JP2016051897A - レーザ装置およびレーザ加工機 - Google Patents
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Abstract
Description
前記種光源から出力された光を光学的に増幅する前置光増幅器と、
前記前置光増幅器から出力された光を光学的に増幅し、熱レンズ効果のある増幅媒質を含む後置光増幅器と、
前記前置光増幅器から出力された光の平均パワーを測定するパワーモニタ部と、
前記種光源を駆動する種光源ドライバと、
前記前置光増幅器を駆動する前置光増幅器ドライバと、
前記種光源ドライバおよび前記前置光増幅器ドライバを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記種光源ドライバを介して、連続光または複数のパルスが選択的に出力されるように前記種光源を制御し、
前記制御部は、前記パワーモニタ部の測定結果に基づいて、前記前置光増幅器ドライバを介して、前記前置光増幅器から出力された光の平均パワーが一定になるように前記前置光増幅器の利得を制御することを特徴とする。
前記種光源から出力された光を光学的に増幅する前置光増幅器と、
前記前置光増幅器から出力された光を光学的に増幅し、熱レンズ効果のある増幅媒質を含む後置光増幅器と、
前記前置光増幅器から出力された光の平均パワーを測定するパワーモニタ部と、
前記種光源を駆動する種光源ドライバと、
前記後置光増幅器を駆動する後置光増幅器ドライバと、
前記種光源ドライバおよび前記後置光増幅器ドライバを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記種光源ドライバを介して、連続光または複数のパルスが選択的に出力されるように前記種光源を制御し、
前記制御部は、前記パワーモニタ部の測定結果に基づいて、前記後置光増幅器ドライバを介して、前記後置光増幅器後のビームの伝搬状態が一定になるように前記後置光増幅器の利得を制御することを特徴とする。
前記種光源から出力された光を光学的に増幅する前置光増幅器と、
前記前置光増幅器から出力された光を光学的に増幅し、熱レンズ効果のある増幅媒質を含む後置光増幅器と、
前記後置光増幅器から出力された光のビームのビーム径を測定するビームモニタ部と、
前記種光源を駆動する種光源ドライバと、
前記後置光増幅器を駆動する後置光増幅器ドライバと、
前記種光源ドライバおよび前記後置光増幅器ドライバを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記種光源ドライバを介して、連続光または複数のパルスが選択的に出力されるように前記種光源を制御し、
前記制御部は、前記ビームモニタ部によって計算されるビーム径が変化しないように、前記前置光増幅器ドライバを介して前記前置光増幅器の利得を制御し、あるいは前記後置光増幅器ドライバを介して前記後置光増幅器の利得を制御することを特徴とする。
図1は、本発明の実施の形態1によるレーザ装置を示す構成図である。レーザ装置100は、種光源1と、前置光増幅器110と、後置光増幅器120と、波長変換器130と、制御部2と、種光源ドライバ3と、前置光増幅器ドライバ4と、後置光増幅器ドライバ9と、パワーモニタ部PMなどを備える。なお特に明示していないが、レーザ装置100は、光信号が通る経路上に、戻り光を抑制するための光アイソレータ、光信号を伝送するためのレンズ、ミラー等の伝送光学系などをさらに含んでもよい。
図10は、本発明の実施の形態2によるレーザ装置を示す構成図である。レーザ装置100は、種光源1と、前置光増幅器110と、後置光増幅器120と、波長変換器130と、制御部2と、種光源ドライバ3と、前置光増幅器ドライバ4と、後置光増幅器ドライバ9と、パワーモニタ部PMなどを備える。個々の構成要素については、実施の形態1のものと同様な構成であり、重複説明を省略する。
本実施形態では、図1の構成において前置光増幅器110の利得を制御する手法として、前置光増幅器110の励起光パワーを実質的に変化させずに、前置光増幅器110の励起光波長を変化させている。励起光波長を変化させると、前置光増幅器110中の光ファイバ型増幅媒質113の励起光吸収率が変化し、前置光増幅器110の利得が変化する。これにより実施の形態1と同様に、前置光増幅器110後の平均パワーを制御することが可能になる。
