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