JP6940564B2 - 光照射装置および光照射方法 - Google Patents
光照射装置および光照射方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6940564B2 JP6940564B2 JP2019155946A JP2019155946A JP6940564B2 JP 6940564 B2 JP6940564 B2 JP 6940564B2 JP 2019155946 A JP2019155946 A JP 2019155946A JP 2019155946 A JP2019155946 A JP 2019155946A JP 6940564 B2 JP6940564 B2 JP 6940564B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- wavelength
- spatial
- condensing
- modulator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 48
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 41
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 15
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 68
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 11
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- QCDFBFJGMNKBDO-UHFFFAOYSA-N Clioquinol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=C(I)C=C(Cl)C2=C1 QCDFBFJGMNKBDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000013144 data compression Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000001634 microspectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
図1は、第1実施形態の光照射装置1Aの構成を示す図である。第1実施形態の光照射装置1Aは、光源10、分散素子20、空間光変調器30、制御部40および集光素子50を備え、対象物9に光を集光照射するものである。
f(λ) ={n(λ)−1}(1/r1−1/r2)
図5は、第2実施形態の光照射装置1Bの構成を示す図である。第2実施形態の光照射装置1Bは、特に対象物9の加工に好適なものである。第2実施形態の光照射装置1Bは、第1実施形態の光照射装置1Aの構成に加えて、光走査装置60およびステージ90を備える。
図6は、第3実施形態の光照射装置1Cの構成を示す図である。第3実施形態の光照射装置1Cは、特に対象物9の顕微鏡観察に好適なものである。第3実施形態の光照射装置1Cは、第2実施形態の光照射装置1Bの構成に加えて、ビームスプリッタ61、レンズ62、レンズ63および検出部64を備える。
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
Claims (8)
- パルス光を出力する光源と、
前記パルス光を分散する分散素子と、
前記光源から出力されたパルス光の時間波形と所望の時間波形とに基づいて算出された変調パターンに応じて、当該分散された光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調する空間光変調器と、
前記空間光変調器によって変調された光を分散された状態で受け、その光を対象物の表面または内部の一つの集光領域に集光して、前記集光領域において、前記空間光変調器による変調に応じて調整された時間波形のパルス光とする集光素子と、
を備える光照射装置。 - 前記空間光変調器が、光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調することにより、前記集光素子の集光特性の波長依存性を補償する、
請求項1に記載の光照射装置。 - 前記空間光変調器が、前記集光素子の集光特性の波長依存性として収差、波長分散、吸収または反射の波長依存性を補償する、
請求項2に記載の光照射装置。 - 前記集光素子が屈折率の波長依存性による色収差を有するレンズであり、
前記空間光変調器が前記レンズの色収差を考慮して光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調する、
請求項3に記載の光照射装置。 - 分散素子により、光源から出力されたパルス光を分散し、
空間光変調器により、前記光源から出力されたパルス光の時間波形と所望の時間波形とに基づいて算出された変調パターンに応じて、当該分散された光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調して出力し、
集光素子により、前記空間光変調器によって変調された光を分散された状態で受け、その光を対象物の表面または内部の一つの集光領域に集光して、前記集光領域において、前記空間光変調器による変調に応じて調整された時間波形のパルス光とする、
光照射方法。 - 前記空間光変調器により、光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調することにより、前記集光素子の集光特性の波長依存性を補償する、
請求項5に記載の光照射方法。 - 前記空間光変調器により、前記集光素子の集光特性の波長依存性として収差、波長分散、吸収または反射の波長依存性を補償する、
請求項6に記載の光照射方法。 - 前記集光素子が屈折率の波長依存性による色収差を有するレンズであり、
前記空間光変調器により前記レンズの色収差を考慮して光の位相スペクトルまたは強度スペクトルを変調する、
請求項7に記載の光照射方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019155946A JP6940564B2 (ja) | 2014-09-10 | 2019-08-28 | 光照射装置および光照射方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014184020A JP2016055319A (ja) | 2014-09-10 | 2014-09-10 | 光照射装置および光照射方法 |
JP2019155946A JP6940564B2 (ja) | 2014-09-10 | 2019-08-28 | 光照射装置および光照射方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014184020A Division JP2016055319A (ja) | 2014-09-10 | 2014-09-10 | 光照射装置および光照射方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019207439A JP2019207439A (ja) | 2019-12-05 |
JP6940564B2 true JP6940564B2 (ja) | 2021-09-29 |
Family
ID=68767808
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019155946A Active JP6940564B2 (ja) | 2014-09-10 | 2019-08-28 | 光照射装置および光照射方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6940564B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6781691B2 (en) * | 2001-02-02 | 2004-08-24 | Tidal Photonics, Inc. | Apparatus and methods relating to wavelength conditioning of illumination |
JP2002273583A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-25 | Inst Of Physical & Chemical Res | 透明媒質加工装置 |
JP2007526521A (ja) * | 2004-03-02 | 2007-09-13 | ボード オブ トラスティーズ オペレーティング ミシガン ステート ユニヴァーシティ | 超短レーザーパルスを使用するレーザー装置 |
JP4436162B2 (ja) * | 2004-03-16 | 2010-03-24 | 株式会社リコー | レーザ加工装置 |
JP4716663B2 (ja) * | 2004-03-19 | 2011-07-06 | 株式会社リコー | レーザ加工装置、レーザ加工方法、及び該加工装置又は加工方法により作製された構造体 |
JP5692969B2 (ja) * | 2008-09-01 | 2015-04-01 | 浜松ホトニクス株式会社 | 収差補正方法、この収差補正方法を用いたレーザ加工方法、この収差補正方法を用いたレーザ照射方法、収差補正装置、及び、収差補正プログラム |
JP5802110B2 (ja) * | 2011-10-26 | 2015-10-28 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置 |
JP5575200B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-08-20 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ加工装置及びその製造方法 |
-
2019
- 2019-08-28 JP JP2019155946A patent/JP6940564B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019207439A (ja) | 2019-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106461925B (zh) | 用于具有自适应光学系统的拉曼散射光学显微镜的系统和方法 | |
CN106687852B (zh) | 光照射装置和光照射方法 | |
US9575302B2 (en) | Stimulated emission depletion microscopy | |
US9500846B2 (en) | Rapid adaptive optical microscopy over large multicellular volumes | |
JP6195830B2 (ja) | 適応光学系を有する顕微鏡検査法 | |
US11609414B2 (en) | Method for calibrating a phase mask and microscope | |
TWI525345B (zh) | Optical system for laser light shaping and wave surface control | |
WO2014163114A1 (ja) | 結像光学系、照明装置および観察装置 | |
JP6850684B2 (ja) | 光計測装置 | |
US12055491B2 (en) | Focus scan type imaging device for imaging target object in sample that induces aberration | |
US11042017B2 (en) | Point-spread-function measurement device and measurement method, image acquisition apparatus, and image acquisition method | |
CN111250873B (zh) | 一种基于gb-sted的深层超分辨激光直写系统及其实现方法 | |
JP2022518161A (ja) | 2色共焦点共局在化顕微鏡法 | |
CN110824684B (zh) | 一种高速立体三维多模态成像系统和方法 | |
JP2005062155A (ja) | コヒーレントラマン散乱顕微鏡 | |
JP6940564B2 (ja) | 光照射装置および光照射方法 | |
WO2023074029A1 (ja) | 光照射装置、顕微鏡装置、光照射方法、及び画像取得方法 | |
CN116841030A (zh) | 用于显微镜的照明总成、显微镜和用于照明显微镜中的样本空间的方法 | |
Kenny et al. | Adaptive optimisation of a generalised phase contrast beam shaping system | |
KR102105814B1 (ko) | 레이저 공간 변조 초고분해능 광학 현미경 | |
WO2017178538A1 (en) | Method and arrangement for identifying optical aberrations | |
JP5191673B2 (ja) | 光源装置、観察装置および加工装置 | |
US20230168487A1 (en) | Multi-ring mask, light irradiation device, optical microscope, and photoacoustic microscope | |
WO2023074326A1 (ja) | 顕微鏡装置及び画像取得方法 | |
Touil et al. | Acousto-optically driven single-shot ultrafast optical imaging |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190902 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200811 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200924 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210329 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210831 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210902 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6940564 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |