JP2016055319A - 光照射装置および光照射方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光照射装置1Aは、光源10、分散素子20、空間光変調器30および集光素子50を備える。分散素子20は、光源10から出力されたパルス光を分散して、出力する。分散素子20は例えばプリズム21,22を含む。空間光変調器30は、分散素子20から出力された光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調して、出力する。集光素子50は、空間光変調器30から出力された光を、分散された状態で受け、対象物9の表面または内部の共通の領域(集光領域)に集光する。
【選択図】図1
Description
図1は、第1実施形態の光照射装置1Aの構成を示す図である。第1実施形態の光照射装置1Aは、光源10、分散素子20、空間光変調器30、制御部40および集光素子50を備え、対象物9に光を集光照射するものである。
f(λ) ={n(λ)−1}(1/r1−1/r2)
図5は、第2実施形態の光照射装置1Bの構成を示す図である。第2実施形態の光照射装置1Bは、特に対象物9の加工に好適なものである。第2実施形態の光照射装置1Bは、第1実施形態の光照射装置1Aの構成に加えて、光走査装置60およびステージ90を備える。
図6は、第3実施形態の光照射装置1Cの構成を示す図である。第3実施形態の光照射装置1Cは、特に対象物9の顕微鏡観察に好適なものである。第3実施形態の光照射装置1Cは、第2実施形態の光照射装置1Bの構成に加えて、ビームスプリッタ61、レンズ62、レンズ63および検出部64を備える。
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
Claims (8)
- パルス光を出力する光源と、
前記パルス光を分散する分散素子と、
当該分散された光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調する空間光変調器と、
前記空間光変調器によって変調された光を分散された状態で受け集光領域に集光する集光素子と、
を備える光照射装置。 - 前記空間光変調器が、光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調することにより、前記集光素子の集光特性の波長依存性を補償する、
請求項1に記載の光照射装置。 - 前記空間光変調器が、前記集光素子の集光特性の波長依存性として収差、波長分散、吸収または反射の波長依存性を補償する、
請求項2に記載の光照射装置。 - 前記空間光変調器は、前記パルス光の時間波形と前記集光領域における光の時間波形とに基づいて算出された変調パターンに応じて、光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調する、
請求項1〜3の何れか1項に記載の光照射装置。 - 分散素子により、パルス光を分散し、
空間光変調器により、当該分散された光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調して出力し、
集光素子により、前記空間光変調器によって変調された光を分散された状態で受け集光領域に集光する、
光照射方法。 - 前記空間光変調器により、光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調することにより、前記集光素子の集光特性の波長依存性を補償する、
請求項5に記載の光照射方法。 - 前記空間光変調器により、前記集光素子の集光特性の波長依存性として収差、波長分散、吸収または反射の波長依存性を補償する、
請求項6に記載の光照射方法。 - 前記空間光変調器により、前記パルス光の時間波形と前記集光領域における光の時間波形とに基づいて算出された変調パターンに応じて、光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調する、
請求項5〜7の何れか1項に記載の光照射方法。
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