JP2013063421A - 排気浄化触媒及び内燃機関の排気浄化装置 - Google Patents
排気浄化触媒及び内燃機関の排気浄化装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013063421A JP2013063421A JP2012137914A JP2012137914A JP2013063421A JP 2013063421 A JP2013063421 A JP 2013063421A JP 2012137914 A JP2012137914 A JP 2012137914A JP 2012137914 A JP2012137914 A JP 2012137914A JP 2013063421 A JP2013063421 A JP 2013063421A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon carbide
- noble metal
- particles
- carbide particles
- supported
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000746 purification Methods 0.000 title claims abstract description 174
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 136
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 271
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 267
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 266
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 151
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims abstract description 103
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 39
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 claims description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 164
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 96
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 67
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 description 57
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 47
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 46
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 43
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 42
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 41
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 41
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 description 39
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 38
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 230000008569 process Effects 0.000 description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 28
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 27
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 20
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 19
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 18
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 18
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 18
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 18
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 18
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 18
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 17
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 17
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 16
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 16
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 12
- 229920005646 polycarboxylate Polymers 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 11
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 alumina Chemical class 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 3
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000505 Al2TiO5 Inorganic materials 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 2
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N propan-2-yl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000002421 anti-septic effect Effects 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052800 carbon group element Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 1
- 238000007569 slipcasting Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の排気浄化触媒は、炭化ケイ素粒子の表面に貴金属粒子が担持された触媒であって、この触媒は、炭化ケイ素粒子2の表面に貴金属粒子3が酸化物層4により覆われた状態で担持されている貴金属担持炭化ケイ素粒子1である。
【選択図】図1
Description
従来の排気浄化装置においては、アルミナ、セリア、ジルコニア等の金属酸化物からなるセラミックスや、一般式ABO3(ただし、A、Bは金属元素)で表されるペロブスカイト構造の金属複合酸化物を触媒担持体とし、これらに触媒機能を有する貴金属元素を担持させたものが、触媒として用いられており、この触媒に排ガス中に含まれる物質を接触させることで分解処理している(例えば特許文献1)。
低温時に効率的な浄化性能を得る方法としては、触媒として用いる貴金属元素の量を増やし、排ガスと貴金属元素との接触面積(接触確率)を増やすことが考えられる。しかしながら、排ガス浄化のための触媒活性を有する9族元素や10族元素等の貴金属元素は、多くのものが高価であることから、製造コストが増加するという問題点があった。
さらに、γ−アルミナからα−アルミナへの結晶転移による構造変化は、触媒成分のシンタリング(粒成長)を促進させる原因となる。また、これらの触媒を基材上に層状に形成する場合には、触媒の結晶転移による構造変化が形成層の剥離や脱落を生じさせる原因ともなる。
以上のことから、γ−アルミナ等の微粒子を用いた触媒は、高温下では触媒活性を維持することができない。
前記酸化物層は、さらに、SiO2、SiO、SiOC3、SiO2C2およびSiO3Cの群から選択される1種または2種以上の結晶質を含んでいてもよい。
前記炭化ケイ素粒子の平均一次粒子径は0.01μm以上かつ5μm以下であることが好ましい。
前記貴金属粒子の平均一次粒子径は、1nm以上かつ50nm以下であることが好ましい。
また、微細な炭化ケイ素粒子自体が高温における耐久性を有しており、貴金属粒子は酸化物層により覆われた状態で担持されているので、高温環境下においても、低温時と同様の高い触媒活性を維持することができる。
以上により、低温での高い触媒活性と、高温での高い耐久性と、を両立させることができ、その結果、低温領域から高温領域に亘って高い触媒活性を保ちつつ高い耐久性を維持することができる。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
本発明の一実施形態の排気浄化触媒は、炭化ケイ素粒子の表面に貴金属粒子が担持された触媒であって、この貴金属粒子が酸化物層により覆われた状態で担持されている排気浄化触媒である。
本実施形態の排気浄化触媒は、ガソリンエンジン、ディーゼルエンジンといった内燃機関からの排気を浄化するために好適に用いられ、例えば、ガソリン車、ディーゼル車といった自動車に用いることができる。
この貴金属粒子3は、炭化ケイ素粒子2の表面に1個のみ担持されていてもよく、2個以上担持されていてもよい。
ここで、炭化ケイ素粒子の平均一次粒子径が0.01μm未満では、この触媒を高温下で使用した際に、炭化ケイ素粒子同士のシンタリング(粒成長)が進行して粒子径が粗大となり、その結果、触媒活性点が減少するので好ましくない。一方、平均一次粒子径が5μmを越えると、炭化ケイ素粒子2の比表面積が減少するために、貴金属粒子を担持した際に、貴金属粒子間距離が短くなり、その結果、この触媒を高温下で使用した際に、貴金属粒子同士のシンタリング(粒成長)が進行し、触媒活性が低下するので好ましくない。
ここで、平均一次粒子径を1nm以上かつ50nm以下と限定した理由は、平均一次粒子径が1nm未満では、粒子径が小さすぎて表面活性が強くなりすぎてしまい、凝集し易くなるので、好ましくない。一方、平均一次粒子径が50nmを超えると、貴金属粒子が炭化ケイ素粒子表面の酸化物層により覆いきれなくなり、酸化物層から外方へ向かって突出するようになり、その結果、触媒特性が低下する虞があり、また、低温時における触媒活性が低下するので好ましくない。
この酸化物層4は、貴金属粒子3を炭化ケイ素粒子2の表面に保持する機能を有するので、高温環境下における貴金属粒子3の移動を抑制し、貴金属粒子3の焼結(シンタリング)による表面積の低下を防止することができる。
本発明の一実施形態の内燃機関の排気浄化装置は、内燃機関の排気経路中に配置される触媒により前記内燃機関からの排気を浄化する排気浄化装置であって、前記触媒の少なくとも一種は、本実施形態の排気浄化触媒である。
本実施形態の内燃機関の排気浄化装置は、例えば、ガソリン車、ディーゼル車といった自動車に用いられる。また排気浄化触媒は、排気経路中に配置されればよく、その配置の仕方は特に限定されないが、例えば、自動車(ガソリン車、ディーゼル車)に用いられる排気浄化用のハニカム基材、ディーゼル自動車用のDPF等の触媒担持部材に担持し、排気経路中に配置することができる。
この貴金属担持炭化ケイ素粒子1は、触媒としての機能を発揮することのできる状態であればよく、貴金属担持炭化ケイ素粒子1が多孔質層中に分散した状態であってもよく、いくつかの貴金属担持炭化ケイ素粒子1が凝集した状態で多孔質層中に配置されていてもよい。さらには、いくつかの貴金属担持炭化ケイ素粒子1が凝集して多孔質の連続した膜状の構造体を形成していてもよく、多孔質の凝集体状が形成されていてもよい。いずれの場合も触媒層と称することとする。また、貴金属担持炭化ケイ素粒子1のみではなく、他の触媒粒子や、無機粒子、金属粒子を含んでいてもよい。
ここで、貴金属担持炭化ケイ素粒子21aは、炭化ケイ素粒子22の表面に貴金属粒子23が担持されており、この貴金属粒子23は、酸化物層24により覆われた状態で炭化ケイ素粒子22の表面に担持されている。
また、貴金属担持炭化ケイ素粒子21bは、炭化ケイ素粒子22の表面に2個の貴金属粒子23が担持されており、これらの貴金属粒子23は、酸化物層24により覆われた状態で炭化ケイ素粒子22の表面に担持されている。
貴金属担持炭化ケイ素粒子の担持する貴金属粒子23の数は、上記の1個または2個の他、3個以上も担持可能である。
一方、表面被覆炭化ケイ素粒子25は、炭化ケイ素粒子22の表面が酸化物層24により覆われたもので、この炭化ケイ素粒子22の表面には貴金属粒子23は担持されていない。
さらに、貴金属担持炭化ケイ素粒子や表面被覆炭化ケイ素粒子には、必要に応じて、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、ホウ素(B)、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)等の3族元素−14族元素から選ばれた少なくとも1種類の元素またはそれらの酸化物、炭化物、窒化物を単独または複合させて含有することもできる。なお、他成分を含む場合の炭化ケイ素の割合は、80体積%以上が好ましく、90体積%以上がより好ましい。
その後、生成したNO2がN2に還元されることで、有害成分や粒子状物質が分解除去された浄化ガスは、大気中へ排出される。
本実施形態の排気浄化触媒及び内燃機関の排気浄化装置の製造方法について説明する。
本実施形態においては、始めに排気浄化触媒を製造し、その後、得られた排気浄化触媒を用いて排気浄化装置を製造する方法でもよく、一方、排気浄化装置を製造する過程において、同時に排気浄化触媒を作成する方法も可能である。そこで、以下の説明では、製造法を各工程に分けるとともに、初めに可能な工程順を示し、その後で各工程の詳細を記載する。
また、貴金属粒子担持工程[B]と基材への担持工程[D]は、共に、溶媒(分散媒)への溶解または分散、溶媒(分散媒)の乾燥除去、熱処理、という類似の工程を有する。従って、排気浄化装置の製造においては、貴金属粒子担持工程[B]と基材への担持工程[D]とを同時並行して行うことができる。
まず、排気浄化触媒の製造方法は、次の工程順となる。
(1−1):[A]→[B]→[C]
炭化ケイ素粒子に貴金属粒子を担持した後、この炭化ケイ素粒子に表面酸化物層を形成する方法である。上記制約を満たす工程順は、この1種のみである。
(2−1):[A]→[B]→[C]→[D]
排気浄化触媒(貴金属粒子を担持し表面酸化物層が形成された炭化ケイ素粒子)を製造した後、この排気浄化触媒を基材に担持する方法である。
(2−2):[A]→[B]→[D]→[C]
貴金属粒子を担持した炭化ケイ素粒子を形成し、この炭化ケイ素粒子を基材へ担持した後、表面酸化物層を形成する方法である。
(2−3):[A]→[D]→[B]→[C]
母材炭化ケイ素粒子を基材へ担持した後、当該担持された炭化ケイ素粒子に貴金属粒子を担持させ、その後表面酸化物層を形成する方法である。
(2−4):[A]→[B]=[D]→[C]
母材となる炭化ケイ素粒子への貴金属粒子担持と、母材となる炭化ケイ素粒子の基材への担持を同時に行った後、得られた貴金属粒子担持炭化ケイ素多孔質層に表面酸化物層を形成する方法である。
「母材準備工程」
母材となる炭化ケイ素粒子を準備する工程である。
炭化ケイ素粒子の平均一次粒子径は、要求される排気浄化触媒および排気浄化装置の特性に合わせて選定すればよいが、0.01μm以上かつ5μm以下の範囲であることが好ましい。この炭化ケイ素粒子は、既述の方法、すなわちナノメートルサイズの粒子であれば、熱プラズマ法やシリカ前駆体焼成法等、サブミクロンからミクロン(マイクロメートル)サイズの炭化ケイ素粒子であれば、アチソン法、シリカ還元法、シリコン炭化法等を用いて得ることができる。
母材となる炭化ケイ素粒子の表面、あるいは排気浄化装置を構成する基材へ担持され炭化ケイ素粒子多孔質層を形成した炭化ケイ素粒子の表面に、貴金属粒子を担持し、貴金属担持炭化ケイ素粒子、あるいは貴金属担持炭化ケイ素粒子からなる多孔質層を形成する工程である。
初めに、貴金属源となる貴金属の塩類を溶解した溶液、あるいは貴金属化合物微粒子を分散させた分散液を作製する。溶媒や分散媒は水が好適であるが、貴金属源が水で分解・沈殿するような場合には、有機溶媒を用いてもよい。この有機溶媒としては極性溶媒が好ましく、アルコール類、ケトン類等が好適に用いられる。
次いで、この溶液や分散液中に、炭化ケイ素粒子を浸漬・分散させる、あるいは炭化ケイ素粒子多孔質層(炭化ケイ素粒子を担持した基材)を浸漬した後、60℃ないし250℃程度の温度でこの水や分散媒を除去して乾燥する。これにより、炭化ケイ素粒子(多孔質層を形成しているものを含む)の表面に貴金属の塩類や貴金属化合物微粒子を付着させることができる。
貴金属粒子を担持させた炭化ケイ素粒子、または基材へ担持されるとともに貴金属粒子が担持された炭化ケイ素粒子多孔質層を酸化処理して、貴金属粒子担持炭化ケイ素粒子の表面に酸化物層を形成し、排気浄化触媒(貴金属粒子を担持し表面酸化物層が形成された炭化ケイ素粒子)、または排気浄化触媒からなる多孔質層を形成する工程である。
酸化処理としては、上記の貴金属担持炭化ケイ素粒子自体、あるいは基材へ担持されるとともに貴金属粒子が担持された炭化ケイ素粒子多孔質層、すなわち貴金属担持炭化ケイ素粒子同士が部分的に焼結した層を有する基材を、大気、酸素等の酸化性雰囲気下、600℃以上かつ1000℃以下、好ましくは650℃以上かつ900℃以下の温度にて、0.5時間以上かつ36時間以下、好ましくは4時間以上かつ12時間以下、酸化処理し、炭化ケイ素粒子の表面に酸化物層を生成させる。
この基材への担持工程は、母材となる炭化ケイ素粒子、貴金属粒子を担持させた炭化ケイ素粒子、貴金属粒子が担持され表面酸化層が形成された炭化ケイ素粒子、のいずれかを分散媒中に分散させ、炭化ケイ素粒子分散液を作製する工程と、この炭化ケイ素粒子分散液を排気浄化装置を構成する基材上へ塗布(コート)した後乾燥し、さらに炭化ケイ素粒子を部分焼結して多孔質層を形成させる工程とからなる。
まず、既述の炭化ケイ素粒子、貴金属粒子を担持させた炭化ケイ素粒子、貴金属粒子が担持され表面酸化層が形成された炭化ケイ素粒子、のいずれかを分散媒中に分散させ、炭化ケイ素粒子分散液を作製する。
上記の有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル等のエステル類、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル等のケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等が好適に用いられ、これらの溶媒のうち1種のみ、または2種以上を混合して用いることができる。
また、ボール等の分散媒体としては、スチール、鉛等の金属類が心材となっている樹脂被覆体、アルミナ、ジルコニア、シリカ、チタニア等の無機酸化物焼結体、窒化ケイ素等の窒化物焼結体、炭化ケイ素等のケイ化物焼結体、ソーダガラス、鉛ガラス、高比重ガラス等のガラス類等が挙げられるが、本実施形態にて用いられる分散媒体としては、混合・分散効率の点から、比重が6以上のジルコニア、スチールが心材となっている樹脂被覆体等が好ましい。
ここで、本実施形態における「ハニカム構造」とは、基材中に、隔壁により仕切られ、互いに平行に配置されるとともに、両端が開口された多数のガス流路を有する構造であって、内燃機関から排出された排ガスがその一端側から流入し、ガス流路中を流れる過程で隔壁上に配置された触媒と接触して浄化され、他端側から排出されるものである。
また、乾燥、すなわち水や有機溶媒の除去は、大気雰囲気下、100℃ないし250℃程度の温度で行えばよい。
この熱処理により、塗膜中の分散媒、すなわち残留している水や有機溶媒、あるいは塗膜中の高分子モノマーやオリゴマーや、分散剤、界面活性剤、防腐剤、安定化剤、消泡剤、レベリング剤等の添加剤が散逸するとともに、炭化ケイ素粒子同士が部分的に焼結して、粒子同士が結合したネック部分が形成され、多孔質状に接合された多孔質膜が形成される。
また、この熱処理工程は、酸化物層形成工程における熱処理条件を調整することにより、炭化ケイ素粒子の表面に酸化物層を生成させると共に炭化ケイ素粒子同士を部分的に焼結させることができれば、省略することができる。
上記の貴金属粒子担持工程と多孔質膜形成工程は、類似した工程を有する。このことから、内燃機関の排気浄化装置の製造方法においては、両工程を同時並行して行うことができる。
まず、貴金属粒子担持工程においては、貴金属源となる貴金属の塩類を溶解した溶液、あるいは貴金属化合物微粒子を分散させた分散液を作製する工程が、多孔質膜形成工程においては、分散媒を準備する工程が、それぞれ類似する。また、貴金属粒子担持工程においては、溶液や分散液中に炭化ケイ素粒子を浸漬・分散させる工程が、多孔質膜形成工程においては、炭化ケイ素粒子分散液を作製する工程が、類似する。
従って、多孔質膜形成工程における炭化ケイ素粒子分散媒中に、貴金属源を溶解ないしは分散させることにより、これらの各工程を併せて単一の工程とすることができる。なお、この分散媒としては貴金属源が容易に溶解ないしは分散する物質を選択する必要があり、特に水を好適に用いることができる。一方、有機溶媒等を用いる場合には、この有機溶媒等に容易に分散する貴金属源を選択すればよい。
この両工程は乾燥工程であり、実質的に同一の工程であるから、単一の工程とすることができる。乾燥温度は、両工程に共通する範囲、すなわち100℃ないし250℃程度の温度で行えばよい。
この両工程は、還元雰囲気中や不活性雰囲気中で熱処理するという点で実質的に同一の工程であるから、単一の工程とすることができる。
熱処理温度や時間は、両工程に共通する範囲内から、貴金属粒子の生成条件や多孔質膜の形成条件を考慮して選択すればよい。
以上により、本実施形態の内燃機関の排気浄化装置を作製することができる。
また、微細な炭化ケイ素粒子自体が高温における耐久性を有しており、貴金属粒子は酸化物層により覆われた状態で担持されているので、高温環境下においても、低温時と同様の高い触媒活性を維持することができる。
以上により、低温での高い触媒活性と、高温での高い耐久性と、を両立させることができ、その結果、低温領域から高温領域に亘って高い触媒活性を保ちつつ高い耐久性を維持することができる。
また、微細な貴金属粒子は、融点が低下することが知られているが、酸化物層、特にケイ素炭化酸化物との化学的な結合により、貴金属粒子の融解を抑制することができる。
始めに、実施例及び比較例の排気浄化触媒及び内燃機関の排気浄化装置における評価方法を示す。
(1)酸化物層の組成
触媒を含む多孔質層をハニカム基材ごと切り出し、X線光電子分析装置(XPS/ESCA)Sigma Probe(VG−Scientific社製)を用いて測定し、多孔質層を形成するSiC粒子表面の組成分析を行なった。
触媒を含む多孔質層をハニカム基材ごと切り出し、電界放出型透過電子顕微鏡(FE−TEM)JEM−2100F(日本電子社製)により観察することにより、貴金属粒子の担持状態を評価した。
また、貴金属粒子の平均一次粒子径は、同様にして得られた観察画像中から無作為に選択した500個の貴金属粒子の一次粒子径を測定し、その平均値を貴金属粒子の平均一次粒子径とした。
触媒を含む多孔質層をハニカム基材ごと切り出し、BET比表面積測定装置、BELSORP−mini(日本ベル社製)にて比表面積を測定し、別途測定した基材部分の重量に相当する比表面積を差し引いて触媒層の比表面積とした。
触媒を含む多孔質層をハニカム基材ごと切り出し、水銀ポロシメータ装置、Pore Master 60GT(Quantachrome社製)を用いて、触媒を含む多孔質層部分の平均気孔率を測定した。
排気浄化装置(排気浄化触媒評価装置)に触媒を含む多孔質層を形成したハニカム基材(以下、「多孔質層形成ハニカム基材」とも表記する場合がある。)を取り付け、模擬排ガスを導入して流通させつつ多孔質層形成ハニカム基材の温度を上昇させ、排気浄化装置通過後の模擬排ガスの成分を測定することで、一酸化炭素(CO)及び炭化水素(HC)の浄化率を測定した。ここでは、模擬排ガス中のCOまたはHCの50%が浄化されるフィルタ基体の温度(T50)、すなわち、排気浄化装置通過後の模擬排ガス中のCOまたはHCの量が、導入させた模擬排ガス中の量の1/2となる温度をもって、その指標とした。
測定時の温度条件は、500℃から17℃/分での降温条件とし、模擬排ガスGの流量(空間速度)は13.5L/分とした。
また、多孔質層形成ハニカム基材13の下流側10mmの位置で炉内温度を測定し、この温度を多孔質層形成ハニカム基材の温度とした。
触媒を含む多孔質層を形成したハニカム基材を、大気中で700℃で30時間熱処理を行った。
熱処理後の多孔質層形成ハニカム基材について、比表面積、CO浄化温度及びHC浄化温度を、前記方法により測定し、熱処理前の結果と比較することにより、耐熱性を評価した。
平均一次粒子径が0.035μmの炭化ケイ素粒子15gを、純水80gに界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムおよび消泡剤を溶解した分散媒に添加し、この状態で、分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を180分間施した。
得られたスラリーに、炭化ケイ素粒子1gに対して白金が0.01gとなるようにジニトロ白金酸塩水溶液を加え、再度分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を30分間行い、その後蒸発乾固し、白金塩担持炭化ケイ素粒子を作製した。
次いで、この塗布乾燥層が形成された基材に、以下の条件で熱処理を施した。
第一段階:温度=980℃、保持時間=80分、 雰囲気=アルゴン
第二段階:温度=730℃、保持時間=360分、雰囲気=空気
この熱処理により、炭化ケイ素粒子の部分焼結による多孔質層の形成、炭化ケイ素粒子表面に担持されているジニトロ白金酸塩の還元・分解による白金(貴金属)微粒子の形成、及び炭化ケイ素粒子の表面酸化物層形成を行い、実施例1の触媒を含む多孔質層を形成したハニカム基材を作製した。
また、排気浄化装置を用いて測定したCO浄化温度は173℃、HC浄化温度は186℃であった。
さらに、700℃熱処理後の比表面積は36m2/g、CO浄化温度は183℃、HC浄化温度は199℃であった。
これらの結果をまとめて、表2に示す。
平均一次粒子径が0.015μmの炭化ケイ素粒子15gを、純水80gに界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムおよび消泡剤を溶解した分散媒に添加し、この状態で、分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を180分間実施した。
得られたスラリーに、炭化ケイ素粒子1gに対して白金が0.05gとなるようにジニトロ白金酸塩水溶液を加え、再度分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を30分間行い、その後蒸発乾固し、白金塩担持炭化ケイ素粒子を作製した。
第一段階:温度=120℃、保持時間=24時間、雰囲気=空気
第二段階:温度=600℃、保持時間=90分、 雰囲気=アルゴン
第三段階:温度=700℃、保持時間=60分、 雰囲気=空気
この熱処理により、炭化ケイ素粒子表面に担持されているジニトロ白金酸塩の還元・分解による白金(貴金属)微粒子の形成、及び炭化ケイ素粒子の表面酸化物層形成を行い、酸化物層形成・貴金属担持炭化ケイ素粒子を形成した。
次いで、この塗布乾燥層が形成された基材に、以下の条件で熱処理を施した。
第一段階:温度=1000℃、保持時間=30分、雰囲気=アルゴン
第二段階:温度=700℃、 保持時間=12時間、雰囲気=空気
この熱処理により、炭化ケイ素粒子の部分焼結による多孔質層の形成、及び炭化ケイ素粒子の表面酸化物層形成を行い、実施例2の触媒を含む多孔質層を作製した。
また、排気浄化装置を用いて測定したCO浄化温度は169℃、HC浄化温度は179℃であった。
さらに、700℃熱処理後の比表面積は81m2/g、CO浄化温度は178℃、HC浄化温度は192℃であった。
これらの結果をまとめて、表2に示す。
平均一次粒子径が0.030μmの炭化ケイ素粒子15gを、純水80gに界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムおよび消泡剤を溶解した分散媒に添加し、この状態で、分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を180分間実施した。
得られたスラリーに、炭化ケイ素粒子1gに対して白金が0.1gとなるようにジニトロ白金酸塩水溶液を加え、再度分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を30分間行い、スラリーとした。
この混合液に、炭化ケイ素粒子の含有率が25.5体積%、水の含有率が72.0体積%、ゲル化剤として用いるゼラチンの含有率が2.5体積%となるように水とゼラチンを加え、実施例3の炭化ケイ素粒子分散液を調整した。初めに、上記混合液に界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムを添加した後、上記割合となるために必要な分量の水を加え、鉄芯入り樹脂ボールを用いたボールミルにて220rpmの回転速度にて48時間混合して、分散液とした。次に、この分散液に、上記割合となるために必要なゼラチンを添加して20分間混合することで、実施例3の炭化ケイ素粒子分散液(塗布液)を得た。
次いで、この塗布乾燥層が形成された基材に、以下の条件で熱処理を施した。
第一段階:温度=900℃、保持時間=120分、雰囲気=アルゴン
第二段階:温度=600℃、保持時間=480分、 雰囲気=空気
この熱処理により、炭化ケイ素粒子の部分焼結による多孔質層の形成、炭化ケイ素粒子表面に担持されているジニトロ白金酸塩の還元・分解による白金(貴金属)微粒子の形成、及び炭化ケイ素粒子の表面酸化物層形成を行い、実施例3の触媒を含む多孔質層を作製した。
この触媒を含む多孔質層の比表面積は13m2/g、平均気孔率は68%であった。
また、排気浄化装置を用いて測定したCO浄化温度は179℃、HC浄化温度は183℃であった。
さらに、700℃熱処理後の比表面積は11m2/g、CO浄化温度は188℃、HC浄化温度は201℃であった。
これらの結果をまとめて、表2に示す。
これらの図によれば、炭化ケイ素粒子、その表面に形成されている酸化膜(酸化物層)、及び酸化膜(酸化物層)に覆われた白金微粒子(貴金属微粒子)が示されている。
このFE−TEM像においては、酸化物層に結晶格子像が認められなかった。これにより、この酸化物層は非晶質であることが分かった。
平均一次粒子径が0.06μmの炭化ケイ素粒子15gを、純水80gに界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムおよび消泡剤を溶解した分散媒に添加し、この状態で、分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を180分間実施した。
得られたスラリーに、炭化ケイ素粒子1gに対してパラジウムが0.1gとなるように硝酸パラジウム水溶液を加え、再度分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を30分間行い、スラリーとした。
この混合液に、炭化ケイ素粒子の含有率が35.0体積%、水の含有率が63.5体積%、ゲル化剤として用いるゼラチンの含有率が1.5体積%となるように水とゼラチンを加え、実施例4の炭化ケイ素粒子分散液を調整した。初めに、上記混合液に界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムを添加した後、上記割合となるために必要な分量の水を加え、鉄芯入り樹脂ボールを用いたボールミルにて220rpmの回転速度にて48時間混合して、分散液とした。次に、この分散液に、上記割合となるために必要なゼラチンを添加して20分間混合することで、実施例4の炭化ケイ素粒子分散液(塗布液)を得た。
次いで、この塗布乾燥層が形成された基材に、以下の条件で熱処理を施した。
第一段階:温度=850℃、保持時間=240分、雰囲気=アルゴン
第二段階:温度=800℃、保持時間=360分、雰囲気=空気
この熱処理により、炭化ケイ素粒子の部分焼結による多孔質層の形成、炭化ケイ素粒子表面に担持されている硝酸パラジウムの還元・分解によるパラジウム(貴金属)微粒子の形成、及び炭化ケイ素粒子の表面酸化物層形成を行い、実施例4の触媒を含む多孔質層を作製した。
また、排気浄化装置を用いて測定したCO浄化温度は205℃、HC浄化温度は209℃であった。
さらに、700℃熱処理後の比表面積は3m2/g、CO浄化温度は221℃、HC浄化温度は235℃であった。
これらの結果をまとめて、表2に示す。
平均一次粒子径が0.030μmの炭化ケイ素粒子15gを、純水80gに界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムおよび消泡剤を溶解した分散媒に添加し、この状態で、分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を180分間実施した。
得られたスラリーに、炭化ケイ素粒子1gに対して白金が0.1gとなるようにジニトロ白金酸塩水溶液を加え、再度分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を30分間行い、スラリーとした。
この混合液に、炭化ケイ素粒子の含有率が30.0体積%、水の含有率が67.5体積%、ゲル化剤として用いるゼラチンの含有率が2.5体積%となるように水とゼラチンを加え、実施例7の炭化ケイ素粒子分散液を調整した。初めに、上記混合液に界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムを添加した後、上記割合となるために必要な分の水を加え、鉄芯入り樹脂ボールを用いたボールミルにて220rpmの回転速度にて48時間混合して、分散液とした。次に、この分散液に、上記割合となるために必要なゼラチンを添加して20分間混合することで、実施例5の炭化ケイ素粒子分散液(塗布液)を得た。
次いで、この塗布乾燥層が形成された基材に、以下の条件で熱処理を施した。
第一段階:温度=1000℃、保持時間=120分、雰囲気=アルゴン
第二段階:温度=730℃、 保持時間=60分、 雰囲気=空気
この熱処理により、炭化ケイ素粒子の部分焼結による多孔質層の形成、炭化ケイ素粒子表面に担持されているジニトロ白金酸塩の還元・分解による白金(貴金属)微粒子の形成、及び炭化ケイ素粒子の表面酸化物層形成を行い、実施例5の触媒を含む多孔質層を作製した。
また、排気浄化装置を用いて測定したCO浄化温度は220℃、HC浄化温度は227℃であった。
さらに、700℃熱処理後の比表面積は1m2/g、CO浄化温度は241℃、HC浄化温度は248℃であった。
これらの結果をまとめて、表2に示す。
平均一次粒子径が0.035μmの炭化ケイ素粒子15gを、純水80gに界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムおよび消泡剤を溶解した分散媒に添加し、この状態で、分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を180分間施した。
得られたスラリーに、炭化ケイ素粒子1gに対して白金が0.01gとなるようにジニトロ白金酸塩水溶液を加え、再度分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を30分間行い、その後蒸発乾固し、白金塩担持炭化ケイ素粒子を作製した。
次いで、この塗布乾燥層が形成された基材に、以下の条件で熱処理を施し、比較例1の触媒を含む多孔質層を作製した。
第一段階:温度=980℃、保持時間=70分、雰囲気=アルゴン
第二段階:温度=450℃、保持時間=30分、雰囲気=空気
この触媒を含む多孔質層の比表面積は38m2/g、平均気孔率は73%であった。
また、排気浄化装置を用いて測定したCO浄化温度は283℃、HC浄化温度は291℃であった。
さらに、700℃熱処理後の比表面積は36m2/g、CO浄化温度は300℃、HC浄化温度は302℃であった。
これらの結果をまとめて、表2に示す。
平均一次粒子径が0.015μmの炭化ケイ素粒子15gを、純水80gに界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムおよび消泡剤を溶解した分散媒に添加し、この状態で、分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を180分間実施した。
得られたスラリーに、炭化ケイ素粒子1gに対して白金が0.05gとなるようにジニトロ白金酸塩水溶液を加え、再度分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を30分間行い、その後蒸発乾固し、白金塩担持炭化ケイ素粒子を作製した。
第一段階:温度=120℃、 保持時間=24時間、雰囲気=空気
第二段階:温度=1000℃、保持時間=30分、 雰囲気=アルゴン
第三段階:温度=450℃、 保持時間=240分、雰囲気=空気
次いで、この塗布乾燥層が形成された基材に、以下の条件で熱処理を施し、比較例2の触媒を含む多孔質層を作製した。
第一段階:温度=1000℃、保持時間=30分、 雰囲気=アルゴン
第二段階:温度=550℃、 保持時間=120分、雰囲気=空気
この触媒を含む多孔質層の比表面積は83m2/g、平均気孔率は68%であった。
また、排気浄化装置を用いて測定したCO浄化温度は261℃、HC浄化温度は276℃であった。
さらに、700℃熱処理後の比表面積は80m2/g、CO浄化温度は296℃、HC浄化温度は302℃であった。
これらの結果をまとめて、表2に示す。
平均一次粒子径が0.030μmの炭化ケイ素粒子15gを、純水80gに界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムおよび消泡剤を溶解した分散媒に添加し、この状態で、分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を180分間実施した。
得られたスラリーに、炭化ケイ素粒子1gに対して白金が0.1gとなるようにジニトロ白金酸塩水溶液を加え、再度分散媒体としてジルコニアビーズを用いた分散処理を30分間行い、スラリーとした。
この混合液に、炭化ケイ素粒子の含有率が30.0体積%、水の含有率が67.5体積%、ゲル化剤として用いるゼラチンの含有率が2.5体積%となるように水とゼラチンを加え、比較例3の炭化ケイ素粒子分散液を調整した。初めに、上記混合液に界面活性剤としてポリカルボン酸アンモニウムを添加した後、上記割合となるために必要な分量の水を加え、鉄芯入り樹脂ボールを用いたボールミルにて220rpmの回転速度にて48時間混合して、分散液とした。次に、この分散液に、上記割合となるために必要なゼラチンを添加して20分間混合することで、比較例3の炭化ケイ素粒子分散液(塗布液)を得た。
次いで、この塗布乾燥層が形成された基材に、以下の条件で熱処理を施し、比較例3の触媒を含む多孔質層を作製した。
第一段階:温度=1000℃、保持時間=360分、雰囲気=アルゴン
第二段階:温度=500℃、 保持時間=360分、雰囲気=空気
この触媒を含む多孔質層の比表面積は1m2/g、平均気孔率は51%であった。
また、排気浄化装置を用いて測定したCO浄化温度は255℃、HC浄化温度は264℃であった。
さらに、700℃熱処理後の比表面積は1m2/g、CO浄化温度は277℃、HC浄化温度は295℃であった。
これらの結果をまとめて、表2に示す。
この内、実施例1〜4の排気浄化触媒を使用した排気浄化装置におけるCO浄化温度は169℃〜205℃と低く、またHC浄化温度も179℃〜209℃と低いこと、さらには、これら浄化温度は排気浄化触媒の比表面積に依存しないことから、CO及びHCに対して十分な浄化効果を有することが確認された。
さらに、700℃熱処理後のCO浄化温度は、処理前に比べて10〜15℃程度の上昇に止まり、またHCの浄化温度も10〜25℃程度の上昇に止まっており、700℃熱処理後においても、CO及びHCに対する十分な浄化効果を保持していることが確認された。
これは、実施例5における炭化ケイ素粒子が平均一次粒子径10μmのものを多く含むために、多項質層の比表面積が1m2と低く、その結果、触媒活性が他の実施例のものと比べて低いこと、さらに、700℃熱処理後においては、比表面積が小さいために、貴金属粒子同士のシンタリング(粒成長)が進行したことによると考えられる。
すなわち、実施例5においては、CO及びHCに対して十分な浄化効果を有することが確認されたものの、他の実施例と比べてその効果が多少低いことがわかった。
これら比較例1〜3におけるの排気浄化触媒を使用した排気浄化装置におけるCO浄化温度は255℃〜283℃、またHC浄化温度は264℃〜291℃であり、実施例と比べて50〜110℃程度高いことから、CO及びHCに対する十分な浄化効果は得られていないと判断された。
2 炭化ケイ素粒子
3 貴金属粒子
4 酸化物層
11 排気浄化装置
12 筒状の排気通路
13 ハニカム基材
14 ボンベ
15 加熱炉
20 多孔質膜
21a、21b 貴金属担持炭化ケイ素粒子
22 炭化ケイ素粒子
23 貴金属粒子
24 酸化物層
25 表面被覆炭化ケイ素粒子
G 模擬排ガス
Claims (6)
- 炭化ケイ素粒子の表面に貴金属粒子が担持された触媒であって、
前記貴金属粒子が酸化物層により覆われた状態で担持されていることを特徴とする排気浄化触媒。 - 前記酸化物層は、非晶質のSiOx(ただし、0<x≦3)および非晶質のSiOyCz(ただし、0<y≦3、0<z≦3)の群から選択される1種または2種からなることを特徴とする請求項1記載の排気浄化触媒。
- 前記酸化物層は、さらに、SiO2、SiO、SiOC3、SiO2C2およびSiO3Cの群から選択される1種または2種以上の結晶質を含むことを特徴とする請求項2記載の排気浄化触媒。
- 前記炭化ケイ素粒子の平均一次粒子径は0.01μm以上かつ5μm以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項記載の排気浄化触媒。
- 前記貴金属粒子の平均一次粒子径は1nm以上かつ50nm以下であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項記載の排気浄化触媒。
- 内燃機関の排気経路中に配置される触媒により前記内燃機関からの排気を浄化する排気浄化装置であって、
前記触媒の少なくとも一種は、請求項1ないし5のいずれか1項記載の排気浄化触媒であることを特徴とする内燃機関の排気浄化装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012137914A JP5920046B2 (ja) | 2011-08-26 | 2012-06-19 | 排気浄化触媒、排気浄化触媒の製造方法及び内燃機関の排気浄化装置 |
EP12827714.2A EP2749353A4 (en) | 2011-08-26 | 2012-08-24 | EXHAUST PURIFYING CATALYST, INTERNAL COMBUSTION ENGINE EXHAUST GAS PURIFIER, AND EXHAUST PURIFYING FILTER |
PCT/JP2012/071430 WO2013031682A1 (ja) | 2011-08-26 | 2012-08-24 | 排気浄化触媒、内燃機関の排気浄化装置および排ガス浄化フィルタ |
US14/240,166 US20140245724A1 (en) | 2011-08-26 | 2012-08-24 | Exhaust purification catalyst, exhaust emissin control device for internal combustion engine, and exhaust gas purification filter |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011185048 | 2011-08-26 | ||
JP2011185048 | 2011-08-26 | ||
JP2012137914A JP5920046B2 (ja) | 2011-08-26 | 2012-06-19 | 排気浄化触媒、排気浄化触媒の製造方法及び内燃機関の排気浄化装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013063421A true JP2013063421A (ja) | 2013-04-11 |
JP5920046B2 JP5920046B2 (ja) | 2016-05-18 |
Family
ID=48187450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012137914A Active JP5920046B2 (ja) | 2011-08-26 | 2012-06-19 | 排気浄化触媒、排気浄化触媒の製造方法及び内燃機関の排気浄化装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5920046B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015199066A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-12 | 住友大阪セメント株式会社 | 内燃機関の排ガス浄化装置及びその製造方法、並びに排ガス浄化装置作製用塗料 |
JP2016032789A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 住友大阪セメント株式会社 | 窒素酸化物浄化触媒及び内燃機関の排ガス浄化装置並びに排ガス浄化フィルタ |
JP2018510053A (ja) * | 2015-01-29 | 2018-04-12 | ビーエーエスエフ コーポレーション | 自動車排ガス処理用白金族金属(pgm)触媒 |
JP2019189627A (ja) * | 2014-02-07 | 2019-10-31 | ザ ケマーズ カンパニー エフシーリミテッド ライアビリティ カンパニー | Z−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロ−2−ブテンを生成するための統合方法 |
CN111569936A (zh) * | 2015-12-28 | 2020-08-25 | 丰田自动车株式会社 | 簇载持催化剂及其制造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0631173A (ja) * | 1992-07-10 | 1994-02-08 | N E Chemcat Corp | 排気ガス浄化用触媒及び排気ガスの浄化方法 |
JPH10354A (ja) * | 1996-06-18 | 1998-01-06 | Hino Motors Ltd | 排ガス浄化触媒及びその製造方法 |
JP2003251151A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 固体カーボン微粒子を酸化除去する方法、及びそれに用いる触媒と担体 |
WO2009133857A1 (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-05 | 住友大阪セメント株式会社 | 排ガス浄化フィルタ |
JP2010099557A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 金属触媒担持粒子とその製造方法及び金属触媒担持粒子分散液並びに触媒 |
WO2011052676A1 (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-05 | 住友大阪セメント株式会社 | 内燃機関の排気浄化装置 |
-
2012
- 2012-06-19 JP JP2012137914A patent/JP5920046B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0631173A (ja) * | 1992-07-10 | 1994-02-08 | N E Chemcat Corp | 排気ガス浄化用触媒及び排気ガスの浄化方法 |
JPH10354A (ja) * | 1996-06-18 | 1998-01-06 | Hino Motors Ltd | 排ガス浄化触媒及びその製造方法 |
JP2003251151A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 固体カーボン微粒子を酸化除去する方法、及びそれに用いる触媒と担体 |
