JP2016036873A - 耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具 - Google Patents
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Abstract
Description
従来から、被覆工具としては、例えば、WC基超硬合金、TiCN基サーメット、cBN焼結体を工具基体とし、これに硬質被覆層を形成した被覆工具が知られており、切削性能の改善を目的として種々の提案がなされている。
したがって、高速切削加工に供した場合であっても、長期にわたって安定した耐摩耗性を発揮するような被覆工具が求められている。
また、A層とB層との蒸着条件を制御することで、A層とB層との結晶配向性を揃えることによって、A層とB層との層間付着強度を向上させることにより、チッピング、欠損、剥離等の異常損傷を招くことなく耐摩耗性を向上させ得ることを見出したのである。
「 WC超硬合金、TiCN基サーメット、立方晶型窒化硼素焼結体のいずれかからなる工具基体の表面に、A層とB層が積層された硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、
(a)前記A層は、
組成式:(Ti1−xAlx)N(但し、xは原子比で、0.45≦x≦0.65)を満足する岩塩型立方晶の結晶構造を有し、0.1〜1.0μmの平均層厚と0.01〜0.1μmの結晶粒の平均幅を有する微細粒状結晶組織のTiとAlの窒化物層からなり、
(b)前記B層は、
組成式:(Ti1−yAly)N(但し、yは原子比で、0.4≦y≦0.65)を満足する岩塩型立方晶の結晶構造を有し、0.5〜3.0μmの平均層厚を有する柱状結晶組織のTiとAlの窒化物層からなり、
(c)前記B層の柱状結晶粒を工具基体表面に垂直な縦断面で観察した場合、工具基体表面に垂直な方向の最大結晶粒長さLがB層の平均層厚の60%以上であって、かつ、柱状結晶粒の近似幅が0.1〜1.5μmおよびアスペクト比が1.4以上であって、かつ、前記最大結晶粒長さLの工具基体側から0.2L、0.8Lの高さ位置においてそれぞれ測定した柱状結晶粒の幅W0.2、W0.8と柱状結晶粒の近似幅との差がそれぞれ20%以内である柱状結晶粒が、工具基体表面に垂直なB層の縦断面面積の50%以上の面積割合を占め、
(d)前記A層と硬質被覆層全体について、X線回折によって(200)面の回折ピーク強度をI(200)、(111)面の回折ピーク強度をI(111)として求めた時、I(200)/I(111)が7〜20であることを特徴とする表面被覆切削工具。」
を特徴とするものである。
なお、本発明は、A層とB層の積層からなる前記硬質被覆層を最大の特徴とするものであるが、本発明の前記硬質被覆層の上部に、表面層として、耐摩耗性や潤滑性に優れる窒化物、炭窒化物等の他の層をさらに設けることを妨げるものではない。なお、この表面層としては、例えば、TiN層、CrN層、TiCN層、TiSiN層、AlCrN層、AlTiSiN層などを挙げることができる。
図1の模式図に示すように、A層は、組成式:(Ti1−xAlx)N(但し、xは原子比で、0.45≦x≦0.65)を満足する0.1〜1.0μmの平均層厚を有する(Ti,Al)N層として構成するが、A層におけるAl成分の含有量が、Ti成分との合量に占める割合で0.45(但し、原子比)未満になると結晶粒が粗大化しやすくなり、一方、Ti成分との合量に占める割合で0.65(但し、原子比)を超えると、一部組織の結晶構造が岩塩型結晶構造から六方晶構造に変化し、硬さが低下することから、A層におけるTi成分との合量に占めるAl成分の含有割合xは、0.45≦a≦0.65と定めた。より好ましい組成範囲としては0.55≦x≦0.65である。
また、上記A層の平均層厚が0.1μm未満であると、クラックの発生および進展を抑制する効果が十分でなく、一方、A層の平均層厚が1.0μmを超えると、結晶粒が粗大化しやすくなり、耐チッピング性向上効果が得られなくなることから、A層の平均層厚は0.1〜1.0μmと定めた。
