JP2016051858A - リンス槽および該リンス槽を用いた基板洗浄方法 - Google Patents

Abstract

【課題】リンス液の排出構造を簡素化することができるリンス槽を提供する。【解決手段】リンス槽は、リンス液を貯留するための内槽１と、内槽１を越流したリンス液を受けるオーバーフロー槽２と、内槽１の底部に設けられたドレイン孔１ｂを塞ぐための栓２５と、栓２５がドレイン孔１ｂを塞ぐ閉塞位置と、栓２５がドレイン孔１ｂから離れた開放位置との間で栓２５を移動させるアクチュエータ２６と、内槽１にリンス液を供給するリンス液供給管１０と、オーバーフロー槽２の底部に接続されたドレイン管３とを備える。ドレイン孔１ｂは、内槽１の内部とオーバーフロー槽２の内部とを連通する。【選択図】図１

Description

本発明は、ウェハなどの基板を洗浄するためのリンス槽および該リンス槽を用いた基板洗浄方法に関する。

ウェハなどの基板を処理する装置として、湿式処理装置が知られている。湿式処理装置の例としては、電解めっき装置、無電解めっき装置、ウェットエッチング装置が挙げられる。このような湿式処理装置は、一般に、基板を処理するための処理液を貯留する処理槽と、処理された基板を洗浄するためのリンス液を貯留するリンス槽とを備えている。基板は処理槽内の処理液に浸漬されて処理され、その後、基板はリンス槽に搬送され、リンス槽内のリンス液に浸漬されて洗浄（濯ぎ洗い）される。以下、リンス槽について図８を参照して説明する。

図８は一般的なリンス槽を示す図である。図８に示すように、リンス槽は、リンス液を貯留する内槽１０１と、内槽１０１を取り囲むオーバーフロー槽１０２とを備えている。オーバーフロー槽１０２の底部にはドレイン管１０３が接続されており、ドレイン管１０３には排出バルブ１０４が取り付けられている。内槽１０１の底部には、ドレイン管１０５の一端が接続されており、他端はドレイン管１０３に接続されている。ドレイン管１０５には排出バルブ１０６が取り付けられている。ドレイン管１０５はオーバーフロー槽１０２の底部を貫通して延びている。オーバーフロー槽１０２からのリンス液の漏出を防止するために、オーバーフロー槽１０２の底部とドレイン管１０５との間の隙間を封じるパッキング１１２が設けられている。

内槽１０１の底部にはリンス液を供給するためのリンス液供給管１１０が接続されており、このリンス液供給管１１０には開閉弁１１１が取り付けられている。開閉弁１１１が開かれると、リンス液はリンス液供給管１１０を通じて内槽１０１内に供給される。排出バルブ１０６が閉じられた状態では、リンス液は内槽１０１内に徐々に溜まる。内槽１０１内に溜まったリンス液は、やがて内槽１０１を越流してオーバーフロー槽１０２内に流入する。

処理槽（図示しない）で処理された基板Ｗは内槽１０１の上方の所定位置まで搬送される。開閉弁１１１が開かれた状態で、つまり、リンス液が内槽１０１に供給されながら、基板Ｗは内槽１０１内のリンス液に浸漬されて洗浄（濯ぎ洗い）される。基板Ｗの洗浄中、リンス液は内槽１０１を越流してオーバーフロー槽１０２内に流入する。さらに、オーバーフロー槽１０２内のリンス液はドレイン管１０３を通じて外部に排出される。基板Ｗの洗浄後、排出バルブ１０６が開かれ、内槽１０１内に溜まったリンス液はドレイン管１０５およびドレイン管１０３を通じて外部に排出される。
特許文献１には、クイックダンプ機能を備えた水洗槽を電解めっき装置内に設けることが記載されている。また、特許文献２には、内槽とオーバーフロー槽からなる水洗槽が記載されている。

国際公開第００／０７０１２８号パンフレット 特開昭６１−６１４２５号公報

図８に示すリンス槽では、内槽１０１からリンス液を排出するためのドレイン管１０５と、オーバーフロー槽１０２からリンス液を排出するためのドレイン管１０３の２本のドレイン管を設ける必要がある。さらに、これらのドレイン管１０３，１０５にドレイン弁１０４，１０６をそれぞれ取り付ける必要がある。このため、リンス液排出構造が複雑となり、ドレイン管１０３，１０５およびドレイン弁１０４，１０６を設置するための大きなスペースが必要となる。

さらに、リンス液が内槽１０１を満たした時点から基板Ｗが内槽１０１に導入される時点まで、基板洗浄に寄与しない多量のリンス液がドレイン管１０３を通じて排出され、リンス液の全体の使用量が増加してしまう。さらに、内槽１０１の貯留量として内槽１０１自体の容量のみならず、内槽１０１の底部からドレイン弁１０６までの貯留量も含まれるため、必要以上のリンス液が必要となってしまう。リンス液の使用量を低減するために、基板Ｗがリンス液に浸漬されるまで、開閉弁１１１を閉じて、リンス液の供給を停止することも考えられる。しかしながら、リンス液の流れが停滞すると、リンス液の流路内にバクテリアが発生し、リンス液が汚染されることがある。

本発明は上述した問題点に鑑みてなされたもので、リンス液の排出構造を簡素化することができ、および／またはリンス液の流れを止めずにリンス液の使用量を減らすことができるリンス槽および該リンス槽を用いた基板洗浄方法を提供することを目的とする。

本発明の一態様は、リンス液を貯留するための内槽と、前記内槽を越流したリンス液を受けるオーバーフロー槽と、前記内槽の底部に設けられたドレイン孔を塞ぐための栓と、前記栓が前記ドレイン孔を塞ぐ閉塞位置と、前記栓が前記ドレイン孔から離れた開放位置との間で前記栓を移動させるアクチュエータと、前記内槽にリンス液を供給するリンス液供給管と、前記オーバーフロー槽の底部に接続されたドレイン管とを備え、前記ドレイン孔は、前記内槽の内部と前記オーバーフロー槽の内部とを連通することを特徴とするリンス槽である。

本発明の好ましい態様は、前記アクチュエータは、前記内槽の上方に配置されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記リンス液供給管を流れるリンス液の流量を変える流量制御装置をさらに備えることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記内槽内のリンス液の液面高さを検出する液面検出器をさらに備え、前記流量制御装置は、リンス液の液面が所定の高さに達するまで、リンス液を第１の流量で前記リンス液供給管を流通させ、リンス液の液面が前記所定の高さに達した後、前記リンス液供給管を流れるリンス液の流量を前記第１の流量よりも低い第２の流量に制限することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記流量制御装置は、前記リンス液供給管に取り付けられた開閉弁と、該開閉弁をバイパスするバイパス管とを備えることを特徴とする。

本発明の他の態様は、内槽と、該内槽を囲むオーバーフロー槽とを有するリンス槽を用いて基板を洗浄する方法であって、前記内槽内のリンス液の液面が所定の高さに達するまで、リンス液を第１の流量で前記内槽に供給し、前記内槽内のリンス液の液面が前記所定の高さに達した後、リンス液を前記第１の流量よりも低い第２の流量で前記内槽内に供給し、リンス液を前記第２の流量よりも高い流量で前記内槽内に供給しつつ、リンス液を前記内槽から前記オーバーフロー槽に越流させながら、基板を前記内槽内のリンス液に浸漬させて該基板をリンス液で洗浄し、前記基板を前記リンス液から引き上げ、前記内槽へのリンス液の供給を停止し、そして、前記内槽からリンス液を排出することを特徴とする。

本発明の好ましい態様は、前記内槽内にリンス液を供給する前に、前記内槽の底部に設けられたドレイン孔を栓で塞ぐ工程をさらに含み、前記内槽からリンス液を排出する工程は、前記栓をドレイン孔から引き抜いて前記内槽内のリンス液を前記ドレイン孔を通じて前記オーバーフロー槽に流入させつつ、前記オーバーフロー槽の底部に接続されたドレイン管を通じてリンス液を前記オーバーフロー槽から排出する工程であることを特徴とする。

本発明によれば、内槽にドレイン管を接続する必要がないので、リンス液の排出構造を簡素化することができる。しかも、図８に示すパッキング１１２も不要とすることができる。
さらに、本発明によれば、流量制御装置により、基板がリンス液に浸漬される直前まで、リンス液供給管を流れるリンス液の流量を低くすることができる。したがって、リンス液の使用量を低減することができ、かつリンス液の汚染を防止することができる。

一実施形態に係るリンス槽を示す図である。 栓がドレイン孔から離間した状態のリンス槽を示す図である。 クイックダンプリンスを行う場合のリンス液の供給排出工程を示すフローチャートである。 リンス液の液面が第１の高さＨ１に達したときのリンス槽を示す図である。 リンス液が内槽を越流してオーバーフロー槽内に流入したときのリンス槽を示す図である。 栓を上昇させたときのリンス槽を示す図である。 クイックダンプリンスを行わない場合のリンス液の供給排出工程を示すフローチャートである。 一般的なリンス槽を示す図である。

以下、実施形態について図面を参照して説明する。図１乃至図７において、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
図１は、一実施形態に係るリンス槽を示す図である。図１に示すように、リンス槽は、内部にリンス液を貯留するための内槽１と、内槽１を取り囲むように配置されたオーバーフロー槽２とを備えている。内槽１の全体は、オーバーフロー槽２内に位置しており、オーバーフロー槽２は内槽１を越流したリンス液を受けるように構成されている。

オーバーフロー槽２の底部にはドレイン管３が接続されている。内槽１はオーバーフロー槽２の底部から離間して配置されている。内槽１には、内槽１内のリンス液をオーバーフロー槽２に流入させるためのドレイン孔１ｂが設けられている。このドレイン孔１ｂは内槽１の底部１ａに形成されており、内槽１の内部とオーバーフロー槽２の内部とを連通している。

リンス槽は、内槽１にリンス液を供給するリンス液供給管１０と、リンス液供給管１０を流れるリンス液の流量を変える流量制御装置１１とを備えている。リンス液供給管１０には内槽１へのリンス液の供給を開始および停止するためのメインバルブ１２が取り付けられている。リンス液供給管１０は内槽１の底部１ａに接続されている。内槽１の底部１ａ内には、リンス液供給管１０と内槽１の内部とを連通する液体流路１６が形成されており、リンス液供給管１０から供給されたリンス液は、液体流路１６を通じて内槽１０内に流入する。リンス液としては、例えば純水が使用される。

メインバルブ１２の下流側には流量制御装置１１が設けられている。この流量制御装置１１は、リンス液供給管１０に取り付けられた開閉弁２０と、開閉弁２０をバイパスするバイパス管２１とを備えている。バイパス管２１の一端は、メインバルブ１２と開閉弁２０との間の位置においてリンス液供給管１０に接続され、他端は、開閉弁２０の下流側の位置においてリンス液供給管１０に接続されている。開閉弁２０はメインバルブ１２の下流側に配置されている。バイパス管２１は、バイパス管２１を通過するリンス液の流量を制限するオリフィス２２を有している。

メインバルブ１２が開かれると、リンス液はリンス液供給管１０および流量制御装置１１を通って内槽１内に供給される。開閉弁２０が開かれた状態におけるリンス液の流量は第１の流量である。開閉弁２０が閉じられると、リンス液はバイパス管２１およびリンス液供給管１０を通って内槽１内に供給される。開閉弁２０が閉じられた状態におけるリンス液の流量は、第１の流量よりも低い第２の流量である。このように、流量制御装置１１は、開閉弁２０の開閉により、リンス液供給管１０を流れるリンス液の流量を変えることができる。流量制御装置１１として、流量調整弁を使用することも可能である。

リンス槽は、内槽１の底部１ａに設けられたドレイン孔１ｂを塞ぐための栓２５と、栓２５を移動させるアクチュエータとしてのエアシリンダ２６とを備えている。エアシリンダ２６は、栓２５がドレイン孔１ｂを塞ぐ閉塞位置と、栓２５がドレイン孔１ｂから離れた開放位置との間で栓２５を移動させるように構成されている。エアシリンダ２６は、内槽１の上方に配置されており、鉛直方向に延びる棒部材２７を介して栓２５に連結されている。

エアシリンダ２６は、ピストン２９と、このピストン２９に固定されたピストンロッド２８とを備えている。エアシリンダ２６の内部空間は、ピストン２９により第１圧力室２９ａと第２圧力室２９ｂとに分けられている。棒部材２７の上端はエアシリンダ２６のピストンロッド２８に接続されており、棒部材２７の下端には栓２５が固定されている。

エアシリンダ２６には２本の気体移送管３０，３１が接続されている。気体移送管３０，３１は図示しない気体供給源に接続されている。気体移送管３０を通じてエアシリンダ２６の第１圧力室２９ａ内に気体を供給すると、ピストン２９およびピストンロッド２８が下方に移動し、栓２５はドレイン孔１ｂを塞ぐ閉塞位置まで移動される。栓２５のサイズはドレイン孔１ｂよりも大きいため、栓２５はドレイン孔１ｂを閉じることができる。

図２は開放位置に移動された栓２５を示す図である。図２に示すように、気体移送管３１を通じてエアシリンダ２６の第２圧力室２９ｂ内に気体を供給すると、ピストン２９およびピストンロッド２８が上方に移動し、栓２５はドレイン孔１ｂから離れた開放位置まで移動される。この栓２５の上方への移動により、ドレイン孔１ｂが開かれる。栓２５を移動させるアクチュエータとして、エアシリンダに代えて、サーボモータとボールねじとの組み合わせなどの他の装置を用いてもよい。

内槽１内のリンス液は、ドレイン孔１ｂを通ってオーバーフロー槽２内に流入し、さらにドレイン管３を通ってオーバーフロー槽２から排出される。このような構成によれば、内槽１にドレイン管を接続する必要がないので、リンス液の排出構造を簡素化することができ、リンス液の排出構造の設置に必要なスペースを小さくすることができる。また、メンテナンスのために内槽１を容易にオーバーフロー槽２から取り外すことができる。しかも、図８に示すパッキング１１２も不要とすることができる。

リンス槽は、内槽１内に溜まったリンス液の液面高さを検出する第１の液面検出器３５と、オーバーフロー槽２内に溜まったリンス液の液面高さを検出する第２の液面検出器３６とを備えている。第１の液面検出器３５は、例えば、複数の液面高さを検出することができる液面センサであり、第２の液面検出器３６はフロート式液面検出器である。

図１および図２に示すように、第１の液面検出器３５は３つの液面高さ、すなわち下限高さＬＬ、第１の高さＨ１、および第２の高さＨ２を検出するように構成されている。下限高さＬＬは内槽１の底部１ａよりもやや高く、第１の高さＨ１は内槽１の上端よりもやや低く、第２の高さＨ２は内槽１の上端よりもやや高い位置である。

リンス槽は、流量制御装置１１の動作を制御する動作制御部３７をさらに備えている。より具体的には、動作制御部３７は、内槽１およびオーバーフロー槽２内のリンス液の液面高さに基づいて、メインバルブ１２および開閉弁２０の動作を制御するように構成されている。第１の液面検出器３５は動作制御部３７に接続されており、動作制御部３７はメインバルブ１２および開閉弁２０に接続されている。第１の液面検出器３５が上記３つの液面高さのいずれかを検出したときに、動作制御部３７はメインバルブ１２および／または開閉弁２０を開閉させる。

第２の高さＨ２は、内槽１の上端よりもやや高い位置に設定されているので、リンス槽が正常に動作している場合は、リンス液の液面は第２の高さＨ２に達することはない。第１の液面検出器３５が第２の高さＨ２を検出した場合は、オーバーフロー槽２の排水に異常があること、つまり、リンス液がオーバーフロー槽２から正常に排出されず、リンス液の液面が第２の高さＨ２に達したことを示している。基板の処理中に、第１の液面検出器３５が第２の高さＨ２を検出した場合には、処理中の基板の処理は継続され、その後、警報が発せられるとともに次の基板処理は行われない。さらに、第２の液面検出器３６は上限高さＨＨを検出するように構成されており、動作制御部３７に接続されている。上限高さＨＨはオーバーフロー槽２の上端と同じ高さである。第２の液面検出器３６が上限高さＨＨを検出すると、動作制御部３７はメインバルブ１２を閉じる。その結果、リンス液がオーバーフロー槽２から溢れることが防止される。

次に、基板Ｗの洗浄方法について、図３を参照して説明する。洗浄される基板Ｗの例としては、めっきされたウェハ、ウェットエッチング処理されたウェハが挙げられる。図３は基板Ｗの洗浄方法を示すフローチャートである。内槽１のドレイン孔１ｂが栓２５で塞がれた状態で、メインバルブ１２が開かれ（ステップ１）、次いで開閉弁２０が開かれる（ステップ２）。これにより、リンス液は第１の流量でリンス液供給管１０を通じて内槽１内に供給される。内槽１内のリンス液の液面は下限高さＬＬに達し、やがて第１の高さＨ１に達する。図４は、リンス液の液面が第１の高さＨ１に達したときのリンス槽を示す図である。

第１の液面検出器３５が第１の高さＨ１を検出すると（ステップ３）、第１の液面検出器３５から動作制御部３７に検出信号が送られる。第１の液面検出器３５からの検出信号を受けると、動作制御部３７は開閉弁２０を閉じる（ステップ４）。

開閉弁２０が閉じられると、リンス液はバイパス管２１を通って内槽１内に供給される。つまり、内槽１に供給されるリンス液の流量は第１の流量から第２の流量に切り換えられる（第１の流量＞第２の流量）。リンス液は内槽１を越流してオーバーフロー槽２内に流入する（図５参照）。オーバーフロー槽２内に流入したリンス液はドレイン管３を通じて外部に排出される。図５において、動作制御部３７は省略されている。

上述したように、ウェハなどの基板Ｗは処理槽で処理され、その後、リンス槽に搬送される。もし、基板Ｗがリンス槽の上方の所定位置に搬送されるまで、リンス液が第１の流量で供給され続けると、基板洗浄に寄与しない大量のリンス液がドレイン管３を通じて外部に排出されてしまう。本実施形態によれば、リンス液の液面が内槽１の上端に近い第１の高さＨ１に達した後、リンス液は第１の流量よりも少ない第２の流量で供給される。つまり、内槽１に供給されるリンス液の流れを止めることなく、より少ない量のリンス液がドレイン管３を通じて排出される。よって、バクテリアの発生を防止しつつ、リンス液の使用量を低減することができる。

基板Ｗが内槽１の上方の所定位置（基板下降可能位置）まで搬送されると（ステップ５）、基板Ｗの下降が開始される（ステップ６）。その後、開閉弁２０が開かれ（ステップ７）、リンス液は第２の流量から第１の流量に切り換えられる。リンス液を第２の流量よりも高い第１の流量で内槽１内に供給しつつ、リンス液を内槽１からオーバーフロー槽２に越流させながら、基板Ｗを内槽１内のリンス液に浸漬させて、基板Ｗを洗浄（濯ぎ洗い）する。基板Ｗの洗浄が開始されてから所定の洗浄時間が経過すると（ステップ８）、開閉弁２０が閉じられ（ステップ９）、基板Ｗの洗浄が終了する。基板Ｗの洗浄中に内槽１に供給されるリンス液の流量は第１の流量でなくてもよく、第２の流量よりも高い流量であれば特に限定されない。

基板Ｗの洗浄方法として、クイックダンプリンス（ＱＤＲ）と呼ばれる洗浄方法がある。この洗浄方法は、基板Ｗをリンス液に浸漬させた後、内槽１内のリンス液を、処理液などの不純物とともに急速に排出する方法である。本実施形態では、クイックダンプリンスは、選択的に実行される。

図３に示すフローチャートは、クイックダンプリンスが行われる場合の動作フローを示している。所定の洗浄時間が経過して開閉弁２０が閉じられた後（ステップ９）、メインバルブ１２が閉じられ（ステップ１０）、内槽１内へのリンス液の供給が停止される。その後、栓２５はエアシリンダ２６により開放位置まで上方に移動され（ステップ１１）、ドレイン孔１ｂが開かれる。内槽１内のリンス液はドレイン孔１ｂを通じてオーバーフロー槽２に流入し、さらにドレイン管３を通じて外部に排出される。リンス液の液面が低下して下限高さＬＬに達すると、第１の液面検出器３５が下限高さＬＬを検出する（ステップ１２）。その後、図６に示すように、基板Ｗは内槽１から引き上げられる（ステップ１３）。

動作制御部３７は、下限高さＬＬが検出された時点から予め設定された遅延時間が経過したか否かを判断する。遅延時間が経過すると（ステップ１４）、再び栓２５は閉塞位置まで下降され（ステップ１５）、栓２５によってドレイン孔１ｂが塞がれる。この遅延時間は次の理由により設けられている。第１の液面検出器３５が下限高さＬＬを検出した時点では、図６に示すように、リンス液は内槽１内にわずかに残っている。この状態で内槽１のドレイン孔１ｂが塞がれると、内槽１内のリンス液は完全に排出されない。そこで、下限高さＬＬが検出された時点から予め設定された遅延時間が経過したときに、栓２５によってドレイン孔１ｂが閉じられる。遅延時間が経過するまでに内槽１内に残留しているリンス液は完全に排出される。

図７は、クイックダンプリンスを行わない場合のリンス液の供給排出工程を示すフローチャートである。ステップ１からステップ９までの動作は図３のフローチャートに示される動作と同じである。クイックダンプリンスを行わない場合、基板Ｗが洗浄され、開閉弁２０が閉じられた後（ステップ９）、内槽１から基板Ｗが引き上げられ、内槽１の上方位置まで上昇される（ステップ１０）。そして、基板Ｗが内槽１から引き上げられた後、メインバルブ１２が閉じられ（ステップ１１）、内槽１内へのリンス液の供給が停止される。その後、エアシリンダ２６によって栓２５が開放位置まで上昇され（ステップ１２）、内槽１内のリンス液が排出される。第１の液面検出器３５が下限高さＬＬを検出してから（ステップ１３）予め設定された遅延時間が経過したとき（ステップ１４）、栓２５は閉塞位置まで下降され（ステップ１５）、内槽１のドレイン孔１ｂが塞がれる。

これまで本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよい。

１ 内槽
１ａ 底部
１ｂ ドレイン孔
２ オーバーフロー槽
３ ドレイン管
１０ リンス液供給管
１１ 流量制御装置
１２ メインバルブ
１６ 液体流路
２０ 開閉弁
２１ バイパス管
２２ オリフィス
２５ 栓
２６ エアシリンダ
２７ 棒部材
２８ ピストンロッド
２９ ピストン
２９ａ，２９ｂ 圧力室
３０，３１ 気体移送管
３５ 第１の液面検出器
３６ 第２の液面検出器
３７ 動作制御部
Ｗ 基板（ウェハ）

Claims (7)

1. リンス液を貯留するための内槽と、
   前記内槽を越流したリンス液を受けるオーバーフロー槽と、
   前記内槽の底部に設けられたドレイン孔を塞ぐための栓と、
   前記栓が前記ドレイン孔を塞ぐ閉塞位置と、前記栓が前記ドレイン孔から離れた開放位置との間で前記栓を移動させるアクチュエータと、
   前記内槽にリンス液を供給するリンス液供給管と、
   前記オーバーフロー槽の底部に接続されたドレイン管とを備え、
   前記ドレイン孔は、前記内槽の内部と前記オーバーフロー槽の内部とを連通することを特徴とするリンス槽。
2. 前記アクチュエータは、前記内槽の上方に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のリンス槽。
3. 前記リンス液供給管を流れるリンス液の流量を変える流量制御装置をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のリンス槽。
4. 前記内槽内のリンス液の液面高さを検出する液面検出器をさらに備え、
   前記流量制御装置は、リンス液の液面が所定の高さに達するまで、リンス液を第１の流量で前記リンス液供給管を流通させ、リンス液の液面が前記所定の高さに達した後、前記リンス液供給管を流れるリンス液の流量を前記第１の流量よりも低い第２の流量に制限することを特徴とする請求項３に記載のリンス槽。
5. 前記流量制御装置は、前記リンス液供給管に取り付けられた開閉弁と、該開閉弁をバイパスするバイパス管とを備えることを特徴とする請求項３に記載のリンス槽。
6. 内槽と、該内槽を囲むオーバーフロー槽とを有するリンス槽を用いて基板を洗浄する方法であって、
   前記内槽内のリンス液の液面が所定の高さに達するまで、リンス液を第１の流量で前記内槽に供給し、
   前記内槽内のリンス液の液面が前記所定の高さに達した後、リンス液を前記第１の流量よりも低い第２の流量で前記内槽内に供給し、
   リンス液を前記第２の流量よりも高い流量で前記内槽内に供給しつつ、リンス液を前記内槽から前記オーバーフロー槽に越流させながら、基板を前記内槽内のリンス液に浸漬させて該基板をリンス液で洗浄し、
   前記基板を前記リンス液から引き上げ、
   前記内槽へのリンス液の供給を停止し、そして、
   前記内槽からリンス液を排出することを特徴とする方法。
7. 前記内槽内にリンス液を供給する前に、前記内槽の底部に設けられたドレイン孔を栓で塞ぐ工程をさらに含み、
   前記内槽からリンス液を排出する工程は、前記栓をドレイン孔から引き抜いて前記内槽内のリンス液を前記ドレイン孔を通じて前記オーバーフロー槽に流入させつつ、前記オーバーフロー槽の底部に接続されたドレイン管を通じてリンス液を前記オーバーフロー槽から排出する工程であることを特徴とする請求項６に記載の方法。

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