JP2016048793A - 真空圧送システム - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (31)
- 少なくとも一つの真空圧送機構と、
前記少なくとも一つの真空圧送機構を駆動するモータと、
前記真空圧送システムの一定期間にわたる累積負荷を決定するための手段とを備え、該決定するための手段は、前記期間にわたって前記モータの特性をモニタすることにより累積負荷を決定するようになっており、
さらに、前記累積負荷が予め決定された量を超えたときにメンテナンス作業を開始させるための手段を備える、真空圧送システム。 - 前記特性は、真空圧送機構を駆動させるためにモータが要求した電力である、請求項1に記載の真空圧送システム。
- 前記決定手段は、前記電力を決定するためにモータの電流をモニタする、請求項2に記載の真空圧送システム。
- 前記累積負荷は、一定の期間にわたる作業の間、真空圧送機構によって圧送された流体の流量質量の合計に等しい、請求項1乃至3の何れか1項に記載の真空圧送システム。
- 前記真空圧送システムの状態は、真空圧送機構によって圧送された流体の質量流量に比例して劣化し、前記予め決定された量は、前記累積負荷が前記予め決定された量を超えたときに前記圧送システムが前記状態に復旧するためにメンテナンス作業を必要とするように予め決定されている、請求項4に記載の真空圧送システム。
- ウェハーを処理することができる処理チャンバと、
ウェハーが、処理のために処理チャンバに搬送されるときに通過し、処理の後に処理チャンバから搬送されてくる搬送チャンバとを備え、
前記真空圧送システムは、
処理チャンバからガスを排気するための前記第1モータによって駆動される前記第1の真空圧送機構と、
搬送チャンバからガスを排気するための前記第2モータによって駆動される前記第2真空圧送機構とを備え、
前記決定手段は、前記第1モータ又は前記第2モータの前記特性をモニタすることによって経時的に前記真空圧送システムの累積負荷を決定する、請求項1乃至6の何れか1項に記載のシステム。 - 真空排気中、第2真空圧送機構は、搬送チャンバ内の圧力をウェハーが搬送チャンバに導入される第1圧力から、ウェハーが処理のために搬送チャンバから処理チャンバに搬送される第2圧力まで減らし、前記第2モータの前記モニタされる特性は、真空排気を行うごとに増加し、前記第2真空圧送機構が搬送チャンバ内の圧力を減らしていないときに減少し、前記累積負荷は、処理システムによって処理されたウェハーの数であり、前記決定手段は、前記第2モータの前記モニタされた特性の増加回数をカウントすることによって前記累積負荷を決定するように構成されている、請求項6に記載の真空圧送システム。
- 処理ガスは、処理ステップ中に処理チャンバに導入され、第1真空圧送機構によって処理チャンバから排気され、前記第1モータの前記モニタされた特性は、各々の処理ステップの間増加し、前記第1圧送機構が前記処理チャンバからガスを排気していないときに減少し、前記累積負荷は、複数の処理ステップにわたって第1真空圧送機構によって圧送された処理ガスの質量流量の合計に等しく、前記決定手段は、前記第1モータの前記モニタされた特性の経時的な増加量を決定することにより累積負荷を決定するように構成される、請求項6に記載の真空圧送システム。
- 前記累積負荷は、時間に対する前記モニタされた特性の積分値に比例し、前記決定手段は、時間に関して前記特性を積分するための積分手段を備える、請求項8に記載の真空圧送システム。
- 前記第1真空圧送機構及び/又は前記第2真空圧送機構に関連する前記真空圧送機構の状態は、処理システムによって処理されたウェハーの数に比例して劣化し、前記稼働手段は、システムによって処理されたウェハーの数が予め決定された量を超えたときに前記状態を復旧させるためのメンテナンス作業を開始させるように構成されている、請求項7に記載の真空圧送システム。
- 前記第1真空圧送機構及び/又は前記第2真空圧送機構に関連する前記真空圧送機構の状態は、前記処理チャンバから前記第1真空圧送手段によって排気されたガスの質量流量に比例して劣化し、前記稼働手段は、ガスの前記総質量流量が予め決定された量を超えたときに前記状態を改善するためのメンテナンス作業を開始させるように構成されている、請求項8又は9に記載の真空圧送システム。
- 前記第1真空圧送機構及び/又は前記第2真空圧送機構に関連する前記真空圧送機構の状態は、処理システムによって処理されたウェハーの数に応じた累積負荷、及び第1真空圧送手段によって前記処理チャンバから排気された処理ガスの総質量流量に応じて劣化し、前記稼働手段は、前記累積負荷が予め決定された量を超えたときにメンテナンス作業を開始させるように構成されている、請求項10又は11に記載の真空圧送システム。
- 前記決定手段は、ガスの総質量流量によって調整されたウェハーの数に応じて前記累積負荷を決定するように構成されている、請求項12に記載の真空圧送システム。
- 少なくとも一つの真空圧送機構から離れて配置されたユーザインターフェイスを備え、システムは、前記稼働手段が、前記インターフェイスによってメンテナンス作業の要求を通信できるように構成されている、請求項1乃至13の何れか1項に記載の真空圧送システム。
- ブースタポンプが、前記第1真空圧送機構及び/又は前記第2真空圧送機構を構成する、請求項1乃至14の何れか1項に記載の真空圧送システム。
- 真空圧送システム用のメンテナンス検出ユニットであって、
前記システムは、
真空圧送機構と、
前記真空圧送機構を駆動するためのモータと、
システム制御ユニットとを備え、
前記メンテナンスユニットは、
前記モータの特性をモニタすることにより、経時的に前記真空圧送システムの累積負荷を決定するための手段と、
前記累積負荷が予め決定された量を超えたときに前記システムのメンテナンス作業を開始するための手段と、
前記決定手段が前記特性をモニタすることができるように、前記検出ユニットが前記制御ユニットと連絡するのを可能にするためのインターフェイスとを備える、メンテナンス検出ユニット。 - 処理システムであって、該システムの処理チャンバからガスを排気するための真空圧送サブシステムを備え、
前記真空圧送サブシステムは、
少なくとも一つの真空圧送機構と、
前記少なくとも一つの真空圧送機構を駆動するためのモータとを備え、
前記処理システムは、前記モータの特性をモニタすることによって前記真空圧送機構の負荷を決定するための手段と、
前記真空圧送機構の前記決定された負荷に応じて前記システム内の少なくとも一つの他のサブシステムを制御するための制御手段とを備える、処理システム。 - 前記特性は、真空圧送機構を駆動するためにモータによって要求される電力であり、前記電力は、前記真空圧送機構に加わる負荷に比例する、請求項17に記載の処理システム。
- 前記決定手段は、前記電力を決定するためにモータの電流をモニタすることができる、請求項18に記載の処理システム。
- 前記負荷は、真空圧送機構によって圧送された流体の流量質量である、請求項17乃至19に記載の処理システム。
- 前記決定手段は、真空圧送機構によって圧送される流体の質量流量を決定するように、且つ決定された質量流量を示す信号を前記制御手段に出力するように構成されている、請求項20に記載の処理システム。
- 前記制御手段は、前記決定手段からの前記信号を受け取るように、前記真空圧送サブシステムから排気されたガスの質量流量に応じて前記他のサブシステムの作動を制御するように構成されている、請求項21に記載の処理システム。
- 前記制御手段は、決定された質量流量が予め決定された経過時間の閾値より小さいとき、前記他のサブシステムによって消費される資源を減らすために、前記他のサブシステムがアイドルモードで作動させるように構成されている、請求項22に記載の処理システム。
- 前記制御手段は、決定された負荷が閾値を超えたときに前記サブシステムの作動を稼働させるように構成されている、請求項17乃至23の何れか1項に記載の処理システム。
- 前記真空圧送サブシステムは、ロードロックチャンバを排気するためのものである、請求項17乃至24の何れか1項に記載の処理システム。
- 前記他のサブシステムは、除害システム、冷却器、又は第2真空圧送サブシステムで構成される、請求項17乃至25の何れか1項に記載の処理システム。
- 前記決定手段は、クロック回路及び微分回路を備え、制御部は、コンパレータ及びメモリを備える、請求項17乃至26の何れか1項に記載の処理システム。
- ウェハーを処理することができる処理チャンバと、ウェハーが、処理のために処理チャンバに搬送されるときに通過し、処理の後に処理チャンバから搬送されてくるロードロックチャンバとを備える処理システムであって、
前記真空圧送サブシステムは、
処理チャンバからガスを排気するための前記第1モータによって駆動される前記第1真空圧送機構と、
ロードロックチャンバからガスを排気するための前記第2モータによって駆動される前記第2真空圧送機構とを備え、
前記決定手段は、
前記第1モータ及び前記第2モータの前記特性をモニタすることによって前記真空圧送サブシステムの負荷を決定する、処理システム。 - 減圧ステップで、第2真空圧送機構が搬送チャンバ内の圧力を、ウェハーが搬送チャンバに導入される第1圧力から、ウェハーが処理のために搬送チャンバから処理チャンバに搬送される第2圧力まで減圧し、前記第2モータの前記モニタされる特性は、各々の減圧ステップの間増加し、前記搬送チャンバ内を減圧していないときに減少し、前記決定された特性が閾値より大きくなると、前記制御手段は、前記除害システムを稼働させ、前記特性が予め決定された経過時間にわたって前記閾値よりも小さくなると、前記制御手段は、除害システムがアイドルモードになるようにする、請求項28に記載の処理システム。
- 処理ガスは、処理ステップ中に処理チャンバに導入され、第1真空圧送機構によって処理チャンバから排気され、前記第1モータの前記モニタされた特性は、各々の処理ステップの間増加する、請求項28に記載のシステム。
- 処理システム用の制御ユニットであって、
システム内のチャンバからガスを排気するための真空圧送サブシステムを備え、
前記真空圧送サブシステムは、
真空圧送機構と、
前記真空圧送機構を駆動するためのモータとを備え、
前記制御ユニットは、
前記モータの特性をモニタすることによって前記真空圧送サブシステムの負荷を決定するための手段と、
決定された前記真空圧送サブシステムの負荷に応じて前記システム内の少なくとも一つの他のサブシステムの作動を制御するための手段とを備える、制御ユニット。
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