なお、本発明でいう結晶粒の「近似幅」、「平均幅」とは、工具基体表面に垂直な縦断面の走査型電子顕微鏡(SEM)を用いた断面観察により得られた縦断面画像について、電子線後方散乱回折法(Electoron BackScatter Diffraction:EBSD)によって層を形成する各粒子の形状を決定し、一つ一つの結晶粒子について、工具基体表面に垂直な方向の最大結晶粒長さLをとり、最大結晶粒長さLを基準として、工具基体表面に垂直な縦断面における断面積が等価になるように粒子の形状を長方形近似し、算出した最大結晶粒長さLに直交する長さを「近似幅」と言い、縦断面画像内の全粒子の「近似幅」を平均した値を「平均幅」という。
ここで、工具基体表面とは、基体の硬質被覆層と接する面の面方向に垂直な断面の観察像における、基体と硬質被覆層の界面粗さの基準線とする。
また、A層の結晶粒のアスペクト比(結晶粒の最大結晶粒長さL/結晶粒の近似幅)について特段の規定はしないが、クラックの進展経路を分散し、異常損傷を低減する観点からは、各粒子の平均のアスペクト比は1.0〜1.5であることが望ましい。
図1の模式図に示すように、B層は、組成式:(Ti1−yAly)N(但し、yは原子比で、0.4≦y≦0.65)を満足する0.5〜3.0μmの平均層厚を有する柱状結晶粒組織の(Ti,Al)N層として構成するが、B層におけるAl成分の含有量を、Ti成分との合量に占める割合で0.4(但し、原子比)未満にすると十分な耐摩耗性が得られず、一方、Ti成分との合量に占めるAl成分の含有割合が0.65(但し、原子比)を超えると、A層の場合と同様、一部組織の結晶構造が岩塩型結晶構造から六方晶構造に変化し、硬さが低下することから、B層における、Ti成分との合量に占めるAl成分の含有割合yは、0.4≦a≦0.65と定めた。
また、上記B層の平均層厚が0.5μm未満であると、十分な耐摩耗性が得られず、一方、3.0μmを超えると皮膜が自壊しやすくなるので、B層の平均層厚は0.5〜3.0μmと定めた。
なお、A層、B層の平均組成、平均層厚については、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscopy:SEM)、透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope:TEM)、エネルギー分散型X線分光法(Energy Dispersive X−ray Spectroscopy:EDS)を用いた断面測定により、測定することができる。ここで、各層の層厚とは工具基体表面に垂直な方向の層の厚みとする。
まず、B層を構成する(Ti,Al)N結晶粒の近似幅が0.1μm未満では十分な耐摩耗性を発揮することができず、一方、近似幅が1.5μmを超えるとB層内の結晶粒界が少なくなり耐チッピング性が低下することから、B層を構成する(Ti,Al)N結晶粒の近似幅は0.1〜1.5μmとする。
また、前記近似幅を備える結晶粒であっても、工具基体表面に垂直な方向の最大結晶粒長さLがB層の平均層厚の60%未満である場合、或いは、結晶粒のアスペクト比(結晶粒の最大結晶粒長さL/結晶粒の近似幅)が1.4未満である場合には、十分な耐摩耗性が得ることができないので、B層を構成する(Ti,Al)N結晶粒の工具基体表面に垂直な方向の最大結晶粒長さLはB層の平均層厚の60%以上とし、また、アスペクト比(結晶粒の最大結晶粒長さL/結晶粒の近似幅)は、1.4以上とする。
また、前記近似幅、最大結晶粒長さL、アスペクト比を備える結晶粒であっても、工具基体表面に垂直な方向の最大結晶粒長さLの工具基体側から0.2L、0.8Lの高さ位置における工具基体表面に平行な方向の柱状結晶粒の幅W0.2、W0.8をそれぞれ測定したとき、測定した柱状結晶粒の幅W0.2、W0.8と柱状結晶粒の近似幅との差が20%を超える場合、あるいは、W0.2、W0.8と柱状結晶粒の近似幅との差が20%以内である柱状結晶粒が、工具基体表面に垂直なB層の縦断面面積の50%未満の面積割合しか存在しない場合には、B層が長期の使用にわたって十分な耐摩耗性を発揮することができない。
したがって、B層を構成する(Ti,Al)N結晶粒は、前記近似幅、最大結晶粒長さL、アスペクト比を備えるとともに、工具基体表面に垂直な方向の最大結晶粒長さLの工具基体側から0.2L、0.8Lの高さ位置において測定した柱状結晶粒のそれぞれの幅W0.2、W0.8と柱状結晶粒の近似幅との差は20%以内である長方形に近い形状を有し、かつ、このような柱状結晶組織の結晶粒は、工具基体表面に垂直なB層の縦断面面積の50%以上の面積割合を占めることが必要である。