本実施形態では、図10の構成において後置光増幅器120の利得を制御する手法として、後置光増幅器120の励起光パワーを実質的に変化させずに、後置光増幅器120の励起光波長を変化させている。励起光波長を変化させると、後置光増幅器120中の増幅媒質122の励起光吸収率が変化し、後置光増幅器120の利得が変化する。これにより実施の形態2と同様に、後置光増幅器120の熱レンズの強さが変化しないように制御することが可能になる。
図12は、本発明の実施の形態5によるレーザ装置を示す構成図である。レーザ装置100は、種光源1と、前置光増幅器110と、後置光増幅器120と、波長変換器130と、制御部2と、種光源ドライバ3と、前置光増幅器ドライバ4と、後置光増幅器ドライバ9と、後置増幅器後のビームのプロファイルを監視するビームモニタ部BMと、切り出し手段10により切り出されたビームのプロファイルを監視するビームモニタ11などを備える。個々の構成要素については、実施の形態1のものと同様な構成であり、重複説明を省略する。
図13は、本発明の実施の形態6によるレーザ加工機を示す構成図である。レーザ加工機200は、レーザ装置100と、ビーム調整光学系201と、導光ミラー202と、集光レンズ203と、ステージ台204などを備える。レーザ装置100は、本発明の実施の形態1〜5のいずれかに記載の方法で構成されている。レーザ装置100から出射したレーザビーム205は、ビーム調整光学系201により、所望のビーム径およびプロファイルに調整および整形され、導光ミラー202によって導光された後、集光レンズ203によって、被加工物206に集光される。ステージ台204は、ステージ走査方向207の方向に動き、レーザビームに対する被加工物206の位置を走査することにより、所望の位置に微細な加工穴208を形成する。加工穴208の種類としては、例えば、止まり穴または貫通穴などがある。加工穴208は、それぞれ違う大きさであってもよい。なお、本実施形態では、ステージ台204をステージ走査方向207に走査させる構成としているが、その場合に限らず、被加工物206とレーザビーム205との間の相対的な走査が行えればよいため、ステージ台204を固定し、ガルバノミラー、ポリゴンミラー等によりレーザビーム205を走査しても同様の効果が得られる。この場合、集光レンズ203としてFθレンズを用いて、照射するのがよい。被加工物206は、たとえばフレキシブル基板、多層基板などである。これらの基板は、樹脂および銅箔から構成されているため、レーザビーム205の波長は、樹脂と銅箔の両方に吸収をもつ紫外領域であることが特に好ましい。
5 出力切り出し手段、 6,8 光、 7 パワーモニタ回路、
9 後置光増幅器ドライバ、 10 ビーム切り出し手段、 11 ビームモニタ、
100 レーザ装置、 110 前置光増幅器、
120 後置光増幅器、 130 波長変換器、
111 半導体レーザ、 112 結合器、113 光ファイバ型増幅媒質、
121a,121b ダイクロイックミラー、 122 増幅媒質、
123a,123b 励起光源、 124a〜124d 伝送光学系、
130 波長変換器、 131,133 レンズ、 132,133 波長変換素子、
135 波長選択素子、 201 ビーム調整光学系、 202 導光ミラー、
203 集光レンズ、 204 ステージ台、 205 レーザビーム、
206 被加工物、 207 ステージ走査方向、 208 加工穴、
lambda1〜lambda3 ビーム、
B1,B2 ビーム伝搬、 BM ビームモニタ部、 PM パワーモニタ部。
Claims (11)
- 光を出力する種光源と、
前記種光源から出力された光を光学的に増幅する前置光増幅器と、
前記前置光増幅器から出力された光を光学的に増幅し、熱レンズ効果のある増幅媒質を含む後置光増幅器と、
前記前置光増幅器から出力された光の平均パワーを測定するパワーモニタ部と、
前記種光源を駆動する種光源ドライバと、
前記前置光増幅器を駆動する前置光増幅器ドライバと、
