JP2016029674A - 固体撮像装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】撮影画像の画質を低下させずに、受光領域の中央部と周辺部の位相差画素の感度差を低減する。
【解決手段】固体撮像装置は、被写体の像が結像される受光領域に通常画素と右位相差画素42aと左位相差画素をそれぞれ複数備える。通常画素は、入射光を等方的に受光する。右位相差画素及び左位相差画素は、それぞれ右側,左側に偏心配置された開口を有し、入射光のうち右側,左側に到達する光を選択的に受光する。受光領域の左側の周辺部11bLにある右位相差画素42aは、中央部11a及び右側の周辺部11bRのものよりも開口56Rの面積が大きい。逆に、受光領域の右側の周辺部11bRにある左位相差画素は、中央部11a及び左側の周辺部11bLのものよりも開口の面積が大きい。
【選択図】図8

Description

本発明は、焦点検出等に利用される非対称な画素を有する固体撮像装置に関する。
デジタルカメラや、携帯電話機やスマートフォン等の携帯機器に搭載されるカメラモジュールにはオートフォーカス機能がほぼ標準的に搭載されている。オートフォーカスを実現するための方法は複数知られており、例えば、近年のデジタルカメラやカメラモジュールでは、像のコントラストが最大になるように焦点調節を行うコントラスト検出方式のオートフォーカス(いわゆるコントラストAF)や、視差による位相差に基づいて焦点調節を行う位相差検出方式のオートフォーカス(以下、位相差AFという)が多く用いられている。
位相差AFには、例えば特許文献1に記載の固体撮像装置のように、複数の画素が配列された受光領域内の所定箇所に、左右いずれかの方向から入射する光を選択的に受光して位相差を検出するために、左右方向に非対称な形状に形成された焦点検出用の画素(以下、位相差画素という)を有する固体撮像装置が用いられる(特許文献1)。
ところで、近年のデジタルカメラやカメラモジュールは、小型化,薄型化の要請からバックフォーカスが短くなる傾向にある。また、小型薄型のデジタルカメラ等にも受光領域の面積が大きい固体撮像装置が搭載されるようになってきている。このように、バックフォーカスを短くしたり、バックフォーカスに対して受光領域の面積が大きい固体撮像装置を採用したりすると、固体撮像装置の周辺部への光の入射角度が大きくなる。
固体撮像装置の画素は、概ね正面から入射する光を効率良く集光して光電変換するように形成されているので、光の入射角度が大きくなると感度が低下する。このため、受光領域の周辺部にある画素への光の入射角度が大きい場合、撮影画像には輝度や色にシェーディングが生じることがある。シェーディングを低減するためには、周辺部への光の入射角度を考慮して、中央部と周辺部で画素の感度を均一化すれば良い。このため、例えば、各画素に設けられるマイクロレンズを、周辺部の画素ほど中央部に寄せて配置(スケーリング)することにより、周辺部にある画素の集光効率を上げ、中央部の画素と周辺部の画素の感度差を緩和し、シェーディングを低減する技術が知られている。
また、固体撮像装置の中央部から周辺部にかけて画素の開口を大きくすることにより、あるいは周辺部から中央部にかけて画素の開口を小さくすることにより、中央部と周辺部の感度を均一化してシェーディングを低減する技術も知られている(特許文献2)。
さらに、位相差画素を有する固体撮像装置においては、中央部の位相差画素の瞳領域を周辺部のものに比べて小さくすることによって、各位相差画素の信号レベルを均一にすることや、逆に周辺部の位相差画素の瞳領域を中央部のものに比べて小さくすることによって、各位相差画素のケラレを均一化することで、位相差AFの精度を向上させる技術が知られている(特許文献3)。
特開2012−003009号公報 特開2004−056407号公報 特開2010−039106号公報
位相差画素は例えば左右に非対称な構造に形成されているので、通常画素よりも光の入射角度に対して敏感であり、周辺部にある位相差画素は、通常画素よりも感度の低下が大きい。通常画素は、例えば、マイクロレンズのスケーリング等によって感度の均一化が図られるが、上述のように周辺部における位相差画素の感度の低下量は、通常画素よりも大きいので、通常画素用のマイクロレンズスケーリングでは位相差画素の感度を十分に補えず、周辺部の位相差画素を用いる場合には位相差AFの精度が悪い場合がある。
このため、周辺部の位相差画素を用いる場合でも精度が良い位相差AFを行うためには、例えば特許文献2,3に倣って周辺部の位相差画素の開口や瞳領域の大きさを調節し、周辺部の位相差画素の感度を向上させることが望ましい。
しかしながら、位相差画素は、例えば左右非対称な構造に形成されているので、特許文献2,3のように周辺部にある位相差画素の開口等を一律に大きくしても、位相差AFの精度が向上しない場合がある。具体的には、入射光のうち右側に到達した光を選択的に受光する位相差画素(以下、右位相差画素という)は、受光領域の中央に対して、左側の周辺部にあるものは感度が低いが、右側の周辺部にあるものではむしろ感度が高い。逆に、入射光のうち左側に到達した光を選択的に受光する位相差画素(以下、左位相差画素という)は、右側の周辺部にあるものでは感度が低いが、左側の周辺部にあるものでは感度が高い。したがって、特許文献2,3のように、周辺部において開口や瞳領域の大きさを調節するとしても、右位相差画素と左位相差画素の区別をせずに、位相差画素の開口等の大きさを一律に調節したのでは、もともと感度が高い側にあるものではS/Nが悪化してしまうので、必ずしも位相差AFの精度向上には繋がらない。
また、画素値を読み出す場合に通常画素の画素値を読み出す場合よりもゲインを上げることによって、感度が低い周辺部の位相差画素の画素値を大きくし、各位相差画素の感度を均一化させることもできるが、読み出しのゲインを上げると、画素値に含まれるノイズ成分も増大してしまうのでS/Nは改善しない。特に、光の入射角度が大きいために周辺部の画素では隣接する画素に入射すべき光が入射されて、混色が発生することがあるが、読み出しのゲインを上げる場合、混色による信号値も大きくなるので、感度が低い周辺部の位相差画素の画素値を読み出す場合にゲインを上げるだけでは、位相差AFの精度を十分に改善することはできない。
この他には、マイクロレンズのスケーリング量を、通常画素と位相差画素とで異なる大きさにすることによって、周辺部の位相差画素の感度を向上させることも考えられるが、このように通常画素と位相差画素とでマイクロレンズのスケーリング量を変えると、通常画素のマイクロレンズと位相差画素のマイクロレンズの間に隙間が生じるために混色が増大してしまうことがある。
本発明は、撮影画像の画質を低下させずに、受光領域の周辺部にある位相差画素のうち感度が低いものの感度を向上し、周辺部の位相差画素を用いる場合でも、正確な位相差AFを行えるようにすることを目的とする。
本発明の固体撮像装置は、被写体の像が結像される受光領域に通常画素と第1位相差画素と第2位相差画素をそれぞれ複数備える。通常画素は、入射光を等方的に受光する。第1位相差画素は、第1方向(例えば、右方向)に偏心配置された開口を有する画素であり、入射光のうち前記第1方向の側に到達した光を選択的に受光する。第2位相差画素は、第1方向とは逆の第2方向(例えば、左方向)に偏心配置された開口を有する画素であり、入射光のうち第2方向の側に到達した光を選択的に受光する。そして、第2方向の側の周辺部にある第1位相差画素は、受光領域の中央部及び第1方向の側の周辺部にある第1位相差画素に対して、第1開口の面積が大きい。逆に、第1方向の側の周辺部にある第2位相差画素は、中央部及び第2方向の側の周辺部にある第2位相差画素に対して、第2開口の面積が大きい。
第2方向の側の周辺部にある第1位相差画素では、開口面積を拡大するために、第1開口が中央部のものに対して第2方向の側に拡張されていることが好ましい。また、第1方向の側の周辺部にある第2位相差画素では、開口面積を拡大するために、第2開口が中央部のものに対して第1方向の側に拡張されていることが好ましい。
第2方向の側の周辺部にある第1位相差画素では、第1開口の中心位置が、中央部のものよりも第2方向の側にあることが好ましい。また、第1方向の側の周辺部にある前記第2位相差画素では、第2開口の中心位置が中央部のものよりも第1方向の側にあることが好ましい。
第2方向の側の周辺部にある第1位相差画素、及び、第1方向の側の周辺部にある第2位相差画素は、光電変換をするためのフォトダイオードが中央部のものよりも小さいことが好ましい。
第1開口の面積は中央部からの第2方向の側の周辺部にかけて、第2開口の面積は中央部から第1方向の側の周辺部にかけて、それぞれ段階的に拡大されていても良い。
第1位相差画素及び第2位相差画素が複数の色に設けられている場合には、第2方向の側の周辺部にある第1位相差画素の第1開口、及び、第1方向の側の周辺部にある第2位相差画素の第2開口の各拡大率は、色毎に定められていることが好ましい。
ズームレンズによって被写体の像を受光領域に結像する場合は、ズームレンズの焦点距離を最も長くした場合と最も短くした場合の中間の場合における入射光の入射角度に応じて、第2方向の側の周辺部にある第1位相差画素の第1開口、及び、第1方向の側の周辺部にある第2位相差画素の第2開口の各面積が定められていることが好ましい。
さらに、第1方向の側の周辺部にある第1位相差画素では、中央部にある第1位相差画素に対して第1開口を小さくし、第2方向の側の周辺部にある第2位相差画素では、中央部にある第2位相差画素に対して第2開口を小さくしても良い。
入射光を集光するマイクロレンズを画素毎に備えている場合、周辺部のマイクロレンズは、各画素への入射光の入射角度に応じて中央部の方向に偏心して配置されていることが好ましい。
また、本発明の別の固体撮像装置は、通常画素がなく、全画素が上述の第1位相差画素または第2位相差画素のいずれかの位相差画素で構成されているものである。
本発明によれば、右位相差画素の開口を左側の周辺部において拡大し、右側の周辺部では中央部のものと同じ(あるいは縮小)し、これとは逆に左位相差画素の開口は右側の周辺部で拡大し、左側の周辺部では中央部のものと同じ(あるいは縮小)しているので、左右の位相差画素の感度を適切に補い、位相差AFの精度を向上することができる。また、マイクロレンズのスケーリング等にはよらず、位相差画素の開口の大きさを調節しているので、撮影画像の画質を低下させることもない。
固体撮像装置を示す説明図である。 カラーフィルタの配列を示す説明図である。 通常画素及び位相差画素の構造を示す断面図である。 受光領域の中央部と周辺部の光の入射角度を示す説明図である。 位置に応じた通常画素への入射光を示す断面図である。 開口面積が位置によらない場合の右位相差画素への入射光を示す断面図である。 開口面積が位置によらない場合の位置に応じた右位相差画素の比感度を表すグラフである。 左側の周辺部で開口を拡大した場合の右位相差画素への入射光を示す断面図である。 左側の周辺部で開口を拡大した場合の位置に応じた右位相差画素の開口面積を表すグラフである。 位置に応じた右位相差画素の比感度を表すグラフである。 左側の周辺部の右位相差画素の比感度を中央部のものと揃えた場合のグラフである。 さらに右側の周辺部において右位相差画素の開口面積を小さくした場合の位置に応じた開口面積を示すグラフである。 中央部と周辺部で比感度を一定にした場合のグラフである。 位置に応じた左位相差画素の開口面積を示すグラフである。 位置に応じた左位相差画素の感度比を示すグラフである。 位相差画素の開口面積の拡大方法を表す説明図である。 位相差画素の開口面積を拡大する別の方法を表す説明図である。 周辺部において位相差画素のPDを小さくする場合の説明図である。 受光領域を細分化する例を示す説明図である。 位相差画素の開口面積を段階的に拡大する場合の位置に応じた開口面積の変化を表すグラフである。 G画素以外の位相差画素を表す説明図である。 ハニカム配列の固体撮像装置を示す説明図である。 色配列が異なる他のハニカム配列の固体撮像装置を示す説明図である。 カラーフィルタがベイヤー配列の固体撮像装置を示す説明図である。 全画素を位相差画素にした固体撮像装置を示す説明図である。
図1に示すように、固体撮像装置10はCMOS型イメージセンサであり、受光領域11と、垂直走査回路13、水平走査回路14、出力回路16、制御回路17等を備える。
受光領域11は、複数の画素21が水平方向(X方向)及び垂直方向(Y方向)に沿って正方配列された領域である。受光領域11には、撮像レンズ(図3参照)によって被写体の像が結像され、各画素21は光電変換により、入射光量に応じた電荷を蓄積する。
画素21は、フォトダイオード(以下、PDという)22、リセットトランジスタ(以下、Trという)23、アンプトランジスタ(以下、Taという)24、選択トランジスタ(以下、Tsという)25を備えている。Tr23,Ta24,Ts25は例えばn型のMOSトランジスタである。また、各画素21には、各画素21には赤色(R),緑色(G),青色(B)のいずれかの色のカラーフィルタ41(図2参照)が設けられており、各画素21は対応するカラーフィルタ41の色の光を光電変換する。
なお、受光領域11に配列されている画素21は、通常画素と位相差画素の2種類の画素のいずれかである。通常画素と位相差画素は、立体的構造(具体的にはPD22に対する開口の大きさや位置)が異なっているが、電気的構成は同じである。このため、図1では通常画素と位相差画素を区別せずに、受光領域11内の画素を全て画素21としている。
通常画素は、水平方向及び垂直方向に対称に形成された画素21であり、通常画素で蓄積された電荷に基づく撮像信号は撮影画像の形成に利用される。画素21の大半は通常画素である。
位相差画素は、左右いずれかの方向から入射する光を選択的に受光するために水平方向に非対称な形状に形成されており、右方向からの入射光を選択的に受光する位相差画素(以下、位相差A画素という)と、左方向からの入射光を選択的に受光する位相差画素(以下、位相差B画素という)とを一組として、複数組の位相差画素が受光領域11内に満遍なく設けられている。すなわち、位相差画素は受光領域11の中央部にも周辺部にも設けられている。位相差画素で蓄積された電荷に基づく撮像信号は位相差AFに利用される。
PD22は光電変換により、入射光量に応じた電荷を生成する素子であり、アノードがグラウンドに接続されており、カソードがTa24のゲート電極に接続されている。PD22のカソードとTa24のゲート電極の接続部分がフローティングディフュージョン(図示しない。以下、FDという。)であり、ここにPD22で生成された電荷が蓄積される。
Tr23は、ソース電極がFDに接続され、ドレイン電極には電源電圧VDD(図示しない)が印加される。また、Tr23のゲート電極はリセット線26に接続されている。Tr23は、垂直走査回路13からリセット線26を介してゲート電極にリセットパルスが印加されることによりオン状態になる。Tr23がオン状態になると、FDに電源電圧VDDが印加され、FDに蓄積された電荷が破棄される。
Ta24は、ゲート電極はFDに接続され、ドレイン電極には電源電圧VDDが印加されている。また、信号電圧が出力されるソース電極は、Ts25のドレイン電極に接続されている。Ta24は、FDに蓄積された電荷量に応じた信号電圧をソース電極に出力する。
Ts25はドレイン電極がTa24のソース電極に接続され、ソース電極は信号線27に接続されている。また、Ts25のゲート電極は、行選択線28に接続されている。Ts25は、行選択線28を介して垂直走査回路13から選択パルスが入力されるとオン状態になり、Ta24から出力された信号電圧を信号線27に出力する。
垂直走査回路13は、画素21の駆動回路であり、各行のリセット線26と行選択線28が接続されている。垂直走査回路13は、選択された行のリセット線26にリセットパルスを入力する。また、行選択線28に選択パルスを入力してTr23やTs25の動作を制御する。これらにより、前述のように画素21を動作させる。
水平走査回路14は、各信号線27上に設けられた列選択トランジスタ(Tc)32のうち1つをオンにすることにより、信号電圧の読み出しを行う列を選択する。
信号線27は、各画素21からの信号電圧を読み出すための配線であり、画素21の列毎に設けられている。また、信号線27の末端には、相関二重サンプリング(CDS)回路31と列選択トランジスタ(Tc)32が設けられている。CDS回路31は、制御回路17から入力されるクロック信号に基づいて動作し、垂直走査回路13によって選択された行選択線28上の画素21から、読み出しに伴うノイズが除去されるように電圧信号をサンプリングし、保持する。CDS回路31が保持する電圧信号は、水平走査回路14によって列選択トランジスタ67がオンにされることによって出力バスライン33を介して出力回路16に出力される。
出力回路16は、CDS31から入力される電圧信号を増幅するアンプ34と、アンプ34で増幅された電圧信号をデジタルデータに変換するA/D変換回路35を備える。アンプ34のゲインは可変であり、撮影モード等の設定に応じて適宜調節される。
制御回路17は、垂直走査回路13や水平走査回路14等の固体撮像装置10の各部と接続されており、固体撮像装置10の各部を統括的に制御する。例えば、垂直走査回路13や水平走査回路14の動作は制御回路17から入力されるクロック信号等の制御信号に基づいて動作する。また、CDS31の動作やアンプ34のゲイン等も制御回路17によって制御される。
図2に示すように、固体撮像装置10のカラーフィルタ41は、6×6画素の色配列を1単位とする長い周期性を有している。より詳しくは、カラーフィルタ41は、3×3画素の色配列からなる2種類のサブユニット41a,41bをそれぞれ対角の位置に配置した配列である。第1サブユニット41aは、3×3画素の中央及び対角位置に緑色(G)フィルタが配列され、左右中央に青色(B)フィルタを、上下中央に赤色(R)フィルタが配置されたサブユニットである。第2サブユニット41bは、3×3画素の中央及び対角位置にGフィルタが配列されている点は第1サブユニット41aと同様であるが、BフィルタとRフィルタが第1サブユニット41aとは逆になっており、左右中央にはRフィルタが配列され、上下中央にはBフィルタが配列される。
例えば2×2画素の色配列を1単位としたベイヤー配列と比較すると、カラーフィルタ41は長い周期性を有するので、固体撮像装置10では、光学的ローパスフィルタを用いなくてもモアレの発生を抑えることができる。また、カラーフィルタ41を採用した固体撮像装置10では、縦方向(垂直方向)及び横方向(水平方向)に必ずRGBの画素が存在するので、偽色が抑えられ、正確な色再現が可能である。
左右一対の位相差画素42a,42bは、位相差AFのための視差に関する情報を含む信号を得るための画素であり、例えば、右上の第1サブユニット41aと左上の第2サブユニット41bの各左下のG画素に形成される。位相差画素42a,42b以外の画素は被写体の撮影画像を得るための通常画素43である。
通常画素43は、開口55が上下左右に対称に形成されており、上下左右の各方向から入射する光を均等に(等方的に)受光する。これに対して、位相差画素42aは、入射光のうちPD22の右側に到達した光を選択的に受光する右位相差画素であり、開口56Rが通常画素43の開口55よりも小さく、右寄りに偏心配置されている。また、位相差画素42bは、入射光のうちPD22の左側に到達した光を選択的に受光する左位相差画素であり、開口56Lが通常画素43の開口55よりも小さく、左寄りに偏心配置されている。
位相差画素42a,42bから出力される電圧信号は、それぞれ左右の視差がある信号であり、この視差がある電圧信号(あるいはこの電圧信号に基づく画素値)は位相差AFに用いられる。また、固体撮像装置10が出力する各画素の電圧信号から撮影画像を生成する場合、位相差画素42a,42bの電圧信号は例えば所定倍され、通常画素43に感度を一致させて利用される。また、位相差画素42a,42bの周辺のG画素(通常画素43)の電圧信号に基づいて補間により位相差画素42a,42bの位置の画素値が生成される場合もある。
なお、位相差画素42a,42bは受光領域11の全面に設けられるが、カラーフィルタ41の6×6画素の単位中に必ず位相差画素42a,42bが設けられているわけではなく、受光領域11の各画素をカラーフィルタ41の6×6画素の単位でみた場合、位相差画素42a,42bが設けられていない単位もあり、位相差画素42a,42bが設けられる場合には6×6画素単位中の上記箇所に設けられる。位相差画素42a,42bが設けられていない単位では、全てが通常画素43である。
図3に示すように、固体撮像装置10は、裏面照射型(BSI;back side illuminated)のCMOSイメージセンサであり、支持基板51、配線層52、p型半導体基板53、遮光層54、カラーフィルタ41、マイクロレンズ57等で構成される。p型半導体基板53に対して配線層52が設けられている側が固体撮像装置10の「表面」であり、カラーフィルタ41や遮光層54、マイクロレンズ57が設けられている側が「裏面」である。固体撮像装置10にはマイクロレンズ57、カラーフィルタ41、遮光層54を介して裏面側からPD22に光が入射される。なお、図3は、受光領域11の中央部11a(図4参照)における固体撮像装置10の断面を模式的に示したものである。
支持基板51は、例えばシリコン基板であり、裏面照射型の固体撮像装置10を製造する過程で、p型半導体53の裏面を露呈させ、p型半導体53を薄板化するために配線層52の表面に接合される。
配線層52はp型半導体基板53の表面に形成され、配線層52内に設けられた配線52aによって、各画素21(通常画素43及び位相差画素42a,42b)を形成するトランジスタ(Tr23,Ta24,Ts25)や、各画素21を駆動するための垂直走査回路13,水平走査回路14,制御回路17,出力回路16,制御回路17,CDS31等の各種回路、リセット線26,信号線27,行選択線28、出力バスライン33等の各種配線が形成される。
PD22は、p型半導体基板53と、p型半導体基板53内に形成されたn型半導体領域のPN接合によって形成される。p型半導体基板53は薄板化されており、破線で示すPD22の光電変換領域はp型半導体基板53の裏面近傍にまで達している。PD22が光電変換により生成した電荷は配線層52との界面近傍に蓄積される。なお、各PD22は図示しない分離層(例えばp++層)によって分離されている。
遮光層54はp型半導体基板53の裏面側に設けられ、各PD22間に入射する光を遮光することにより混色を抑える。遮光層54は例えば金属薄膜等で形成され、各PD22に対応する開口55,56を有する。開口55,56には、例えば、透明な材料が充填されており、遮光層54の裏面(カラーフィルタ41との界面)は平坦になっている。
開口55は、通常画素43に対応して設けられたものであり、通常画素43のPD22のほぼ全面を露呈する大きさに設けられている。このため、一点鎖線で示すように、通常画素43では、対応するマイクロレンズ57及びカラーフィルタ41を介して入射する光のほぼ全光束が開口55を通ってPD22に入射される。なお、開口55は、通常画素43の位置等によらず、全ての通常画素43で同じ大きさである。このため、通常画素43は、受光領域11(図4参照)内での位置によらず、全て同じ受光面積を有する。
一方、開口56Lは、左位相差画素42bに対応して設けられたものであり、通常画素43用の開口55よりも幅が狭く、開口面積は小さい。また、開口56Lは、中心が左側(X方向負側)に偏心配置されている。このため、位相差画素42bでは、対応するマイクロレンズ57及びカラーフィルタ41を介して入射する光のうち、さらに開口56Lを通ってPD22の左側に到達する一部の光束だけを受光する。
なお、図3では位相差画素42a,42bのうち、左位相差画素42bだけを示しているが、右位相差画素42aの構成は左位相差画素42bと同様であるため、図示を省略する。但し、右位相差画素42aでは、左位相差画素42bとは逆に、開口56Rが右側(X方向正側)に偏心配置されており、対応するマイクロレンズ57及びカラーフィルタ41を介して入射する光のうち、さらに開口56Rを通ってPD22の右側に到達する一部の光束だけを受光する。
カラーフィルタ41の各色セグメントは、PD22にそれぞれ対応するように設けられており、各色セグメントの中心はPD22の中心に対応する位置にある。カラーフィルタ41の配列については前述の通りであり、マイクロレンズ57によって集光される光束はカラーフィルタ41を通ることによってR,G,Bのいずれかの色になってPD22に入射する。
マイクロレンズ57は、各PD22に対応するように、カラーフィルタ41上に設けられ、形状は概ね半球である。マイクロレンズ57は、入射光を対応するPD22に集光させる。受光領域11の中心(中央部11aの中心)では、マイクロレンズ57の中心はPD22の中央にほぼ一致している。但し、中央部11a内でも、マイクロレンズ57は、主光線角度45に応じて受光領域11の中心方向にオフセットして配置(スケーリング)されている。
図4に示すように、固体撮像装置10は撮像レンズ44とともに用いられ、固体撮像装置10の受光領域11には撮像レンズ44によって被写体59の像が結像される。図4では、模式的に撮像レンズ44を1枚のレンズにしているが、撮像レンズ44は1枚のレンズで構成されていても良いし、複数のレンズで構成されていても良い。すなわち、撮像レンズ44は、被写体59の像を受光領域11に結像させることができれば、その具体的構成は任意である。このため、撮像レンズ44には、赤外線フィルタ等の各種光学フィルタや、実質的にレンズ作用がない光学要素が含まれていても良い。
撮像レンズ44によって被写体59の像を受光領域11に結像させる場合、一点鎖線で示す主光線の角度(以下、主光線角度という)45は、受光領域11の中央部11aから左右の周辺部11bR,11bLにかけて徐々に大きくなる。このため、固体撮像装置10は、各画素が各箇所の主光線角度45に合わせた構造になっている。
まず、図5に示すように、固体撮像装置10では、主光線角度45に合わせてマイクロレンズ57がスケーリングされている。具体的には、カラーフィルタ41以下の構造は中央部11aでも、周辺部11bR,11bLでも全て同じ構造になっているが、周辺部11bR,11bLでは、各マイクロレンズ57の中心位置が中央部11a側に偏心して配置されている。例えば、各通常画素43への入射光の光束を、破線矢印で示す右側半分の光束(以下、右側光束という)と、実線矢印で示す左側半分の光束(以下、左側光束という)に分けて考えるとすると、中央部11aの通常画素43では、マイクロレンズ75によって左側光束はPD22の右側に、右側光束はPD22の左側にそれぞれ集光される。すなわち、中央部11aの通常画素43では、入射光の光束はほぼ全てPD22に集光される。
また、右側の周辺部11bRにある通常画素43では、一点鎖線で示すように主光線が傾斜しているが、この主光線の角度に合わせてマイクロレンズ75がスケーリングされているので、左側光束も右側光束も全てPD22に集光される。同様に、左側の周辺部11bLにある通常画素43についても、同様であり、主光線の角度に合わせてマイクロレンズ75がスケーリングされているので、左側光束も右側光束も全てPD22に集光される。したがって、通常画素43は、中央部11a,右側の周辺部11bR,左側の周辺部11bLのいずれにおいても入射光の光束のほぼ全てをPD22で受光することができる。
さらに、固体撮像装置10では、位相差画素42a,42bの開口56L,56Rの面積(開口面積)が、受光領域11内での位置に応じて調節されている。
まず、比較のために、位相差画素42a,42bの開口56L,56Rが中央部11a,右側の周辺部11bR,左側の周辺部11bLのいずれにおいても同じ大きさ(通常画素43の開口55の半分の面積)になっている場合を説明する。この場合、図6に示すように、中央部11aにある右位相差画素42aは、左側半分が遮光されているので、開口56Rを通ってPD22の右側に到達する光のみを選択的に受光する。例えば、左側光束の約1/5、右側光束の約4/5がPD22の右側に到達するとすれば、中央部11aにある右位相差画素42aの受光量は、入射光量の約1/2である。
一方、右側の周辺部11bRにある右位相差画素42aでは、入射光の光束のうち、入射角度が小さい右側光束(破線矢印)は、その殆どが遮光され、入射角度が大きい左側光束(実線矢印)はほぼ全てPD22に到達する。例えば、右側光束の約1/5、左側光束のほぼ全てがPD22の右側に到達するとすれば、右側の周辺部11bRにある右位相差画素42aの受光量は、入射光量の約3/5である。
また、左側の周辺部11bLにある右位相差画素42aでは、右側の周辺部11bRにあるものとは逆に、入射光の光束のうち、右側光束(破線矢印)の入射角度が大きく、左側光束(実線矢印)の入射角度が小さい。このため、左側の周辺部11bLにある右位相差画素42aでは、右側光束はほぼ全て遮光され、左側光束の一部がPD22に到達する。例えば、左側光束の約4/5がPD22に到達するとすれば、周辺部11bLにある右位相差画素42aの受光量は、入射光量の約2/5である。
したがって、図7に示すように、右位相差画素42aの比感度(通常画素43の感度に対する感度)は、概ねX方向の位置に比例し、右側の周辺部11bRでは中央部11aのものよりも大きいが、左側の周辺部11bLでは中央部11aのものよりも小さい。このため、比感度が大きい右側の周辺部11bRの右位相差画素42aを用いる場合には、中央部11aのものを用いる場合よりも精度良く位相差AFを行うことができるが、一方で、比感度が中央部11aのものよりも小さい左側の周辺部11bLの右位相差画素42aを用いると、位相差AFの精度が良くない。
このため、図8及び図9に示すように、固体撮像装置10では、受光領域11の中心(中央部11aの中央)から左側の周辺部11bLにある右位相差画素42aの開口56Rを、中心部11a及び右側の周辺部11bRの開口56Rよりも、面積を大きくしてある。このように、開口面積を中央部11a及び右側の周辺部11bRのものよりも大きくすると、左側の周辺部11bLにある右位相差画素42aの感度を、中央部11aにある右位相差画素42aの感度以上に向上させることができる。
例えば、開口面積が中央部11aのものと同じ場合(図6参照)には一部が遮光されていた左側光束(実線矢印)が、開口面積を拡大した場合(図8参照)にはほぼ全てがPD22に到達する。また、開口面積が中央部11aのものと同じ場合には全て遮光されていた右側光束(破線矢印)は、面積が拡大された開口56Rを通過してPD22に到達する。このため、右側光束の約1/5がPD22に到達するとすれば、面積が拡大された開口56Rを有する左側周辺部11bLの位相差画素42aの受光量は、入射光量の約3/5程度に向上する。これは、右側の周辺部11bRにある右位相差画素42aの受光量とほぼ同じ受光量である。
左側の周辺部11bLにおける開口56Rの拡大率は、例えば、図10に示すように、比感度が受光領域11の中心から左側の周辺部11bLと、中心から右側の周辺部11bRとで対称になるように、各右位相差画素42aの位置に応じて調節すれば良い。なお、左側の周辺部11bにおける開口56Rの拡大率は、左側の周辺部11bLにある右位相差画素42aの比感度が、少なくとも中央部11aの右位相差画素42aの比感度以上になるように調節されていれば良いが、特に、図11に示すように、受光領域11の中心から左側の周辺部11bLにかけて比感度が一定になるように、開口56Rの拡大率が調節されていることが好ましい。このように、中心における比感度と、左側の周辺部11bLの比感度が等しくなるように開口56Rの拡大率が調節されている場合、左側周辺部11bLの右位相差画素42aが本来受光すべき左側光束(信号)が多く、ノイズになる右側光束の受光量が少ないので、比感度が大きいながらも特にS/Nが良いからである。
なお、図12に示すように、右側の周辺部11bRにある右位相差画素42aの開口56Rを中央部11aのものよりも小さくしても良い。そして、右側の周辺部11bRにおける開口56Rの縮小率は、図13に示すように、受光領域11の中心から右側の周辺部11bRにかけて比感度が一定になるように調節されていることが好ましい。このように、受光領域11の中心における比感度と、右側の周辺部11bRの比感度が等しくなるように開口56Rの面積が調節されている場合、開口面積が中心のものと同じ場合と比較すれば比感度が低下するが、S/Nを向上させることができる。また、上述の説明から分かるように、図13のように、中央部11a,左側の周辺部11bL,右側の周辺部11bRで比感度がほぼ等しくなるように開口56Rの面積が調節されていることが特に好ましいことは言うまでもない。
なお、左位相差画素42bは右位相差画素42aと左右対称である。このため、図14に示すように、左位相差画素42bは、上述の右位相差画素42aの場合とは逆に、少なくとも受光領域11の中心から右側の周辺部11bRにかけて開口56Lの面積が大きくなるように開口面積が調節されている。
図15に示すように、左位相差画素42bの開口面積が一定になっている場合、右側の周辺部11bRにおける左位相差画素42bの比感度は、中央部11aのものよりも低い(一点鎖線)。しかし、上述のように、右側の周辺部11bRにおいて左位相差画素42bの開口面積を拡大しておくことで、左側の周辺部11bLの左位相差画素42bと同程度に(実線)、あるいは中央部11aの中心ものと同程度に(破線)、右側の周辺部11bRの左位相差画素42bの比感度を向上させている。
上述のように、固体撮像装置10は、右位相差画素42aの開口56Rを左側の周辺部11bLで拡大し、右側の周辺部11bRでは中央部11aと同じか、あるいは縮小している。同様に、左位相差画素42bの開口56Lを右側の周辺部11bRで拡大し、左側の周辺部11bLでは中央部11aと同じか、あるいは縮小している。このように、固体撮像装置10は、左右の位相差画素42a,42bをそれぞれ別に、位置に応じて開口面積を調節しているので、左右の位相差画素の感度を適切に補い、位相差AFの精度を向上することができる。
例えば、左右の位相差画素42a,42bを区別することなく、受光領域11の中心からの距離に応じて、一律に開口面積を拡大すると、もともと比感度が大きい位置にある位相差画素(右側の周辺部の右位相差画素42a及び左側の周辺部11bLにある左位相差画素42b)では、ノイズになる光束の受光量が増えるので、S/Nが悪化し、比感度が高くても位相差AFの精度が悪化してしまう場合がある。この場合と比較すると、固体撮像装置10は、左右の位相差画素42a,42bでそれぞれ別に、位置に応じて開口56L,56Rの大きさを調節しているので、S/Nを悪化させることなく、確実に位相差AFの精度を向上させることができる。
また、位相差画素42a,42bのマイクロレンズ75を通常画素43とは異なるスケーリングにする場合、混色等が発生して撮影画像の画質が損なわれる場合があるが、固体撮像装置10は、マイクロレンズ75はスケーリングによらず、位相差画素42a,42bの開口面積の調節だけで位相差AFの精度を向上させているので、撮影画像の画質は損なわれない。
なお、右位相差画素42aの開口面積を上述のように調節する場合、例えば、図16に示すように、左側の周辺部11bLでは、中央部11aの右位相差画素42aの開口56Rに対して、右位相差画素42aの左辺の位置を左側に移動して開口56Rの横に拡張することによって、面積を拡大すれば良い。このように、中央部11aの右位相差画素42aの開口56Rに対して、右辺の位置を揃えたまま開口を横に拡張して、面積を拡大すると、S/Nと比感度の向上を両立させやすい。また、この場合、開口面積を拡大しても基線長(位相差画素42a,42bの中心間隔)が短くなり難いので、視差に関する情報も得やすい。図16では右位相差画素42aを例にしたが、左位相差画素42bも同様であり、右側の周辺部11bRにおいて、左辺の位置を中央部11aのものと揃えたまま、右辺の位置を右側に移動して開口56Lを横に拡張することによって、面積を拡大すれば良い。
一方、図17に示すように、左側の周辺部11bLの右位相差画素42aでは、中央部11aの右位相差画素42aの開口56Rの右辺及び左辺を両方とも左側に移動させて開口面積を拡大しても良い。この場合、開口56Rの中心位置も左側に移動する。このように、開口面積の拡大のために、開口56Rの右辺及び左辺の位置をともに左側に移動させると、開口56Rの幅をできるだけ小さく保ったまま、信号になる左側光束をほぼ全て受光しつつ、ノイズになる右側光束の入射を防ぐように開口面積を拡大することができる。このため、前述の右辺を移動させない場合と比較すると、比感度の増分が少なく、また、基線長も短くなりやすいが、S/Nが特に良好である。図17では、右位相差画素42aを例にしたが、左位相差画素42bも同様である。
なお、上述のように周辺部11bLの右位相差画素42aの開口面積を調節した上で、さらに図18に示すように、周辺部11bLの右位相差画素42aのPD22を中央部11aのPD22に対して小さくしても良い。このように周辺部11bLの右位相差画素42aのPD22を小さくすると、右位相差画素42aのPD22は周辺の通常画素43のPD22からの距離が大きくなる。通常画素43のPD22と右位相差画素42aのPD22の距離が近い場合、通常画素43に斜めに入射した光が右位相差画素42aのPD22に漏れ、混色が発生する場合があるが、上述のように、右位相差画素42aのPD22を小さくしておけば、通常画素43に斜めに入射した光が位相差画素42a側に漏れても、右位相差画素42aのPD22には到達し難いので、混色がより確実に防止され、S/Nが良い信号が得られやすい。
このように、周辺部11bLの右位相差画素42aのPD22を小さくする場合、開口56Rの面積や、PD22の大きさ及び形状は、比感度及びS/Nが最適になるように適宜定めれば良い。また、PD22の大きさ及び形状を、拡大した右位相差画素42aの開口56Rに合わせた長方形にしても良い。例えば、右位相差画素42aの開口56Rに大きさや形状がほぼ合致する長方形にすれば良い。なお、左位相差画素42bについても同様である。
なお、上述の実施形態では、受光領域を中央部11aと周辺部11bL,11bRに分けているが、受光領域11aをさらに細かく区分けしても良い。例えば、図19に示すように、受光領域11を、中央部81aL,81aR、中間部81bL,81bR,周辺部81cL,81cRに分けても良い。撮影画像のシェーディング補正や傷補正(位相差画素42a,42bの画素値の補正)等の所定の各種処理の方法が受光領域11の位置によって異なる場合があるが、上述のように受光領域11を細かく区分けする場合には、各種処理の方法の区切りに合わせて受光領域11を区分けすることが好ましい。
この場合、さらに、図20に示すように、右位相差画素42aの開口面積を、左側の中央部81aL,左側の中間部81bL,左側の周辺部81cLの順に段階的に拡大しても良い。このように、各種処理の方法が異なる区切りに合わせて、位相差画素42a,42bの開口面積を段階的に拡大しておくと、中心からの距離に応じて開口面積を滑らかに拡大するよりも(図9参照)容易に良好な処理結果が得られる。すなわち、位相差画素42a,42bの開口面積の段階的拡大は、位相差AFの精度向上と撮影画像の画質を両立しやすい。なお、図20では、受光領域11を中央部81aL,81aR、中間部81bL,81bR,周辺部81cL,81cRに分けているが、上述の実施形態のように、受光領域11を中央部11aと周辺部11bL,11bRに分ける場合も同様である。また、左位相差画素42bは、上述の実施形態と同様に、右側の中央部81aR,中間部81bR,周辺部81cRで段階的に開口面積を拡大すれば良い。
なお、撮像レンズ44がズームレンズの場合、ズーム倍率によって各位置の主光線角度45が変化するので、各位置の位相差画素42a,42bの開口面積を一義的に定められない場合がある。この場合、撮像レンズ44がテレ端(焦点距離が最も長い場合)、ワイド端(焦点距離が最も短い場合)、またはこれらの中間の場合の主光線角度45に合わせて各位置の位相差画素42a,42bの開口面積を定めることが好ましい。但し、テレ端の場合の主光線角度45に合わせるとワイド端での誤差(比感度等のずれ)が大きく、逆にワイド端の場合の主光線角度45に合わせるとテレ端での誤差が大きいので、テレ端及びワイド端の場合の位相差AFの精度を両立するためには、テレ端とワイド端の中間の場合の主光線角度45に合わせて、各位置の各位置の位相差画素42a,42bの開口面積を定めることが特に好ましい。
なお、上述の実施形態では、G画素を位相差画素42a,42bにしたが、図21に示すように、R画素やB画素を位相差画素42a,42bにしても良い。もちろん、位相差画素42a,42bを全てR画素で形成しても良いし、位相差画素42a,42bを全てB画素で形成しても良い。また、R,G,Bのいずれか2種にだけ位相差画素42a,42bを設けても良い。
但し、R,G,Bのうち2色以上に位相差画素42a,42bを設ける場合、色毎に周辺部11bにおける感度の低下量が異なるので、色毎に位相差画素42a,42bの開口面積の拡大率を変えることが好ましい。マイクロレンズ75の焦点等によっても異なるが、例えば、各色の位相差画素42a,42bの開口面積の拡大率をB画素>G画素>R画素にする。もちろん、開口面積の拡大率が2色で同じであり、1色だけ異なっていても良い(例えば、B画素=G画素>R画素)。拡大率の基準は、中心部11aにおける各色の位相差画素42a,42bの開口面積である。このように、色毎に位相差画素42a,42bの開口面積の拡大率を調節しておけば、各色の位相差画素42a,42bでS/Nが良い信号が得られるので、位相差AFの精度を向上させやすい。
なお、上述の実施形態では、固体撮像装置10の画素が正方配列されているが、画素の配列は任意である。例えば、画素の配列を図22及び図23のようにハニカム配列にしても良い。また、画素配列をハニカム配列にする場合のカラーフィルタの色配列は任意であるが、例えば、図22や図23の色配列にすることができる。図22の色配列は、G画素の列と、R画素及びB画素が2個ずつ交互に並んだ列を斜め45度方向に交互に配置した例である。
また、上述の実施形態では、固体撮像装置10の画素が正方配列されている場合に、6×6画素を単位としたカラーフィルタ41を用いたが、カラーフィルタ41の配列は任意である。例えば、画素を正方配列にする場合には、図24に示すように、破線で囲む2×2画素を上下左右に並べたいわゆるベイヤー配列にしても良い。
なお、上述の実施形態及び変形例では、カラーフィルタ41の6×6画素の単位において、右上の第1サブユニット41aの左下G画素と、左上の第2サブユニット41bの左下G画素を位相差画素42a,42bを形成する例を説明したが、位相差画素42a,42bを形成するG画素の位置は任意である。例えば、右上の第1サブユニット41aの中央のG画素と、左上の第2サブユニット41bの中央のG画素をそれぞれ位相差画素42a,42bにしても良い。また、例えば、右下の第2サブユニット41bのG画素と、左下の第1サブユニット41aのG画素を位相差画素42a,42bにしても良い。
さらに、上述の実施形態及び変形例では、対になる2つの位相差画素42a,42bが同じ行内に設けられているが、対になる2つの位相差画素42a,42bは異なる行に設けられていても良い。
なお、上述の実施形態では、3つのトランジスタTr23,Ta24,Ts25で画素を構成しているが(図1参照)、画素21(通常画素43及び位相差画素42a,42b)は、入射光を各々光電変換し、撮影画像の形成や位相差AFに必要な信号を出力することができればよく、トランジスタの数等は任意である。例えば、画素21は、PD22とFDの間に転送用のトランジスタを設け、4つのトランジスタを用いて構成されていても良い。
なお、上述の実施形態及び変形例では、遮光層54とカラーフィルタ41を積層して設けたが、遮光層54の開口55,56内にカラーフィルタ41の各色セグメントを埋め込むように形成することで、遮光層54とカラーフィルタ41を一体に形成しても良い。
なお、上述の実施形態及び変形例では、p型半導体基板53の裏面に、遮光層54、カラーフィルタ41の順に各層を積層しているが、遮光層54とカラーフィルタ41の積層順は逆順でも良い。
なお、上述の実施形態及び変形例では、遮光層54の開口55,56に透明な材料を充填して遮光層54を平坦化しているが、開口55,56にはカラーフィルタ41の材料が充填されていても良い。
なお、上述の実施形態及び変形例では、固体撮像装置10がCMOSイメージセンサであるが、固体撮像装置10はCCD型イメージセンサでも良い。
なお、上述の実施形態及び変形例では、固体撮像装置10が裏面照射型のイメージセンサであるが、固体撮像装置10は表面照射型(FSI;front side illuminated)のイメージセンサでも良い。表面照射型イメージセンサは、配線層を介してPDに光が入射するタイプのイメージセンサである。
なお、上述の実施形態では、遮光層54において、通常画素43間にも遮光材料が設けられおり、各通常画素43の開口55が分離しているが、通常画素43間の遮光材料を設けず通常画素43の開口55が全て連結していても良い。この場合、遮光層54は、位相差画素42a,42bにおいて入射光を制限する部分にだけ遮光材料を配置したものになる。
なお、上述の実施形態では、原色系のカラーフィルタ41を用いているが、補色系のカラーフィルタを用いても良い。また、カラーフィルタには無色(透明)な画素が含まれていても良く、位相差画素42a,42bがこの無色画素に形成されていても良い。
なお、上述の実施形態では、位相差画素42a,42bが左右方向(横方向)に非対称に形成されており、位相差画素42a,42bで左右の視差を得るようになっているが、視差の情報を得る方向は上下方向(縦方向)や斜め方向でも良い。すなわち、位相差画素の構造(開口の位置)を縦方向に非対称にし、対になる位相差画素を上下に並べておくことによって上下方向の視差を得るようにしても良い。斜め方向の視差を得る場合には、同様に斜め方向に非対称な構造の位相差画素の対を斜め方向に配置すれば良い。
また、上述の実施形態では、左右方向の視差を得る位相差画素42a,42bだけを受光領域11内に設けているが、左右方向の視差を得る位相差画素42a,42b、上下方向の視差を得る位相差画素、斜め方向の視差を得る位相差画素のうち2以上を受光領域11に設けておいても良い。上下方向の視差を得る位相差画素や斜め方向の視差を得る位相差画素を設ける場合、これらの各方向の位相差画素も、上述の実施形態の左右の位相差画素42a,42bと同様に、受光する光束の方向と、受光領域11内の位置に応じて拡大することが好ましい。
なお、上述の実施形態では、受光領域11内の一部の画素を位相差画素42a,42bにしているが、図25に示すように、全画素を位相差画素42a,42bにしても良い。全画素を位相差画素42a,42bにすると、例えば、単眼(1個の固体撮像装置)で3D画像を得ることができる。図25では、画素が正方配列であり、カラーフィルタ41を用いる場合を示しているが、画素がハニカム配列やカラーフィルタがベイヤー配列の場合も全画素を位相差画素42a,42bにしても良い。
なお、上述の実施形態では、受光領域11内に満遍なく位相差画素42a,42bが複数設けられているが、位相差画素42a,42bは少なくとも中央部11aと周辺部11bL,11bRにあれば良く、位相差画素42a,42bの個数や配置及び分布は任意である。
本発明の固体撮像装置10は、薄型のデジタルカメラ、携帯電話機やPDA、スマーフォトン等に搭載されるカメラユニットに好適である。特に、撮像レンズ44と距離が近く、周辺部で主光線角度が大きいカメラやカメラユニットに好適である。
10 固体撮像装置
11 受光領域
11a 中央部
11bL,11bR 周辺部
21 画素
42a,42b 位相差画素
43 通常画素
55,56L,56R 開口

Claims (10)

  1. 被写体の像が結像される受光領域に配列され、入射光を等方的に受光する複数の通常画素と、
    前記受光領域内に複数設けられ、第1方向に偏心配置された開口を有する画素であり、前記入射光のうち前記第1方向の側に到達した光を選択的に受光する第1位相差画素と、
    前記受光領域に複数設けられ、前記第1方向とは逆の第2方向に偏心配置された開口を有する画素であり、前記入射光のうち前記第2方向の側に到達した光を選択的に受光する第2位相差画素と、を備え、
    前記受光領域の前記第2方向の側の周辺部にある前記第1位相差画素は、前記受光領域の中央部及び前記第1方向の側の周辺部にある前記第1位相差画素に対して、前記第1開口の面積が大きく、
    前記受光領域の前記第1方向の側の周辺部にある前記第2位相差画素は、前記中央部及び前記第2方向の側の周辺部にある前記第2位相差画素に対して、前記第2開口の面積が大きい固体撮像装置。
  2. 前記第2方向の側の前記周辺部にある前記第1位相差画素では、前記第1開口が前記中央部のものに対して前記第2方向の側に拡張され、
    前記第1方向の側の前記周辺部にある前記第2位相差画素では、前記第2開口が前記中央部のものに対して前記第1方向の側に拡張されている請求項1記載の固体撮像装置。
  3. 前記第2方向の側の前記周辺部にある前記第1位相差画素では、前記第1開口の中心位置が前記中央部のものよりも前記第2方向の側にあり、
    前記第1方向の側の前記周辺部にある前記第2位相差画素では、前記第2開口の中心位置が前記中央部のものよりも前記第1方向の側にある請求項1または2記載の固体撮像装置。
  4. 前記第2方向の側の前記周辺部にある前記第1位相差画素、及び、前記第1方向の側の前記周辺部にある前記第2位相差画素は、光電変換をするためのフォトダイオードが前記中央部のものよりも小さい請求項1〜3のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  5. 前記第1開口の面積は前記中央部からの前記第2方向の側の前記周辺部にかけて、前記第2開口の面積は前記中央部から前記第1方向の側の前記周辺部にかけて、それぞれ段階的に拡大されている請求項1〜4のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  6. 前記第1位相差画素及び前記第2位相差画素は複数の色に設けられ、
    前記第2方向の側の前記周辺部にある前記第1位相差画素の前記第1開口、及び、
    前記第1方向の側の前記周辺部にある前記第2位相差画素の前記第2開口の各拡大率が、前記色ごとにそれぞれ定められている請求項1〜5のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  7. ズームレンズによって前記被写体の像が前記受光領域に結像される場合に、
    前記ズームレンズの焦点距離を最も長くした場合と最も短くした場合の中間の場合における前記入射光の入射角度に応じて、前記第2方向の側の前記周辺部にある前記第1位相差画素の前記第1開口、及び、前記第1方向の側の周辺部にある前記第2位相差画素の前記第2開口の各面積が定められている請求項1〜6のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  8. 前記第1方向の側の前記周辺部にある前記第1位相差画素は、前記中央部にある前記第1位相差画素に対して、前記第1開口が小さく、
    前記第2方向の側の前記周辺部にある前記第2位相差画素は、前記中央部にある前記第2位相差画素に対して、前記第2開口が小さい請求項1〜7のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  9. 前記入射光を集光するマイクロレンズを画素毎に備え、
    前記周辺部の前記マイクロレンズは、各画素への前記入射光の入射角度に応じて前記中央部の方向に偏心して配置されている請求項1〜8のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  10. 被写体の像が結像される受光領域に複数設けられ、第1方向に偏心配置された開口を有する画素であり、前記入射光のうち前記第1方向の側に到達した光を選択的に受光する第1位相差画素と、
    前記受光領域に複数設けられ、前記第1方向とは逆の第2方向に偏心配置された開口を有する画素であり、前記入射光のうち前記第2方向の側に到達した光を選択的に受光する第2位相差画素と、を備え、
    前記受光領域の前記第2方向の側の周辺部にある前記第1位相差画素は、前記受光領域の中央部及び前記第1方向の側の周辺部にある前記第1位相差画素に対して、前記第1開口の面積が大きく、
    前記受光領域の前記第1方向の側の周辺部にある前記第2位相差画素は、前記中央部及び前記第2方向の側の周辺部にある前記第2位相差画素に対して、前記第2開口の面積が大きく、
    前記受光領域に配列された画素が全て前記第1位相差画素または前記第2位相差画素のいずれかである固体撮像装置。
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