WO2009133857A1 (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-05 | 住友大阪セメント株式会社 | 排ガス浄化フィルタ |
JP2010099557A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 金属触媒担持粒子とその製造方法及び金属触媒担持粒子分散液並びに触媒 |
WO2011052676A1 (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-05 | 住友大阪セメント株式会社 | 内燃機関の排気浄化装置 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6012051381; J. OI-UCHISAWA et al.: 'Oxidation of carbon black over various Pt/MOx/SiC catalysts' Applied Catalysis B: Environmental 32, 2001, 257-268. * |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019189627A (ja) * | 2014-02-07 | 2019-10-31 | ザ ケマーズ カンパニー エフシーリミテッド ライアビリティ カンパニー | Z−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロ−2−ブテンを生成するための統合方法 |
KR20230031375A (ko) * | 2014-02-07 | 2023-03-07 | 더 케무어스 컴퍼니 에프씨, 엘엘씨 | Z-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 생산을 위한 통합 공정 |
KR102660930B1 (ko) * | 2014-02-07 | 2024-04-26 | 더 케무어스 컴퍼니 에프씨, 엘엘씨 | Z-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 생산을 위한 통합 공정 |
JP2015199066A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-12 | 住友大阪セメント株式会社 | 内燃機関の排ガス浄化装置及びその製造方法、並びに排ガス浄化装置作製用塗料 |
JP2016032789A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 住友大阪セメント株式会社 | 窒素酸化物浄化触媒及び内燃機関の排ガス浄化装置並びに排ガス浄化フィルタ |
JP2018510053A (ja) * | 2015-01-29 | 2018-04-12 | ビーエーエスエフ コーポレーション | 自動車排ガス処理用白金族金属(pgm)触媒 |
JP2021183333A (ja) * | 2015-01-29 | 2021-12-02 | ビーエーエスエフ コーポレーション | 自動車排ガス処理用白金族金属(pgm)触媒 |
CN111569936A (zh) * | 2015-12-28 | 2020-08-25 | 丰田自动车株式会社 | 簇载持催化剂及其制造方法 |
CN111569936B (zh) * | 2015-12-28 | 2023-12-05 | 丰田自动车株式会社 | 簇载持催化剂及其制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5920046B2 (ja) | 2016-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100989224B1 (ko) | 배기 가스 정화용 촉매 및 그의 제조 방법 | |
JP4971918B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
JP5690273B2 (ja) | 排ガス浄化フィルタ | |
JP4547935B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒、排ガス浄化触媒、及び触媒の製造方法 | |
JP4265561B2 (ja) | 自動車の排ガス浄化用触媒体 | |
JP5920046B2 (ja) | 排気浄化触媒、排気浄化触媒の製造方法及び内燃機関の排気浄化装置 | |
JP4296908B2 (ja) | 触媒体およびその製造方法 | |
WO2011052676A1 (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
JP2015199066A (ja) | 内燃機関の排ガス浄化装置及びその製造方法、並びに排ガス浄化装置作製用塗料 | |
JP2007000795A (ja) | 排気ガス浄化触媒及びその製造方法 | |
EP3421127B1 (en) | Exhaust-gas purifying catalyst and manufacturing method therefor | |
JP2006181484A (ja) | 触媒、排ガス浄化触媒、及び触媒の製造方法 | |
WO2013031682A1 (ja) | 排気浄化触媒、内燃機関の排気浄化装置および排ガス浄化フィルタ | |
JP5515635B2 (ja) | 貴金属担持炭化ケイ素粒子とその製造方法及びそれを含有する触媒並びにその製造方法 | |
JP5228788B2 (ja) | 金属触媒担持粒子とその製造方法及び金属触媒担持粒子分散液並びに触媒 | |
JP5446457B2 (ja) | 多孔質膜形成用塗料及び多孔質膜 | |
WO2008069003A1 (ja) | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
JP2015009212A (ja) | 排ガス浄化フィルタ | |
JP2013063420A (ja) | 排ガス浄化フィルタ | |
JP2010269270A (ja) | ハニカム構造型フィルタ | |
JP5287231B2 (ja) | 多孔質膜形成用塗料及び多孔質膜 | |
JP2015009213A (ja) | 排ガス浄化触媒及び内燃機関の排ガス浄化装置 | |
JP2010269269A (ja) | 多孔質膜形成用塗料及び多孔質膜 | |
JP4753613B2 (ja) | 排NOx浄化用触媒 | |
JP6350076B2 (ja) | 窒素酸化物浄化触媒及び内燃機関の排ガス浄化装置並びに排ガス浄化フィルタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160315 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160328 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5920046 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |