JP2016057577A - フォトマスクブランク - Google Patents
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Abstract
Description
請求項1:
石英基板と、該石英基板上に形成された、窒素、酸素、炭素及び水素から選ばれる少なくとも一つを含有するクロム系材料膜とを有するフォトマスクブランクであって、
前記クロム系材料膜がハードマスク膜であり、
前記クロム系材料膜の塩素系のドライエッチングによる単位膜厚当りのエッチングレートAと、クロムのみからなる膜の前記塩素系のドライエッチングによる単位膜厚当りのエッチングレートBとの比率(A/B)が0.7以上0.9以下であり、かつ前記クロム系材料膜が、152mm角、厚さ6.35mmの石英基板上に成膜して、150℃以上で10分間以上熱処理したときの前記クロム系材料膜の反り量が70nm以下となる引張応力又は圧縮応力を有することを特徴とするフォトマスクブランク。
請求項2:
前記反り量が50nm以下であることを特徴とする請求項1記載のフォトマスクブランク。
請求項3:
前記比率(A/B)が0.75以上0.85以下であることを特徴とする請求項1又は2記載のフォトマスクブランク。
請求項4:
前記クロム系材料膜の膜厚が4nm以上50nm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のフォトマスクブランク。
請求項5:
前記熱処理の温度が300℃以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のフォトマスクブランク。
請求項6:
前記クロム系材料膜が、CrCNO膜であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載のフォトマスクブランク。
請求項7:
前記クロム系材料膜が単層膜であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項記載のフォトマスクブランク。
本発明のフォトマスクブランクは、石英基板と、石英基板上に形成されたハードマスク膜とを有し、このハードマスク膜は、窒素、酸素、炭素及び水素から選ばれる少なくとも一つを含有するクロム系材料膜である。そして、このクロム系材料膜は、
(i)クロム系材料膜の塩素系のドライエッチングによる単位膜厚当りのエッチングレートAと、クロムのみからなる膜の前記塩素系のドライエッチングによる単位膜厚当りのエッチングレートBとの比率(A/B)が0.7以上0.9以下、好ましくは0.75以上0.85以下であり、かつ
(ii)クロム系材料膜が、152mm角、厚さ6.35mmの石英基板上に成膜して、150℃以上、好ましくは150℃以上300℃以下で、10分間以上熱処理したときのクロム系材料膜の反り量が70nm以下、好ましくは50nm以下となる引張応力又は圧縮応力を有する
という特徴を備える。
DCスパッタ装置を用いて、CrCNOからなるクロム系材料膜(厚さ41nm)を成膜した。スパッタガスとしては、アルゴンガスと窒素ガスと二酸化炭素ガスを、流量比でAr:N2:CO2=5:1:2.75(モル比)として用い、チャンバー内のガス圧が0.08Paになるように調整した。ターゲットとしては、Crを用い、基板を30rpmで回転させながら成膜した。
RF1(RIE) パルス:700V
RF2(ICP) CW:400W
圧力:6mTorr
Cl2:185sccm
O2:55sccm
He:9.25sccm
表1に、クロム系材料膜のエッチングレートAと、純クロム膜のエッチングレートBとの比(A/B)を示す。
DCスパッタ装置を用いて、CrCNOからなるクロム系材料膜(厚さ39nm)を成膜した。スパッタガスとしては、アルゴンガスと窒素ガスと二酸化炭素ガスを、流量比でAr:N2:CO2=5:1:2(モル比)として用い、チャンバー内のガス圧が0.08Paになるように調整した。ターゲットとしては、Crを用い、基板を30rpmで回転させながら成膜した。得られたクロム系材料膜について、実施例1と同様にして、単位膜厚当りのエッチングレート比(A/B)と、反り量を求めた。結果を表1に示す。
DCスパッタ装置を用いて、CrONからなるクロム系材料膜(厚さ44nm)を成膜した。スパッタガスとしては、アルゴンガスと窒素ガスと酸素ガスを、流量比でAr:N2:O2=2.5:7.5:4(モル比)として用い、チャンバー内のガス圧が0.13Paになるように調整した。ターゲットとしては、Crを用い、基板を30rpmで回転させながら成膜した。得られたクロム系材料膜について、実施例1と同様にして、単位膜厚当りのエッチングレート比(A/B)と、反り量を求めた。結果を表1に示す。
DCスパッタ装置を用いて、CrNからなるクロム系材料膜(厚さ40nm)を成膜した。スパッタガスとしては、アルゴンガスと窒素ガスを、流量比でAr:N2=5:1(モル比)として用い、チャンバー内のガス圧が0.07Paになるように調整した。ターゲットとしては、Crを用い、基板を30rpmで回転させながら成膜した。得られたクロム系材料膜について、実施例1と同様にして、単位膜厚当りのエッチングレート比(A/B)と、反り量を求めた。結果を表1に示す。
Claims (7)
- 石英基板と、該石英基板上に形成された、窒素、酸素、炭素及び水素から選ばれる少なくとも一つを含有するクロム系材料膜とを有するフォトマスクブランクであって、
前記クロム系材料膜がハードマスク膜であり、
前記クロム系材料膜の塩素系のドライエッチングによる単位膜厚当りのエッチングレートAと、クロムのみからなる膜の前記塩素系のドライエッチングによる単位膜厚当りのエッチングレートBとの比率(A/B)が0.7以上0.9以下であり、かつ前記クロム系材料膜が、152mm角、厚さ6.35mmの石英基板上に成膜して、150℃以上で10分間以上熱処理したときの前記クロム系材料膜の反り量が70nm以下となる引張応力又は圧縮応力を有することを特徴とするフォトマスクブランク。 - 前記反り量が50nm以下であることを特徴とする請求項1記載のフォトマスクブランク。
- 前記比率(A/B)が0.75以上0.85以下であることを特徴とする請求項1又は2記載のフォトマスクブランク。
- 前記クロム系材料膜の膜厚が4nm以上50nm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のフォトマスクブランク。
- 前記熱処理の温度が300℃以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のフォトマスクブランク。
- 前記クロム系材料膜が、CrCNO膜であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載のフォトマスクブランク。
- 前記クロム系材料膜が単層膜であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項記載のフォトマスクブランク。
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