なお、A層、B層の組成・平均層厚、A層の結晶粒の平均幅、B層を構成する結晶粒の形状についても、工具基体表面に垂直な硬質被覆層縦断面について、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscopy:SEM)、電子線後方散乱回折法(Electoron BackScatter Diffraction:EBSD)、透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope:TEM)、エネルギー分散型X線分光法(Energy Dispersive X−ray Spectroscopy:EDS)を用いた断面測定により、測定することができる。
すなわち、本発明では、A層とB層からなる硬質被覆層を、例えば、図2に示すアークイオンプレーティング装置を用いて成膜するが、アークイオンプレーティングに際してのアーク電流値、反応ガスとしての窒素ガス分圧および成膜速度を制御し、岩塩型立方晶構造における(111)面より表面エネルギーが小さい(200)面をゆっくりと成長させることで、A層とB層の配向性を揃え、かつ、A層とB層の界面から結晶粒の幅の広い柱状結晶組織を形成することができる。
そして、A層および硬質被覆層全体についてX線回折を行い、(200)面の回折ピーク強度をI(200)、(111)面の回折ピーク強度をI(111)とした場合、I(200)/I(111)の値が7未満であると、A層とB層との界面から結晶幅の広い柱状結晶を成長させることが困難であり、一方、I(200)/I(111)が20を超えるとB層の柱状結晶粒が粗大化しやすく、結晶粒界が少なくなり、高負荷な切削時の耐チッピング性、耐欠損性が低下するため、ピーク強度比I(200)/I(111)は7〜20とする。
なお、具体的な説明としては、cBN基体からなる被覆工具、超硬合金基体からなる被覆工具について説明するが、TiCN基サーメットを工具基体とする被覆工具についても同様である。
原料粉末として、平均粒径が1〜4μmのcBN粒子を硬質相形成用原料粉末として、また、TiN粉末、TiC粉末、TiCN粉末、Al粉末、AlN粉末、Al2O3粉末を結合相形成用原料粉末として用意する。
これら中からいくつかの原料粉末とcBN粉末の合量を100体積%としたときのcBN粒子の含有割合が50容量%となるように表1に示される配合比で配合する。
次いで、この原料粉末をボールミルで72時間湿式混合し、乾燥した後、成形圧100MPaで直径:50mm×厚さ:1.5mmの寸法にプレス成形し、ついでこの成形体を、圧力:1Pa以下の真空雰囲気中、900〜1300℃の範囲内の所定温度に保持して仮焼結し、その後、超高圧焼結装置に装入して、圧力:5GPa、温度:1200〜1400℃の範囲内の所定の温度で焼結することにより、cBN基焼結体を作製する。
この焼結体をワイヤー放電加工機で所定寸法に切断し、Co:5質量%、TaC:5質量%、WC:残りの組成およびISO規格CNGA120408のインサート形状をもったWC基超硬合金製インサート本体のろう付け部(コーナー部)に、質量%で、Cu:26%、Ti:5%、Ag:残りからなる組成を有するAg系ろう材を用いてろう付けし、上下面および外周研磨、ホーニング処理を施すことによりISO規格CNGA120408のインサート形状をもったcBN工具基体1〜3を製造した。
前記工具基体1〜3に対して、図2に示すアークイオンプレーティング装置を用いて、硬質被覆層を形成した。
なお、図2のTi−Al合金ターゲットとしては、目標とする(Ti,Al)N層に応じて、組成の異なる複数のTi−Al合金ターゲットを装置内に配備する。
(a)工具基体1〜3を、アセトン中で超音波洗浄し、乾燥した状態で、アークイオンプレーティング装置内の回転テーブル上の中心軸から半径方向に所定距離離れた位置に外周部にそって装着する。また、カソード電極(蒸発源)として、所定組成のTi−Al合金ターゲットを配置する。
(b)まず、装置内を排気して10−2Pa以下の真空に保持しながら、ヒーターで装置内を500℃に加熱した後、0.5〜2.0PaのArガス雰囲気に設定し、前記回転テーブル上で自転しながら回転する工具基体に−200〜−1000Vの直流バイアス電圧を印加し、もって工具基体表面をアルゴンイオンによって5〜30分間ボンバード処理する。
(c)次に、A層の成膜を、次のとおり行う。
装置内に反応ガスとして窒素ガスを導入して表2に示す0.5〜4Paの所定の反応雰囲気とすると共に、同じく表2に示す装置内温度に維持し、前記回転テーブル上で自転しながら回転する工具基体に表2に示す−25〜100Vの所定の直流バイアス電圧を印加し、かつ、前記所定組成のTi−Al合金ターゲットからなるカソード電極(蒸発源)とアノード電極との間に表2に示す110〜200Aの所定の電流を同時に所定時間流してアーク放電を発生させ、前記工具基体の表面に、表4に示される目標組成、目標平均層厚の(Ti,Al)N層からなるA層を蒸着形成した。
(d)次いで、B層の成膜を、次のとおり行う。
まず、装置内に反応ガスとして窒素ガスを導入して表2に示す2〜10Paの範囲内の所定の反応雰囲気とすると共に、同じく表2に示す装置内温度に維持し、前記回転テーブル上で自転しながら回転する工具基体に表2に示す−25〜−75Vの範囲内の所定の直流バイアス電圧を印加し、かつ、前記Ti−Al合金ターゲットからなるカソード電極(蒸発源)とアノード電極との間に表2に示す80〜120Aの範囲内の所定の電流を流してアーク放電を発生させ、前記A層表面に、表4に示される目標組成、目標平均層厚の(Ti,Al)N層からなるB層を蒸着形成した。
上記の(a)〜(d)によって、A層およびB層の積層からなる硬質被覆層を蒸着形成した表4に示す本発明の被覆工具(以下、「本発明工具」という)1〜6を作製した。
なお、比較例工具の下部層および上部層は、それぞれ、本発明のA層、B層に対応させる層であることから、以下においては、比較例工具の下部層および上部層を、それぞれを便宜的にA層、B層ということとする。
具体的には、集束イオンビーム(Focused Ion Beam:FIB)を用いた加工により、工具基体のホーニング面と逃げ面の成す稜線から逃げ面の方向に100μmの位置に硬質被覆層の工具基体表面に垂直な縦断面を作製し、基材表面に平行な方向の幅が10μmであり、硬質被覆層の厚み領域が全て含まれるよう設定された視野においてステップ間隔0.02μmの条件でEBSDによる測定、解析を実施し、測定点のうち、隣り合う点で結晶方位が2°以上異なる境目を結晶粒界として判断し、A層、B層の結晶の形状を決定した。また、0.02μm以下の結晶粒については透過型電子顕微鏡(TEM)によって結晶粒の形状を直接観察し、画像のコントラストから結晶粒界を定めた。なお、EBSD測定を実施した視野と同じ画像視野において、0.02μm以上の結晶粒形状についても透過型電子顕微鏡(TEM)を用いた測定によって結晶形状を確認し、いずれの手法でも同等の結果が得られることを確認している。工具基体表面については、硬質被覆層の工具基体表面に垂直な縦断面においてEDSを用いた元素マッピングを実施することによってA層と工具基体の界面を定め、こうして得られたA層と工具基体との界面の粗さ曲線について、平均線を算術的に求め、これを工具基体表面とした。
次に、上記手順で決定したA層、B層の各結晶粒形状に対して、工具基体表面に垂直な長さを求め、最大結晶粒長さLを求めた。この最大結晶粒長さLを基準として、断面画像中の結晶粒の面積と等価な面積となるような長方形を定め、長方形の工具基体表面に平行な方向の長さを求め、各結晶粒の近似幅とし、さらに最大結晶粒長さLを近似幅で除して各結晶粒のアスペクト比を求めた。A層については断面画像中の全粒子に上記の操作を行い、それらの近似幅およびアスペクト比を平均し、硬質被覆層をなす結晶粒の平均幅と平均アスペクト比を求めた。 さらに、EBSDから求めたB層の各結晶粒の形状について、工具基体表面に垂直な方向の最大結晶粒長さLの工具基体側から0.2L、0.8Lの高さ位置における工具基体表面に平行な方向の柱状結晶粒の幅W0.2、W0.8を求め、B層の結晶粒のうち、最大結晶粒長さLがB層の平均層厚の60%以上であり、かつ近似幅が0.1〜1.5μmであり、かつアスペクト比が1.4以上であり、かつ最大結晶粒長さLの工具基体側から0.2L、0.8Lの高さ位置における工具基体表面に平行な方向の柱状結晶粒の幅W0.2、W0.8が近似幅に対してそれぞれ20%以内の差である柱状結晶粒を決定した。さらに、観察画像の視野内におけるこのような柱状結晶粒の縦断面面積を合計し、観察画像中のB層の縦断面面積で除することで、本願で規定する特徴的な柱状結晶粒が工具基体表面に垂直なB層の縦断面面積に占める面積割合を算出した。
また、A層の回折ピーク強度については、成膜後に上部層Bを集束イオンビーム(Focused Ion Beam:FIB)法などの手法で加工・除去したのち、前述したX線回折法を用いることで測定し、(200)面の回折ピーク強度I(200)と、(111)面の回折ピーク強度I(111)からI(200)/I(111)を求めた。
切削条件A:
被削材:JIS・SCr420の浸炭焼入れ材(HRC60)の丸棒、
切削速度:260 m/min.、
切り込み:0.15 mm、
送り:0.15 mm、
の乾式連続切削条件で切削試験を行い、切削長910mまで切削し、逃げ面摩耗幅を測定した。
表6にその結果を示す。
原料粉末として、Co粉末、VC粉末、Cr3C2粉末、TiC粉末、TaC粉末、NbC粉末、WC粉末を用意し、これら原料粉末を、表7に示される配合組成に配合し、さらにワックスを加えてボールミルで72時間湿式混合し、減圧乾燥した後、100MPaの圧力でプレス成形し、これらの圧粉成形体を焼結し、所定寸法となるように加工して、ISO規格SEEN1203AFTN1のインサート形状をもったWC基超硬合金工具基体11〜13を
製造した。
前記WC基超硬合金工具基体11〜13に対して、図2に示したようなアークイオンプレーティング装置を用いて、実施例1の場合と同様にして、表8に示す条件で硬質被覆層を蒸着形成することにより、表10に示すA層とB層を有する本発明被覆工具(「本発明工具」という)11〜16を作製した。
また、A層とB層の結晶粒の工具基体表面に垂直な方向の最大結晶粒長さL、近似幅、アスペクト比およびB層の結晶粒の最大結晶粒長さLの工具基体側から0.2L、0.8Lの高さ位置における柱状結晶粒の幅W0.2、W0.8、このような柱状結晶粒が工具基体表面に垂直なB層の縦断面面積に占める面積割合については、走査型電子顕微鏡(SEM)、電子線後方散乱回折法(EBSD)、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いた断面観察により、算出した。
さらに、A層および硬質被覆層全体の回折ピーク強度比I(200)/I(111)は、Cr管球を用いたX線回折により求めた。
表10、表11に、上記で求めた各種の値を示す。
切削条件B:
被削材:JIS・S45Cのブロック材(幅60mm×長さ250mm)、
切削速度:260 m/min.、
回転速度:662 rev/min、
切り込み:1.5 mm、
送り:0.15 mm/刃、
切削幅:60 mm
の条件で、切削長1300mまで切削し、逃げ面摩耗幅を測定した。
表12にその結果を示す。
この結果から、本発明工具は、比較例工具に比して、耐チッピング性、耐欠損性、耐剥離性等の異常損傷性とともに耐摩耗性のいずれにおいてもすぐれていることが分かる。
Claims (1)
- WC超硬合金、TiCN基サーメット、立方晶型窒化硼素焼結体のいずれかからなる工具基体の表面に、A層とB層が積層された硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、
(a)前記A層は、
組成式:(Ti1−xAlx)N(但し、xは原子比で、0.45≦x≦0.65)を満足する岩塩型立方晶の結晶構造を有し、0.1〜1.0μmの平均層厚と0.01〜0.1μmの結晶粒の平均幅を有する微細粒状結晶組織のTiとAlの窒化物層からなり、
(b)前記B層は、
組成式:(Ti1−yAly)N(但し、yは原子比で、0.4≦y≦0.65)を満足する岩塩型立方晶の結晶構造を有し、0.5〜3.0μmの平均層厚を有する柱状結晶組織のTiとAlの窒化物層からなり、
(c)前記B層の柱状結晶粒を工具基体表面に垂直な縦断面で観察した場合、工具基体表面に垂直な方向の最大結晶粒長さLがB層の平均層厚の60%以上であって、かつ、柱状結晶粒の近似幅が0.1〜1.5μmおよびアスペクト比が1.4以上であって、かつ、前記最大結晶粒長さLの工具基体側から0.2L、0.8Lの高さ位置においてそれぞれ測定した柱状結晶粒の幅W0.2、W0.8と柱状結晶粒の近似幅との差がそれぞれ20%以内である柱状結晶粒が、工具基体表面に垂直なB層の縦断面面積の50%以上の面積割合を占め、
(d)前記A層と硬質被覆層全体について、X線回折によって(200)面の回折ピーク強度をI(200)、(111)面の回折ピーク強度をI(111)として求めた時、I(200)/I(111)が7〜20であることを特徴とする表面被覆切削工具。
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