JP2016032789A - 窒素酸化物浄化触媒及び内燃機関の排ガス浄化装置並びに排ガス浄化フィルタ - Google Patents
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 158
- 239000007789 gas Substances 0.000 title claims abstract description 125
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 87
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 title claims description 52
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 305
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 176
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 176
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 103
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 102
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 148
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 claims description 33
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 31
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 17
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 27
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 24
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 24
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 20
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 12
- 101100460719 Mus musculus Noto gene Proteins 0.000 abstract 1
- 101100187345 Xenopus laevis noto gene Proteins 0.000 abstract 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 24
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 13
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 12
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 8
- 229940105289 carbon black Drugs 0.000 description 8
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 6
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 230000009471 action Effects 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 5
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 4
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000026 X-ray photoelectron spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 SiOC 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000005173 quadrupole mass spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910000505 Al2TiO5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 1
- WHWMXYJYULKLCO-UHFFFAOYSA-N [Ir+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O Chemical compound [Ir+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O WHWMXYJYULKLCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000000791 photochemical oxidant Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N propan-2-yl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 210000002345 respiratory system Anatomy 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
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Abstract
Description
前記酸化物層は、SiOC3、SiO2C2及びSiO3Cの群から選択される1種または2種以上を含有していてもよい。
本発明の一実施形態の窒素酸化物(NOx)浄化触媒は、炭化ケイ素粒子の表面にイリジウム粒子が担持された触媒であって、このイリジウム粒子が炭化ケイ素粒子の表面に形成されたSiOxCy(ただし、0<x≦3、0≦y≦3)を含む非晶質の酸化物層により部分的に覆われた状態で担持されているNOx浄化触媒である。
本実施形態の触媒粒子1は、炭化ケイ素粒子2の表面にイリジウム粒子3が1個のみ担持されていてもよく、2個以上担持されていてもよい。
ここで、炭化ケイ素粒子2の平均一次粒子径が0.01μm未満では、この触媒を高温下で使用した際に、この炭化ケイ素粒子2の表面活性が高くなり過ぎてしまい、触媒粒子1同士のシンタリング(粒成長)が進行して粒子径が粗大となり、触媒活性が低下するので好ましくない。一方、炭化ケイ素粒子2の平均一次粒子径が5μmを超えると、炭化ケイ素粒子2の比表面積が減少するために、炭化ケイ素粒子2の表面上に形成される酸化物層4の絶対量が減少するため、酸化物層4により吸着できる排ガス中の酸素量が減少し、その結果イリジウム粒子3に対しても排ガス中の酸素が作用するようになるためにイリジウム粒子3の表面が酸化してしまい、触媒活性が低下するので好ましくない。
イリジウム粒子3の平均一次粒子径が1nm未満では、イリジウム粒子3が酸化物層4に完全に覆われてしまい触媒活性が失活する虞がある。一方、平均一次粒子径が20nmを超えると、イリジウム粒子3が酸化物層4による被覆が不十分となり、酸化物層4によるイリジウム粒子3の移動抑制効果が十分に得られず、イリジウム粒子3のシンタリングが生じて触媒活性が低下する虞がある。
また、ケイ素炭化酸化物は酸素吸着能が高いため、排ガス中のO2は酸化物層4に選択的に吸着する。これにより、イリジウム粒子3にはCO、NOxが優先して吸着するので、イリジウム粒子3によるNOx還元触媒活性(NOx浄化作用)が向上する。さらに、排ガス中のO2がほとんどイリジウム粒子3に作用しないため、イリジウム粒子が酸化されることがなく、よってイリジウム粒子3の耐酸化性が向上し触媒活性が長期的に維持される。
また、酸化物層4中に結晶性のSiOxCy(ただし、0<x≦3、0≦y≦3)を存在させることにより、さらに高温、例えば1000℃以上の高温下での安定性を増すことも可能となる。ただし、酸化物層4全体を結晶性物質とすることは、耐高温性以外の点、例えばイリジウム粒子3との結合性が低下する等の不具合が生じる虞があるので好ましくない。
酸化物層4の厚みの平均値が1nm未満では、酸化物層4によるイリジウム粒子3の被覆が不十分となり、酸化物層4によるイリジウム粒子3の移動抑制効果が十分に得られず、イリジウム粒子3のシンタリングが生じて触媒活性が低下する虞がある。一方、酸化物層4の厚みの平均値が40nmを超えると、イリジウム粒子3が酸化物層4に完全に覆われてしまい触媒活性が失活する虞がある。
酸化物層4の厚みの平均値がイリジウム粒子3の平均一次粒子径の0.5倍未満では、酸化物層4によるイリジウム粒子3の被覆率が50%未満となる虞があり、その結果、酸化物層4によるイリジウム粒子3の被覆が不十分となるために、酸化物層4によるイリジウム粒子3の移動抑制効果が十分に得られず、イリジウム粒子3のシンタリングが生じて触媒活性が低下する虞がある。一方、酸化物層4の厚みの平均値がイリジウム粒子3の平均一次粒子径の2.5倍を超えると、酸化物層4によるイリジウム粒子3の被覆率が99%を超える、すなわちイリジウム粒子3が酸化物層4に完全に覆われてしまう虞が生じ、触媒活性が失活する虞がある。
ここでイリジウム粒子の表面積の合計値STは、例えば、次のように求められる。
まず、透過型電子顕微鏡の観察画像から任意に数10個以上のイリジウム粒子を選び、各イリジウム粒子の一次粒子径を測定してその平均値DAV(平均一次粒子径)を求め、その平均一次粒子径DAVから、イリジウム粒子が球形だと仮定して、式(1)を用いてイリジウム粒子1個あたりの表面積の平均値SAVを求める。
式(1):SAV=4π(DAV/2)2
次に、やはり透過型電子顕微鏡の観察画像を基にして、電子顕微鏡観察試料中のイリジウム粒子数を求め、この電子顕微鏡観察試料中のイリジウム粒子の表面積の合計値を求める。そして、この電子顕微鏡観察試料と、次項に示す「酸化物層外部に露出しているイリジウム粒子の表面積」測定試料との量比から、電子顕微鏡観察試料中のイリジウム粒子の表面積の合計値を「酸化物層外部に露出しているイリジウム粒子の表面積」測定試料に合わせて規格化することで、イリジウム粒子の表面積の合計値STを算出することができる。
そして、上記のようにして求めたイリジウム粒子の表面積の合計値STと、触媒活性点として作用するイリジウム粒子の表面積SCから、式(2)として、被覆率が求められる。
式(2):被覆率=(ST−SC)/ST×100 (%)
本実施形態のNOx浄化触媒粒子の製造方法は、炭化ケイ素粒子2を準備する炭化ケイ素粒子工程と、炭化ケイ素粒子2の表面にイリジウム粒子3を担持する工程と、炭化ケイ素粒子2の表面にSiOxCy(ただし、0<x≦3、0≦y≦3)を含む非晶質の酸化物層4を形成する酸化物層形成工程とを有する。
初めに、触媒粒子の母材となる炭化ケイ素粒子を準備する。
炭化ケイ素粒子の平均一次粒子径は、要求されるNOx浄化触媒および排ガス浄化装置の特性に合わせて選定すればよいが、0.01μm以上かつ5μm以下の範囲であることが好ましい。この炭化ケイ素粒子は、既述の方法、すなわちナノメートルサイズの粒子であれば、熱プラズマ法やシリカ前駆体焼成法等、サブミクロンからミクロン(マイクロメートル)サイズの炭化ケイ素粒子であれば、アチソン法、シリカ還元法、シリコン炭化法等を用いて得ることができる。
イリジウム粒子担持工程は、母材となる炭化ケイ素粒子の表面に、イリジウム粒子を担持し、イリジウム担持炭化ケイ素粒子を形成する工程である。
初めに、イリジウム源となるイリジウム塩類を溶解した溶液、あるいはイリジウム化合物微粒子を分散させた分散液を作製する。溶媒や分散媒は水が好適であるが、イリジウム源が水で分解・沈殿するような場合には、有機溶媒を用いてもよい。この有機溶媒としては極性溶媒が好ましく、アルコール類、ケトン類等が好適に用いられる。
酸化物層形成工程は、イリジウム粒子を担持させた炭化ケイ素粒子を酸化処理して、イリジウム粒子担持炭化ケイ素粒子の表面に酸化物層を形成し、NOx浄化触媒(イリジウム粒子を担持し表面酸化物層が形成された炭化ケイ素粒子)を形成する工程である。
本発明の一実施形態の内燃機関の排ガス浄化装置は、内燃機関の排気経路中に配置される排ガス浄化触媒により前記内燃機関からの排ガスを浄化する排ガス浄化装置であって、前記排ガス浄化触媒の少なくとも一種は、本実施形態のNOx浄化触媒である。
また、フィルタ基体としては、炭化ケイ素、コーディエライト、チタン酸アルミニウム、窒化ケイ素等の耐熱性を有する多孔質セラミックス構造体が挙げられる。
ここで、触媒粒子21aは、炭化ケイ素粒子22の表面に1個のイリジウム粒子23が担持されており、このイリジウム粒子23が酸化物層24により一部覆われた状態で炭化ケイ素粒子22の表面に担持されている構造を有する。
また、触媒粒子21bは、炭化ケイ素粒子22の表面に2個のイリジウム粒子23が担持されており、これらのイリジウム粒子23が酸化物層24により一部覆われた状態で炭化ケイ素粒子22の表面に担持されている構造を有する。
触媒粒子の担持するイリジウム粒子23の数は、上記の1個または2個の他、3個以上も担持可能である。
本発明の一実施形態の排ガス浄化フィルタは、内燃機関の排ガスに含まれる粒子状物質を多孔質体からなるフィルタ基体を通過させることにより捕集し前記排ガスを浄化する排ガス浄化フィルタであって、前記フィルタ基体は、多孔質体からなる隔壁と、該隔壁により形成されるとともに粒子状物質を含む排ガスの流入側端部が開放された流入側ガス流路と、前記フィルタ基体の前記流入側ガス流路と異なる位置に設けられ、前記隔壁により形成されるとともに排ガスの流出側端部が開放された流出側ガス流路と、を備え、前記隔壁の少なくとも前記流入側ガス流路側の表面に、本実施形態のNOx浄化触媒を含有しかつ前記隔壁より小さな平均気孔径を有する多孔質膜が形成されている。
ここで、平均気孔径が0.05μm未満では、PMを含む排ガスが多孔質膜を通過する場合の圧力損失が大きくなるため好ましくない。また、平均気孔径が3μmを超えると、多孔質膜の気孔径と隔壁の気孔径とが実質的に同等となり、多孔質膜にPMの捕集機能を持たせることができなくなる。
なおここで、多孔質体からなる隔壁の平均気孔径は、5μm以上かつ50μmであることが好ましい。
気孔率が50%未満では、多孔質膜の平均気孔率が隔壁の気孔率と同等か低くなるために、圧力損失を招く虞がある。また、気孔率が90%を超えると、多孔質膜の械的強度が低下するために、多孔質膜自体の変形や壁面表面からの剥がれが発生し、PM捕集特性が低下するだけでなく、NOx浄化触媒の脱落により触媒作用が低下する虞がある。
また、多孔質膜の厚み(膜厚)は、隔壁の表面において気孔が開口している開口部と平面的に重なる箇所においては60μm以下であり、かつ隔壁の表面において隔壁を構成するセラミックス材料が存在する部分と平面的に重なる箇所においては5μm以上かつ60μm以下であることが好ましい。
さらに、多孔質膜の気孔径が隔壁より小さく、かつ多孔質膜の気孔率や膜厚を特定の範囲としたので、排ガス中に含まれるPMの捕集性に優れ、PM捕集後の圧力損失の増加も抑制することができる。さらにまた、本実施形態のNOx浄化触媒粒子表面には酸素吸着性を有するSiOxCy(ただし、0<x≦3、0≦y≦3)が存在することから、捕集されたPMの燃焼性改善による再生時間の短縮や再生温度の低下も図ることができる。
これらにより、NOxやPMに対する高い浄化性が長期的に維持された、信頼性の高い排ガス浄化フィルタを得ることができる。
平均一次粒子径が0.035μmの炭化ケイ素粒子15gを、純水270gに解謬剤としてポリカルボン酸を溶解した分散剤に添加し、この状態で分散媒体としてモノボールを用いた分散処理を24時間施した。
このようにして得られたスラリーに、炭化ケイ素粒子に対してイリジウムの割合が6.6質量%(Irとして0.99g)となるよう硝酸イリジウム(IV)溶液を添加し、再度分散媒体を用いた分散処理を120分実施後、固液分離によりスラリーから分散媒体を除去した。その後、100℃、12時間加熱してスラリーを乾燥させた後、以下の熱処理条件で熱処理を行うことにより実施例1のNOx浄化触媒を作製した。
なお、熱処理条件の第一段階および第二段階は、還元性ガスを含まない不活性雰囲気中の熱処理でイリジウム塩類(硝酸塩)を分解することによるイリジウム粒子担持工程である。また、第三段階は、酸化処理による酸化物層形成工程である。
第一段階:温度650℃、保持時間180min(分)、雰囲気N2
第二段階:温度1000℃、保持時間60min(分)、雰囲気Ar
第三段階:温度700℃、保持時間20h(時間)、雰囲気Air
熱処理工程の第三段階の保持時間が40時間であること以外は、実施例1と同様にして実施例2のNOx浄化触媒を作製した。
熱処理工程の第三段階の温度が900℃であること以外は、実施例1と同様にして実施例3のNOx浄化触媒を作製した。
熱処理工程の第三段階の保持時間が5時間であること以外は、実施例1と同様にして実施例4のNOx浄化触媒を作製した。
熱処理工程の第三段階の温度が400℃であること以外は、実施例1と同様にして実施例5のNOx浄化触媒を作製した。
熱処理工程の第三段階の温度が1100℃であること以外は、実施例1と同様にして実施例6のNOx浄化触媒を作製した。
熱処理工程の第三段階の保持時間が60時間であること以外は、実施例1と同様にして比較例1のNOx浄化触媒を作製した。
熱処理工程の第三段階の温度が1200℃であること以外は、実施例1と同様にして比較例2のNOx浄化触媒を作製した。
炭化ケイ素粒子の代わりにシリカ粒子を用いること以外は、実施例1と同様にして比較例3のNOx浄化触媒を作製した。
作製したNOx浄化触媒のイリジウム粒子の平均一次粒子径の評価を、電界放出型透過電子顕微鏡(FE−TEM)を用いて行った。ここでイリジウム粒子の平均一次粒子径については、画像を基に任意のイリジウム粒子50個を選択して一次粒子径を実測し、これらの平均値をイリジウム粒子の平均一次粒子径DAVとした。
作製したNOx触媒粒子の酸化物層の結晶状態と組成の測定を、電界放出型透過電子顕微鏡(FE−TEM)とX線光電子分光法(XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy)分析を用いて行った。
また、酸化物層の厚みは、TEM画像を基に50個の炭化ケイ素粒子表面の酸化物層の厚みを実測し、これらの平均値を酸化物層の厚みとした。
作製したNOx触媒粒子の酸化物層によるイリジウム粒子の被覆率は、次のようにして算出した。まず、前記のようにして測定したイリジウム粒子の平均一次粒子径DAVから、式(SAV=4π(DAV/2)2)を用いてイリジウム粒子1個あたりの表面積の平均値SAVを求めた。次いで、透過型電子顕微鏡の観察画像から求めた電子顕微鏡観察試料中のイリジウム粒子数n、電子顕微鏡観察試料の質量と、次に示すCOパルス吸着法に用いた試料との質量比mPをそれぞれ求め、これらの値から、式(ST=SAV×n×mP)により、イリジウム粒子の表面積の合計値STを求めた。
次いで、触媒活性点として作用するイリジウム粒子の表面積SCを、COパルス吸着法を用いて測定したCO吸着量から算出した。
