TWI727869B - 光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法 - Google Patents

Abstract

光學顯微鏡之雷射加工之能量與光斑大小動態調整方法，係應用於一雷射加工機，該雷射加工機包含：一控制台、一計算模組、一雷射產生器、一光束調節單元、一掃描振鏡、一光感測器、一視覺模組、一平場聚焦透鏡、一分光鏡、及一物鏡，該雷射產生器產生一雷射光束，其通過該光束調節單元後形成一雷射加工光束，其通過該掃描振鏡及該平場聚焦透鏡後，再通過該分光鏡及該物鏡聚焦在一平面上，該分光鏡將該雷射加工光束的一部分導引至該視覺模組及光感測器再配合該計算模組，可辨識/測量並記錄能量及光斑大小，據以作為加工時的動態調整基準。

Description

光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法

一種雷射加工之調整方法，尤指一種光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法。

目前雷射加工如雷射刻印、雷射表面處理及雷射切割等已是十分的普及；雷射加工可以用在許多的材料，包括其他加工方法所不能加工的材料和物件，如金剛石模具、及化纖工業噴頭等。其中雷射光束經光學透鏡聚焦可在被照射材料表面上形成極小光斑，可以做到非常精細的加工；另外，雷射光束的能量、能量、移動速度、及光斑大小(spot size)等都可以和光學設備、計算機、數控機床、與自動檢測等技術/設備相結合，能實現自動化加工。

雷射光束在一物件上掃描移動通常是經由一掃描振鏡(scanner)來達成，該掃描振鏡(scanner)一般具有兩個反射鏡面來控制一入射的雷射光束經該兩個反射鏡面反射後所射出的方向，因此經由控制該兩個反射鏡面其個別的反射角度，該掃描振鏡便可引導該入射的雷射光束在一二維工作平面上進行掃描。

但是上述雷射加工仍有一些缺點需要解決：

一、使用掃描振鏡(scanner)時，在不同角度加工會有不同能量的問題；這是因為掃描振鏡(scanner)在改變加工角度時，隨著雷射通過的透鏡位置與透鏡厚度的不同，在加工端所收到的能量也會不一樣。

二、連續加工中雷射輸出能量不穩定的問題；這是因為在連續加工過程中，雷射的輸出能量難免浮動。

三、使用掃描振鏡(scanner)時，在不同角度會有不同的光斑大小(spot size)的問題；這是因為掃描振鏡(scanner)在改變加工角度時，光斑大小(spot size)在加工端難免產生形變，從而改變了加工面積。

四、連續加工中因外在因素而改變光斑大小(spot size)的問題；這是因為在連續加工的過程中，光斑大小(spot size)可能會隨著被加工樣品的表面狀態的不同而有所改變。

綜上所述，現有的雷射加工必須進一步改良。

有鑑於現有的雷射加工仍存有上述的問題，本發明提供一種光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法，係應用於一雷射加工機，該雷射加工機包含：一控制台、一計算模組、一雷射產生器、一光束調節單元其進一步具有一光衰減器係用於衰減通過該光束調節單元的該雷射光束、一掃描振鏡、一光感測器、及一分光鏡，其中該雷射產生器產生一雷射光束，該雷射光束通過該光束調節單元後形成一雷射加工光束，該雷射加工光束通過該掃描振鏡後，再通過該分光鏡聚焦在一平面上，該雷射加工光束可經該控制台及該計算模組控制該掃描振鏡對該平面進行掃描，該分光鏡可將該雷射加工光束的一部分導引至該光感測器，以測量該雷射加工光束的能量，該光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法包含下列步驟：「開機/暖機步驟」s1：用於開機及暖機該雷射加工機；「初始狀態測量步驟」s2：經由該光感測器測量及該計算模組記錄該雷射加工光束通過多個測試位置的該雷射加工光束的能量； 「計算掃描振鏡角度與能量關係曲線步驟」s3：根據步驟s2所測量到的該雷射加工光束的能量並對應於該掃描振鏡的兩個反射角度，該計算模組計算一公式的至少一個權重，並以該公式定義該掃描振鏡的該兩個反射角度與該雷射加工光束的能量的一能量關係曲線；「不同位置的能量基準值存入資料庫步驟」s4：將步驟s3中所計算的至少一個權重與對應的該雷射加工光束的能量及對應於該掃描振鏡的該兩個反射角度數據存入該能量關係曲線資料庫中。

該能量動態調整方法進一步包含下列步驟：「放料步驟」s5：將一樣本適當的放置於該平面上；「加工流程步驟」s6：準備開始加工該樣本；「讀取資料庫能量基準值步驟」s7：該計算模組讀取該能量關係曲線資料庫；「不同位置加工步驟」s8：該計算模組以一欲加工位置，找出該能量關係曲線資料庫中該欲加工位置對應的一雷射加工光束的能量，並以該雷射加工光束的能量為該欲加工位置的該雷射加工光束的一能量基準值，再對應於該欲加工位置的一欲加工的能量，根據該能量基準值調整該雷射產生器的一輸出能量或該光衰減器的一衰減值，然後發出一組控制指令以控制該控制台，然後經由該控制台控制該雷射產生器的該輸出能量或該光衰減器的該衰減值，來調整該雷射加工光束的能量，並以調整後的該雷射加工光束對該所欲加工位置進行加工；「及時測量加工能量步驟」s9：該光感測器及時測量該雷射加工光束的能量，並將測量到的該加工能量訊號及時傳送給該計算模組以得到該雷射加工光束的能量； 「測量值與基準值比較步驟」s10：該計算模組比較並確認及時測量的該雷射加工光束的能量與該能量關係曲線資料庫的該能量基準值的相對差異百分比是否大於一第一閾值，若是的話，進入下一步驟，否則進入再下一步驟；「及時能量調整步驟」s11：以該能量關係曲線資料庫的該能量基準值為準，對該雷射加工光束進行及時的能量調整；「完成加工步驟」s12：完成本筆加工；「是否有下一筆加工步驟」s13：該計算模組會檢查是否有下一筆需要加工的資料，若有的話，回到該進入步驟s6，否則到下一步驟；「取料步驟」s14，該樣本被取出。

其中，該雷射加工光束通過的該多個測試位置係為位於該掃描振鏡的一掃描範圍內的17個測試位置，該17個測試位置包含有一中心點、8個內圈點、與8個外圈點。

其中，該掃描振鏡的該兩個反射角度包含該掃描振鏡所具有的一第一掃描反射鏡及一第二掃描反射鏡，其各自具有可被該控制台及該計算模組所控制的一第一反射角度及一第二反射角度。

其中，該公式的該至少一個權重指的是下列公式及其中的權重：ES=E * a * cosθ_X * b * cosθ_Y

其中，a與b為權重，θ_X為該中心點與該外圈8點或該內圈8點的每一點所分別對應的該第一反射角度之間的差，θ_Y為該中心點與該外圈8點或該內圈8點的每一點所分別對應的該第二反射角度之間的差。

其中，該雷射加工機進一步包含一物鏡，該雷射加工光束係接續地通過該分光鏡及該物鏡，該雷射加工機進一步包含一平場聚焦透鏡，該雷射加工光束係接續地通過該掃描振鏡及該平場聚焦透鏡。

同時，有鑑於現有的雷射加工仍存有上述的問題，本發明還提供一種光學顯微鏡之雷射加工之光斑大小動態調整方法，其係應用於一雷射加工機，該雷射加工機包含：一控制台、一計算模組、一雷射產生器、一光束調節單元其進一步具有一光束擴展器係用於擴展通過該光束調節單元的該雷射光束、一掃描振鏡、一視覺模組、及一分光鏡，其中該雷射產生器產生一雷射光束，該雷射光束通過該光束調節單元的後形成一雷射加工光束，該雷射加工光束通過該掃描振鏡後，再通過該分光鏡聚焦在一平面上，該雷射加工光束可經該控制台及該計算模組控制該掃描振鏡對該平面進行掃描，該分光鏡可將該雷射加工光束的一部分導引至該視覺模組，由該視覺模組加以感測及該計算模組加以辨識測量，以得到該雷射加工光束的光斑大小，該光學顯微鏡之雷射加工之光斑大小動態調整方法包含下列步驟：「開機/暖機步驟」s21：用於開機及暖機該雷射加工機；「初始狀態測量步驟」s22：經由該視覺模組加以感測及該計算模組加以辨識測量並記錄該雷射加工光束通過多個測試位置的光斑大小；「計算掃描振鏡角度與光斑大小關係曲線步驟」s23：根據步驟s22所測量到的光斑大小並對應於該掃描振鏡的兩個反射角度，定義該掃描振鏡角度與光斑大小關係曲線；「不同位置的光斑大小基準值存入資料庫步驟」s24：將步驟s23中所計算的光斑大小及對應於該掃描振鏡的該兩個反射角度數據存入一光斑大小關係曲線資料庫中。

該光斑大小動態調整方法進一步包含下列步驟：「放料步驟」s25：將一樣本適當的放置於該平面上；「加工流程步驟」s26：準備開始加工該樣本； 「讀取資料庫光斑大小基準值步驟」s27：該計算模組讀取一光斑大小關係曲線資料庫；「不同位置加工步驟」s28：該計算模組以一所欲加工位置，找出該光斑大小關係曲線資料庫中該所欲加工位置對應的一光斑大小，並以該光斑大小為該所欲加工位置的該雷射加工光束的一光斑大小基準值，再對應於該所欲加工位置的一所欲加工的光斑大小，根據該光斑大小基準值適當的調整該光束擴展器的一擴展值，然後發出一組控制指令以控制該控制台，然後經由該控制台控制該光束擴展器的該擴展值，來調整該雷射加工光束的光斑大小，並以調整後的該雷射加工光束對該所欲加工位置進行加工；「及時測量加工光斑大小步驟」s29：由該視覺模組及時感測及該計算模組及時感測並辨識測量該雷射加工光束的光斑大小；「測量值與基準值比較步驟」s30：該計算模組會比較並確認及時測量的該雷射加工光束的光斑大小與該光斑大小關係曲線資料庫的該光斑大小基準值的相對差異百分比是否大於一第二閾值，若是的話，進入下一步驟，否則進入再下一步驟；「及時光斑大小調整步驟」s31：以該光斑大小關係曲線資料庫的該光斑大小基準值為準，對該雷射加工光束進行及時的光斑大小調整；「完成加工步驟」s32：完成本筆加工；「是否有下一筆加工步驟」s33：該計算模組會檢查是否有下一筆需要加工的資料，若有的話，回到該進入步驟s26，否則到下一步驟；「取料步驟」s34，該樣本被取出。

其中，該雷射加工光束通過的該多個測試位置係為位於該掃描振鏡的一掃描範圍內的17個測試位置，具有一中心點、8個內圈點、與8個外圈點。

其中，該掃描振鏡的該兩個反射角度指的是該掃描振鏡所具有的一第一掃描反射鏡及一第二掃描反射鏡，其各自具有可被該控制台及該計算模組所控制的一第一反射角度及一第二反射角度。

其中，該雷射加工機進一步包含一物鏡，該雷射加工光束係接續地通過該分光鏡及該物鏡，該雷射加工機進一步包含一平場聚焦透鏡，該雷射加工光束係接續地通過該掃描振鏡及該平場聚焦透鏡。

根據上述本發明所揭露的一種光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法以及一種光學顯微鏡之雷射加工之光斑大小動態調整方法，應可順利解決上述目前雷射加工的缺點。

1:雷射加工機

2:控制台

3:計算模組

4:雷射產生器

5:光束調節單元

51:光衰減器

52:光束擴展器

61:反射鏡

62:反射鏡

63:反射鏡

7:掃描振鏡

8:視覺模組

9:光感測器

10:平場聚焦透鏡

11:分光鏡

12:物鏡

13:樣本

14:承載平台

15:雷射光束

16:雷射加工光束

17:反射光束

18:掃描範圍

19:中心點

21:接物鏡

22:鏡筒透鏡

23:影像感測器

R_S:掃描範圍的半徑

圖1係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法的雷射加工機結構示意圖。

圖2A是本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法中的17點測試位置的示意圖。

圖2B是本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法中不同位置的光束的能量調整示意圖。

圖3係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法中能量動態調整方法流程圖。

圖4係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法中光斑大小動態調整方法流程圖。

圖5係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法的第一系統架構示意圖。

圖6係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法的第二系統架構示意圖。

圖7係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法的第三系統架構示意圖。

請參閱圖1所示，圖1是本發明的光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法的雷射加工機結構示意圖，其中，一雷射加工機1包含：一控制台2、一計算模組3、一雷射產生器4、一光束調節單元5、一第一反射鏡61、一第二反射鏡62、一第三反射鏡63、一掃描振鏡7、一視覺模組8、一光感測器9、一平場聚焦透鏡10、一分光鏡11、一物鏡12、及一承載平台14。

該雷射產生器4係用於產生一雷射光束15，並將該雷射光束15的一輸出能量訊號傳送給該計算模組3，該光束調節單元5係用於接收該雷射光束15並將其調整為一雷射加工光束16，該掃描振鏡7係用於接收該雷射加工光束16，該掃描振鏡7具有一第一掃描反射鏡及一第二掃描反射鏡(圖中未式)，其用於將該雷射加工光束16連續反射，該第一掃描反射鏡及一第二掃描反射鏡各自具有可被控制的一第一反射角度及一第二反射角度(未圖式)，經由控制該第一反射角度及該第二反射角度，可將上述被連續反射的該雷射加工光束16循序的在一二維平面上掃描，值得注意的是：此時落在該二維平面上的該雷射加工光束16，其光斑大小及能量密度(即每單位面積的能量)會隨著該第一反射角度及該第二反射角度的不同而有所改變，亦即落在該二維平面上的該雷射加工光束16，其光斑大小及能量密度會隨著其落點位置的不同而有所改變。

該平場聚焦透鏡10係為F-theta透鏡，F-theta透鏡在對於單色光成像時具有一平面的像面，而且對應於固定偏轉速度的一入射光，在其像面的 平面上的掃描速度也為固定，因此可用等角速度的入射光在其像面上實現線性掃描，上述被該掃描振鏡7所連續反射的該雷射加工光束16會接著通過該平場聚焦透鏡10，如此可經由通過該平場聚焦透鏡10來實現一平面上的線性掃描。通過該平場聚焦透鏡10後的該雷射加工光束16會接著通過該分光鏡11，該分光鏡11會將該雷射加工光束16中的約1%能量反射到該光感測器9，該光感測器9會將所收到的該雷射加工光束16轉換成一加工能量訊號，並將該加工能量訊號傳給該計算模組3。承上所述，除了被該分光鏡11所反射的該雷射加工光束16外，剩下約99%的該雷射加工光束16會接著通過該物鏡12，該物鏡12係用於聚焦該雷射加工光束16於一樣本13的表面上，該樣本13係被放置於該承載平台14之上，此時該雷射加工光束16就可以開始加工該樣本13的表面，同時一反射光束17也從該樣本13的表面產生，該反射光束17會進入並通過該物鏡12，接著又被該分光鏡11反射到該視覺模組8。

如圖5所示，該視覺模組8係為具有影像感測器23如電荷藕合元件(Charge Coupled Device,CCD)或互補式金屬氧化物半導體影像感測器(CMOS Image Sensor,CIS)的一光學顯微鏡，該視覺模組8接收由該分光鏡11反射來的該反射光束17，並根據該反射光束17產生該樣本13的表面的一影像訊號，該影像訊號會被傳送至該計算模組3，如此即可據以確認該樣本13的位置與該雷射加工光束16所掃描的範圍是否是重疊的，以及確認該雷射加工光束16有無準確的落在該樣本13所欲加工的位置，同時也可觀察測量到該雷射加工光束16在該樣本13的表面上所形成的光斑大小。

該光束調節單元5係用於讓所接收到的該雷射光束15通過該光束調節單元5並將該雷射光束15調整為一雷射加工光束16，該光束調節單元5進一步包含：一光衰減器51及一光束擴展器52，該光衰減器51係讓該雷射光束15通過並根據一衰減值，可控地將該雷射光束15的能量加以衰減，接著經由該第一 反射鏡61及該第二反射鏡62將衰減後的該雷射光束15引導至該光束擴展器52，該光束擴展器52係讓衰減後的該雷射光束15通過並根據一擴展值，可控地將衰減後的該雷射光束15的光斑大小加以調整以得到一雷射加工光束16，接著經由該第三反射鏡63將該雷射加工光束16引導至該掃描振鏡7。

該計算模組3係連接該雷射產生器4、該視覺模組8、該光感測器9、及該控制台2，且該計算模組3係用於接收來自於該雷射產生器4的該輸出能量訊號、該視覺模組8的該影像訊號、以及該光感測器9的該加工能量訊號等資訊，該計算模組3還具有一演算法，其根據所欲加工的該樣本13的一表面位置與該表面位置所對應的一能量密度需求，將該計算模組3所接收到的該輸出能量訊號、該影像訊號、及該加工能量訊號加以運算以得到一組控制指令，可用以控制該雷射產生器4的輸出能量、該掃描振鏡7的該第一反射角度及該第二反射角度、該光衰減器51的該衰減值、以及該光束擴展器52的該擴展值，然後該計算模組3將該組控制指令傳送給該控制台2。

該控制台2係連接該雷射產生器4、該掃描振鏡7、該光衰減器51、以及該光束擴展器52，該控制台2根據從該計算模組3所接收到的該組控制指令，控制該雷射產生器4的輸出能量、該掃描振鏡7的該第一反射角度及該第二反射角度、該光衰減器51的該衰減值、以及該光束擴展器52的該擴展值，使得該樣本13的該表面位置能接收到與該能量密度需求相同的能量密度。

請參閱圖2A及2B所示，圖2A是本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法中的17點位測試位置的示意圖，其中，一掃描範圍18係被定義為該平場聚焦透鏡10的一掃描範圍，可定義該掃描範圍18的一半徑RS作為描述該掃描範圍18的大小的參數，因此該掃描區域18會隨著該平場聚焦透鏡10的一工作距離(未圖示)、該物鏡12的一倍率與一入光孔徑(未圖示)、以及該掃描振鏡7的出光口與該物鏡12的一距離(未圖示)等參數 的改變而改變。在該掃描範圍18中可定義相對的17個測試點包含在該掃描範圍18的內緣的4個角與4個邊的中點(簡稱為外圈8點)與該掃描範圍18的中心點19以及在該外圈8點與該中心點之間的中點所個別形成的8個點(簡稱為內圈8點)。圖2B是本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法中不同位置的光束的能量調整示意圖，其中E為該中心點19的能量，相對於該中心點19的能量E，該外圈8點或該內圈8點的每一點的能量ES在本發明中以公式(1)表示之：E_S=E * a * cosθ_X * b * cosθ_Y 公式(1)

其中，a與b為權重，θ_X為該中心點19與該外圈8點或該內圈8點的每一點所分別對應的該第一反射角度之間的差，θ_Y為該中心點19與該外圈8點或該內圈8點的每一點所分別對應的該第二反射角度之間的差，在圖2B中該權重a與b的值皆假設為1。

如上所述，該掃描範圍18的該中心點19的能量密度為該中心點19的能量E除以該中心點19的光斑大小，該掃描範圍18的該外圈8點或該內圈8點的每一點的能量密度為其能量E_S除以其相對應的光斑大小。

另外，由該視覺模組8所感測到的該影像訊號被傳到該計算模組3之後，計算模組3就可使用一影像辨識演算法來識別該影像訊號中的光斑以及其光斑大小。

請參閱圖3所示，圖3係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法中能量動態調整方法流程圖，其中，該能量動態調整方法具有一前置作業，該前置作業從一「開機/暖機步驟」s1開始，其用於開機及暖機該雷射加工機1中的相關組件如該控制台2、該計算模組3、該雷射產生器4、該光衰減器51、該光束擴展器52、該掃描振鏡7、該視覺模組8、及該光感測器9等。接著，進行一「初始狀態測量步驟」s2，其中，經由該 光感測器9測量及該計算模組3記錄該雷射加工光束16通過該17點測試位置的該雷射加工光束的能量，亦即記錄該雷射加工光束16通過不同的掃描振鏡的兩個反射角度時的該雷射加工光束的能量，該計算模組3可以將其由該光感測器9所接收到的該加工能量訊號以一比例轉換為該雷射加工光束的能量，例如該加工能量訊號係為該中心點19的能量E以及該外圈8點或該內圈8點的每一點的能量ES的1%左右，故可將該加工能量訊號乘以100即可得到該雷射加工光束的能量。

接著，該前置作業進行一「計算掃描振鏡角度與能量關係曲線步驟」s3，其中，根據步驟s2所測量到的該加工能量訊號並對應於該掃描振鏡的兩個反射角度，該計算模組3可計算所述公式一的權重a與b，故所述公式一即定義了該掃描振鏡角度與能量關係曲線。

接著，該前置作業進行一「不同位置的能量基準值存入資料庫步驟」s4，其中，將該「計算掃描振鏡角度與能量關係曲線步驟」s3中所計算的權重a與b與對應的該雷射加工光束的能量及對應於該掃描振鏡的兩個反射角度數據(即不同位置的能量基準值)存入一能量關係曲線資料庫中，而且因應不同需求與範圍，可進一步分成不用物鏡和使用物鏡下各17個點的能量關係曲線資料庫。

接著，該前置作業進行一「放料步驟」s5，其將該樣本13適當的放置於該承載平台14上。

接著，來到進入「加工流程步驟」s6，準備開始加工該樣本13；接著進入一「讀取資料庫能量基準值步驟」s7，其中該計算模組3讀取該能量關係曲線資料庫。

接著進入一「不同位置加工步驟」s8，其中該計算模組3以一所欲加工位置，找出該能量關係曲線資料庫中該所欲加工位置對應的該雷射加工 光束的能量，並以其為該所欲加工位置的該雷射加工光束16的能量基準值，再對應於該所欲加工位置的一所欲加工的能量，根據該能量基準值適當的調整該雷射產生器4的輸出能量或該光衰減器51的該衰減值，然後發出該組控制指令，控制該控制台2，然後經由該控制台2控制該雷射產生器4的輸出能量或該光衰減器51的該衰減值，來調整該雷射加工光束16的能量，並以調整後的該雷射加工光束16對該所欲加工位置進行加工。

接著進入一「及時測量加工能量步驟」s9，其中該光感測器9及時測量該雷射加工光束16的能量，並將測量到的該加工能量訊號及時傳送給該計算模組3以得到該雷射加工光束的能量。

接著進入一「測量值與基準值比較步驟」s10，其中該計算模組3會比較並確認及時測量的該雷射加工光束16的能量與該能量關係曲線資料庫的該能量基準值的相對差異百分比是否大於一第一閾值？若是的話，進入下一步驟，否則跳過下一步驟進入再下一步驟。

進入一「及時能量調整步驟」s11，以該能量關係曲線資料庫的該能量基準值為準，對該雷射加工光束16進行及時的能量調整。

進入一「完成加工步驟」s12，完成本筆加工；然後接著進入一「是否有下一筆加工步驟」s13，其中該計算模組3會檢查是否有下一筆需要加工的資料，若有的話，回到該進入該「加工流程步驟」s6，否則到下一步驟。

進入一「取料步驟」s14，其中該樣本13被取出。

請參閱圖4所示，圖4係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法中光斑大小動態調整方法流程圖，其中，該光斑大小動態調整方法具有一前置作業，該前置作業從一「開機/暖機步驟」s21開始(請參照開機/暖機步驟s1)，接著，進行一「初始狀態測量步驟」s22，其中，經由該視覺模組8加以感測及該計算模組3加以辨識測量並記錄該雷射加 工光束16通過該17點測試位置的光斑大小，亦即記錄該雷射加工光束16通過不同的掃描振鏡的該兩個反射角度時的光斑大小。

接著，該前置作業進行一「計算掃描振鏡角度與光斑大小關係曲線步驟」s23，其中，根據步驟s22所測量到的光斑大小並對應於該掃描振鏡的該兩個反射角度即定義了該掃描振鏡角度與光斑大小關係曲線。

接著，該前置作業進行一「不同位置的光斑大小基準值存入資料庫步驟」s24，其中，將該「計算掃描振鏡角度與光斑大小關係曲線步驟」s23中的光斑大小及對應於該掃描振鏡的該兩個反射角度數據存入一光斑大小關係曲線資料庫中，而且因應不同需求與範圍，會進一步分成不用物鏡和使用物鏡下各17個點的光斑大小關係曲線資料庫。

接著，該前置作業進行一「放料步驟」s25，其將該樣本13適當的放置於該承載平台14上。

接著，來到進入一「加工流程步驟」s26；接著進入一「讀取資料庫光斑大小基準值步驟」s27，其中該計算模組3讀取該光斑大小關係曲線資料庫。

接著進入一「不同位置加工步驟」s28，其中該計算模組3以一所欲加工位置，找出該光斑大小關係曲線資料庫中該所欲加工位置對應的一光斑大小，並以該光斑大小為該所欲加工位置的該雷射加工光束16的光斑大小基準值，再對應於該所欲加工位置的一所欲加工的光斑大小，適當的調整該光束擴展器52的該擴展值，然後發出該組控制指令以控制該控制台，然後經由該控制台控制該光束擴展器的該擴展值，來調整該雷射加工光束的光斑大小，並以調整後的該雷射加工光束16對該位置進行加工。

接著進入一「及時測量加工光斑大小步驟」s29，其中由該視覺模組8及時感測及該計算模組3及時辨識該雷射加工光束16的光斑大小。

接著進入一「測量值與基準值比較步驟」s30，其中該計算模組3會比較並確認及時測量的該雷射加工光束16的光斑大小與該光斑大小關係曲線資料庫的該光斑大小基準值的相對差異百分比是否大於一第二閾值？若是的話，進入下一步驟，否則跳過下一步驟進入再下一步驟。

進入一「及時光斑大小調整步驟」s31，以該光斑大小關係曲線資料庫的該光斑大小基準值為準，對該雷射加工光束16進行及時的光斑大小調整。

進入一「完成加工步驟」s32，然後接著進入一「是否有下一筆加工步驟」s33，其中該計算模組3會檢查是否有下一筆需要加工的資料，若有的話，回到該進入該「加工流程步驟」s26，否則到下一步驟。

進入一「取料步驟」s34，其中該樣本13被取出。

請參閱圖5所示，圖5係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法的第一系統架構示意圖，其中，該雷射加工機1具有該平場聚焦透鏡10以及該物鏡12，該視覺模組8進一步具有一接物鏡21、一鏡筒透鏡22、及一影像感測器23。由影像感測器23取像所定義的一加工範圍，其半徑為RP，該加工範圍的半徑RP與該掃描範圍18的半徑RS的關係如公式(2)所示：R_P=[200/[200+X * (D_W-D₀)]] * R_S 公式(2)

其中X為該物鏡12的倍率，D_W為該平場聚焦透鏡10的工作距離，D₀為該平場聚焦透鏡10與該物鏡12的距離。

當該加工範圍的半徑R_P大於等於該掃描範圍18的半徑R_S時，該視覺模組8可將整個掃描範圍18納入其視線之內，當該加工範圍的半徑R_P小於該掃描範圍18的半徑R_S時，該視覺模組8便僅能將部分的掃描範圍18納入其視線之內。

另外，在一實施例中，該物鏡12的倍率X與該掃描範圍18的半徑R_S的關係如下表所示：

請參閱圖6所示，圖6係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法的第二系統架構示意圖，其中，與圖5的第一系統架構相比，該雷射加工機1不具有該物鏡12，此時該加工範圍的半徑RP與該掃描範圍18的半徑RS的關係如公式(3)所示：R_P=R_S 公式(3)

請參閱圖7所示，圖7係本發明光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法與光斑大小動態調整方法的第三系統架構示意圖，其中，與圖5的第一系統架構相比，該雷射加工機1不具有該平場聚焦透鏡10，此時該加工範圍的半徑RP與該掃描範圍18的半徑RS的關係如公式(4)所示R_P=[1-(X/200)²+X/(200D₀)] * R_S 公式(4)

以上所述僅是本發明的較佳實施例而已，並非對本發明做任何形式上的限制，雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本發明，任何熟悉本專業的技術人員，在不脫離本發明技術方案的範圍內，當可利用上述揭示的技術內容做出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發明技術方案的內容，依據本發明的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本發明技術方案的範圍內。

1:雷射加工機

2:控制台

3:計算模組

4:雷射產生器

5:光束調節單元

51:光衰減器

52:光束擴展器

61:反射鏡

62:反射鏡

63:反射鏡

7:掃描振鏡

8:視覺模組

9:光感測器

10:平場聚焦透鏡

11:分光鏡

12:物鏡

13:樣本

14:承載平台

15:雷射光束

16:雷射加工光束

17:反射光束

Claims (15)

1. 一種光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法，係應用於一雷射加工機，該雷射加工機包含：一控制台、一計算模組、一雷射產生器、一光束調節單元其進一步具有一光衰減器係用於衰減通過該光束調節單元的該雷射光束、一掃描振鏡、一光感測器、及一分光鏡，其中該雷射產生器產生一雷射光束，該雷射光束通過該光束調節單元後形成一雷射加工光束，該雷射加工光束通過該掃描振鏡後，再通過該分光鏡聚焦在一平面上，該雷射加工光束可經該控制台及該計算模組控制該掃描振鏡對該平面進行掃描，該光感測器接收由該分光鏡導引來的該雷射加工光束，以測量該雷射加工光束的能量，該光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法包含下列步驟：步驟s5：「放料步驟」，將一樣本放置於該平面上；步驟s7：「讀取資料庫能量基準值步驟」，該計算模組讀取一能量關係曲線資料庫；步驟s8：「不同位置加工步驟」，該計算模組以一欲加工位置，找出該能量關係曲線資料庫中該欲加工位置對應的一雷射加工光束的能量，並以該雷射加工光束的能量為該欲加工位置的該雷射加工光束的一能量基準值，再對應於該欲加工位置的一欲加工的能量，根據該能量基準值調整該雷射產生器的一輸出能量或該光衰減器的一衰減值，然後發出一組控制指令以控制該控制台，然後經由該控制台控制該雷射產生器的該輸出能量或該光衰減器的該衰減值，來調整該雷射加工光束的能量，並以調整後的該雷射加工光束對該所欲加工位置進行加工；步驟s9：「及時測量加工能量步驟」，該光感測器及時測量該雷射加工光束的能量，並將測量到的該加工能量訊號及時傳送給該計算模組以得到該雷射加工光束的能量； 步驟s10：「測量值與基準值比較步驟」，該計算模組比較並確認及時測量的該雷射加工光束的能量與該能量關係曲線資料庫的該能量基準值的相對差異百分比是否大於一第一閾值，若是的話，進入下一步驟，否則進入再下一步驟；步驟s11：「及時能量調整步驟」，以該能量關係曲線資料庫的該能量基準值為準，對該雷射加工光束進行及時的能量調整；步驟s12：「完成加工步驟」，完成本筆加工。
2. 如請求項1所述之光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法，進一步包含一前置作業，其包含下列步驟：步驟s1：「開機/暖機步驟」，用於開機及暖機該雷射加工機；步驟s2：「初始狀態測量步驟」，經由該光感測器測量及該計算模組記錄該雷射加工光束通過多個測試位置的該雷射加工光束的能量；步驟s3：「計算掃描振鏡角度與能量關係曲線步驟」，根據步驟s2所測量到的該雷射加工光束的能量並對應於該掃描振鏡的兩個反射角度，該計算模組計算一公式的至少一個權重，並以該公式定義該掃描振鏡的該兩個反射角度與該雷射加工光束的能量的一能量關係曲線；步驟s4：「不同位置的能量基準值存入資料庫步驟」，將步驟s3中所計算的至少一個權重與對應的該雷射加工光束的能量及對應於該掃描振鏡的該兩個反射角度數據存入該能量關係曲線資料庫中。
3. 如請求項2所述之光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法，其中，該雷射加工光束通過的該多個測試位置係為位於該掃描振鏡的一掃描範圍內的17個測試位置，該17個測試位置包含有一中心點、8個內圈點、與8個外圈點。
4. 如請求項3所述之光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法，其中，該掃描振鏡的該兩個反射角度包含該掃描振鏡所具有的一第一掃描反射鏡及一第二掃描反射鏡，其各自具有可被該控制台及該計算模組所控制的一第一反射角度及一第二反射角度。
5. 如請求項4所述之光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法，其中，該公式為：E_S=E * a * cosθ_X * b * cosθ_Y其中，a與b為權重，θ_X為該中心點與該外圈8點或該內圈8點的每一點所分別對應的該第一反射角度之間的差，θ_Y為該中心點與該外圈8點或該內圈8點的每一點所分別對應的該第二反射角度之間的差。
6. 如請求項1所述之光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法，其中，該雷射加工機進一步包含一物鏡，該雷射加工光束係接續地通過該分光鏡及該物鏡。
7. 如請求項1所述之光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法，其中，該雷射加工機進一步包含一平場聚焦透鏡，該雷射加工光束係接續地通過該掃描振鏡及該平場聚焦透鏡。
8. 如請求項6所述之光學顯微鏡之雷射加工之能量動態調整方法，其中，該雷射加工機進一步包含一平場聚焦透鏡，該雷射加工光束係接續地通過該掃描振鏡及該平場聚焦透鏡。
9. 一種光學顯微鏡之雷射加工之光斑大小動態調整方法，係應用於一雷射加工機，該雷射加工機包含：一控制台、一計算模組、一雷射產生器、一光束調節單元其進一步具有一光束擴展器係用於擴展通過該光束調節單元的該雷射光束、一掃描振鏡、一視覺模組、及一分光鏡，其中該雷射產生器產生一雷射光束，該雷射光束通過該光束調節單元的後形成一雷射加工光束， 該雷射加工光束通過該掃描振鏡後，再通過該分光鏡聚焦在一平面上，該雷射加工光束可經該控制台及該計算模組控制該掃描振鏡對該平面進行掃描，該視覺模組感測由該分光鏡導引來的該雷射加工光束之影像，再由該計算模組加以辨識測量，以得到該雷射加工光束的光斑大小，該光學顯微鏡之雷射加工之光斑大小動態調整方法包含下列步驟：步驟s25：「放料步驟」，將一樣本放置於該平面上；步驟s27：「讀取資料庫光斑大小基準值步驟」，該計算模組讀取一光斑大小關係曲線資料庫；步驟s28：「不同位置加工步驟」，該計算模組以一所欲加工位置，找出該光斑大小關係曲線資料庫中該所欲加工位置對應的一光斑大小，並以該光斑大小為該所欲加工位置的該雷射加工光束的一光斑大小基準值，再對應於該所欲加工位置的一所欲加工的光斑大小，根據該光斑大小基準值適當的調整該光束擴展器的一擴展值，然後發出一組控制指令以控制該控制台，然後經由該控制台控制該光束擴展器的該擴展值，來調整該雷射加工光束的光斑大小，並以調整後的該雷射加工光束對該所欲加工位置進行加工；步驟s29：「及時測量加工光斑大小步驟」，由該視覺模組及時感測及該計算模組及時感測並辨識測量該雷射加工光束的光斑大小；步驟s30：「測量值與基準值比較步驟」，該計算模組會比較並確認及時測量的該雷射加工光束的光斑大小與該光斑大小關係曲線資料庫的該光斑大小基準值的相對差異百分比是否大於一第二閾值，若是的話，進入下一步驟，否則進入再下一步驟；步驟s31：「及時光斑大小調整步驟」，以該光斑大小關係曲線資料庫的該光斑大小基準值為準，對該雷射加工光束進行及時的光斑大小調整；步驟s32：「完成加工步驟」，完成本筆加工。
10. 如請求項9所述之光學顯微鏡之光斑大小動態調整方法，進一步包含一前置作業，其包含下列步驟：步驟s22：「初始狀態測量步驟」，經由該視覺模組加以感測及該計算模組加以辨識測量並記錄該雷射加工光束通過多個測試位置的光斑大小；步驟s23：「計算掃描振鏡角度與光斑大小關係曲線步驟」，根據步驟s22所測量到的光斑大小並對應於該掃描振鏡的兩個反射角度，定義該掃描振鏡角度與光斑大小關係曲線；步驟s24：「不同位置的光斑大小基準值存入資料庫步驟」，將步驟s23中所計算的光斑大小及對應於該掃描振鏡的該兩個反射角度數據存入一光斑大小關係曲線資料庫中。
11. 如請求項10所述之光學顯微鏡之雷射加工之光斑大小動態調整方法，其中，該雷射加工光束通過的該多個測試位置係為位於該掃描振鏡的一掃描範圍內的17個測試位置，具有一中心點、8個內圈點、與8個外圈點。
12. 如請求項10所述之光學顯微鏡之雷射加工之光斑大小動態調整方法，其中，該掃描振鏡的該兩個反射角度指的是該掃描振鏡所具有的一第一掃描反射鏡及一第二掃描反射鏡，其各自具有可被該控制台及該計算模組所控制的一第一反射角度及一第二反射角度。
13. 如請求項9所述之光學顯微鏡之雷射加工之光斑大小動態調整方法，其中，該雷射加工機進一步包含一物鏡，該雷射加工光束係接續地通過該分光鏡及該物鏡。
14. 如請求項9所述之光學顯微鏡之雷射加工之光斑大小動態調整方法，其中，該雷射加工機進一步包含一平場聚焦透鏡，該雷射加工光束係接續地通過該掃描振鏡及該平場聚焦透鏡。
15. 如請求項13所述之光學顯微鏡之雷射加工之光斑大小動態調整方法，其中，該雷射加工機進一步包含一平場聚焦透鏡，該雷射加工光束係接續地通過該掃描振鏡及該平場聚焦透鏡。

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