前記種光源ドライバおよび前記前置光増幅器ドライバを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記種光源ドライバを介して、連続光または複数のパルスが選択的に出力されるように前記種光源を制御し、
前記制御部は、前記パワーモニタ部の測定結果に基づいて、前記前置光増幅器ドライバを介して、前記前置光増幅器から出力された光の平均パワーが一定になるように前記前置光増幅器の利得を制御することを特徴とするレーザ装置。 - 光を出力する種光源と、
前記種光源から出力された光を光学的に増幅する前置光増幅器と、
前記前置光増幅器から出力された光を光学的に増幅し、熱レンズ効果のある増幅媒質を含む後置光増幅器と、
前記前置光増幅器から出力された光の平均パワーを測定するパワーモニタ部と、
前記種光源を駆動する種光源ドライバと、
前記後置光増幅器を駆動する後置光増幅器ドライバと、
前記種光源ドライバおよび前記後置光増幅器ドライバを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記種光源ドライバを介して、連続光または複数のパルスが選択的に出力されるように前記種光源を制御し、
前記制御部は、前記パワーモニタ部の測定結果に基づいて、前記後置光増幅器ドライバを介して、前記後置光増幅器後のビームの伝搬状態が一定になるように前記後置光増幅器の利得を制御することを特徴とするレーザ装置。 - 光を出力する種光源と、
前記種光源から出力された光を光学的に増幅する前置光増幅器と、
前記前置光増幅器から出力された光を光学的に増幅し、熱レンズ効果のある増幅媒質を含む後置光増幅器と、
前記後置光増幅器から出力された光のビームのビーム径を測定するビームモニタ部と、
前記種光源を駆動する種光源ドライバと、
前記後置光増幅器を駆動する後置光増幅器ドライバと、
前記種光源ドライバおよび前記後置光増幅器ドライバを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記種光源ドライバを介して、連続光または複数のパルスが選択的に出力されるように前記種光源を制御し、
前記制御部は、前記ビームモニタ部によって計算されるビーム径が変化しないように、前記前置光増幅器ドライバを介して前記前置光増幅器の利得を制御し、あるいは前記後置光増幅器ドライバを介して前記後置光増幅器の利得を制御することを特徴とするレーザ装置。 - 前記種光源は、半導体レーザであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザ装置。
- 前記前置光増幅器は、光ファイバ型増幅媒質と、該光ファイバ型増幅媒質に励起光を供給する励起光源とを含み、
前記制御部は、前記前置光増幅器の励起光パワーおよび励起光波長の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項1または3記載のレーザ装置。 - 前記後置光増幅器は、熱レンズ効果のある柱状増幅媒質と、該柱状増幅媒質に励起光を供給する励起光源とを含むことを特徴とする請求項1または3記載のレーザ装置。
- 前記後置光増幅器は、熱レンズ効果のある柱状増幅媒質と、該柱状増幅媒質に励起光を供給する励起光源とを含み、
前記制御部は、前記後置光増幅器の励起光パワーおよび励起光波長の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項2または3記載のレーザ装置。 - 前記前置光増幅器は、光ファイバ型増幅媒質と、該光ファイバ型増幅媒質に励起光を供給する励起光源とを含むことを特徴とする請求項2または3記載のレーザ装置。
- 前記後置光増幅器の後に、波長変換器を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザ装置。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のレーザ装置と、
前記レーザ装置から出力されたレーザビームを集光する集光光学系と、
集光されたレーザビームおよび被加工物を相対的に走査する走査機構とを備えることを特徴とするレーザ加工機。 - 前記レーザビームの波長が紫外領域であることを特徴とする請求項10記載のレーザ加工機。
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