そして、求めたイリジウム粒子の表面積の合計値STと、触媒活性点として作用するイリジウム粒子の表面積SCから、次式により被覆率を求めた。
作製したNOx浄化触媒のNOx浄化性能を評価するために、表1に示すモデルガスを400℃で2時間NOx浄化触媒に流通させ、触媒流通前後でのNOx量を測定することで、浄化性能を測定した。なお、モデルガス流量は10L(リットル)/分とした。また、NOx浄化率は次式のように定義した。
本発明のNOx浄化触媒は、炭化ケイ素粒子表面にSiOxCy(ただし、0<x≦3、0≦y≦3)を含む非晶質の酸化物層が形成されていることから、排ガス浄化フィルタに用いた際に、捕集したPMの燃焼性改善を図ることができる。この点を確認するため、疑似PMとしてのカーボンブラック粒子を用いて燃焼試験を行い、NOx浄化触媒のPM燃焼特性を評価した。
評価用試料としては、実施例1のNOx浄化触媒を用いた。参照例としてカーボンブラック粒子のみで同様に燃焼試験を行い、その値を参照値とした。
まず、NOx浄化触媒粒子とカーボンブラック(商品名:Acetylene carbonblack)とを、NOx浄化触媒粒子:カーボンブラック=5:1(質量比)の比率で混ぜ合わせ、その後、乳鉢及び乳棒で十分に混合し、測定用試料とした。次いで、昇温脱離スペクトル装置(TPD装置)を用いて、測定用試料を大気中にて10℃/分の昇温速度にて昇温させ、発生するCO及びCO2のそれぞれの濃度を四重極質量分析(Q−MASS)にて測定した。
このCO及びCO2の発生濃度が最大となる温度(ピーク温度)を測定してカーボン燃焼温度とした。さらにカーボン燃焼時間を同時に測定することで、カーボン燃焼速度を算出した。このカーボン燃焼温度および燃焼速度を、カーボンブラック粒子のみを測定用試料としたものと比較検討することにより、NOx浄化触媒の燃焼特性を評価した。
これは、本発明のNOx浄化触媒が、NOx浄化(還元)作用だけでなく、PM燃焼(酸化)作用も併せ持つことを示すものであり、よって、本発明のNOx浄化触媒を含有させた排ガス浄化フィルタを用いることにより、ガソリンエンジンやディーゼルエンジン等の内燃機関から排出される排ガス中に含まれる窒素酸化物(NOx)及び粒子状物質(PM)を合わせて浄化処理できる排ガス浄化フィルタが得られることが示された。
Claims (5)
- 炭化ケイ素粒子の表面にイリジウム粒子が担持された触媒であって、
前記イリジウム粒子が、炭化ケイ素粒子の表面に形成されたSiOxCy(ただし、0<x≦3、0≦y≦3)を含む非晶質の酸化物層により部分的に覆われた状態で担持されていることを特徴とする窒素酸化物浄化触媒。 - 前記イリジウム粒子の表面のうち、前記炭化ケイ素粒子に接している部分の割合及び前記酸化物層に覆われている部分の割合の合計である被覆率が50%以上かつ99%以下である請求項1記載の窒素酸化物浄化触媒。
- 前記酸化物層が、SiOC3、SiO2C2及びSiO3Cの群から選択される1種または2種以上を含有していることを特徴とする請求項1又は2記載の窒素酸化物浄化触媒。
- 内燃機関の排ガス経路中に配置される触媒により前記内燃機関からの排ガスを浄化する排ガス浄化装置であって、前記触媒は、請求項1ないし3のいずれか1項記載の窒素酸化物浄化触媒を含有することを特徴とする内燃機関の排ガス浄化装置。
- 内燃機関の排ガスに含まれる粒子状物質を多孔質体からなるフィルタ基体を通過させることにより捕集し前記排ガスを浄化する排ガス浄化フィルタであって、
前記フィルタ基体は、多孔質体からなる隔壁と、該隔壁により形成されるとともに粒子状物質を含む排ガスの流入側端部が開放された流入側ガス流路と、前記フィルタ基体の前記流入側ガス流路と異なる位置に設けられ、前記隔壁により形成されるとともに排ガスの流出側端部が開放された流出側ガス流路と、を備え、
前記隔壁の少なくとも前記流入側ガス流路側の表面に、請求項1ないし3のいずれか1項記載の窒素酸化物浄化触媒を含有しかつ前記隔壁より小さな平均気孔径を有する多孔質膜が形成されていることを特徴とする排ガス浄化フィルタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014156183A JP6350076B2 (ja) | 2014-07-31 | 2014-07-31 | 窒素酸化物浄化触媒及び内燃機関の排ガス浄化装置並びに排ガス浄化フィルタ |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016032789A true JP2016032789A (ja) | 2016-03-10 |
JP6350076B2 JP6350076B2 (ja) | 2018-07-04 |
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2014
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