JP2016026138A - Glass composition having high thermal and chemical stability, and production method of the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass for a liquid crystal display substrate, which has a high strain point and good dimensional stability and exhibits chemical characteristics.SOLUTION: An alkali-free glass is provided, which comprises, in terms of mol% on the basis of oxide, 64.0 to 72.0 of SiO, 9.0 to 16.0 of AlO, 1.0 to 5.0 of BO, 1.0 to 7.5 of MgO+LaO, 2.0 to 7.5 of CaO, 1.0 to 7.0 of BaO, and 0.0 to 3.5 of SrO. The glass has such characteristics that: (1) Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(AlO)≤1.50; (2) when the content of SrO is not 0 mol%, a ratio BaO/SrO is 2.0 or more; (3) any oxides other than SiO, AlO, BO, MgO, CaO, BaO, SrO, and LaOare included by 2.0 mol% or less; and (4) each content of AsOand SbOis 0.005 mol% or less.SELECTED DRAWING: None

Description

関連出願の相互参照
本出願は、その全内容が、本明細書に参考文献として援用される2006年2月10日出願の米国仮特許出願第60/772,600号の米国特許法(35USC)第119条(e)による利益を主張する。
CROSS REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS This application is hereby incorporated by reference in its entirety under US Patent Act (35 USC) of US Provisional Patent Application No. 60 / 772,600, filed February 10, 2006, which is incorporated herein by reference. Insist on the benefits of Article 119 (e).

液晶ディスプレイ、例えば、アクティブマトリックス液晶ディスプレイ(AMLCD)の製造は非常に複雑で、基板ガラスの特性が非常に重要である。AMLCDデバイスの製造に用いるガラス基板は、何よりもまず、その物理的寸法を厳密に制御する必要がある。ダウンドローシート延伸プロセス、特に、ドッカーティ(Dockerty)による特許文献1および2に記載されたフュージョン法は、ラップ仕上げや研磨等の費用のかかる後成形仕上げ操作を必要とすることのない基板として用いることのできるガラスシートを製造することができる。残念ながら、フュージョン法は、ガラス特性に厳しい制限をかけるものであり、比較的高い液相線粘度を必要とする。   The manufacture of liquid crystal displays, for example active matrix liquid crystal displays (AMLCD), is very complex and the properties of the substrate glass are very important. Glass substrates used in the manufacture of AMLCD devices, first and foremost, need to strictly control their physical dimensions. The downdraw sheet stretching process, in particular, the fusion method described in US Pat. Nos. 5,037,086 and 2,029 by Dockerty should be used as a substrate that does not require expensive post-forming finishing operations such as lapping and polishing. Can be produced. Unfortunately, the fusion process places severe limitations on glass properties and requires a relatively high liquidus viscosity.

液晶ディスプレイ分野では、多結晶シリコンに基づく薄膜トランジスタ(TFT)が好ましい。電子をより効率的に運搬する能力があるからである。多結晶系シリコントランジスタ(p−Si)は、アモルファスシリコン系トランジスタ(a−Si)よりも高い移動度を有するという特徴がある。これによって、より小さく、より速いトランジスタが製造でき、最終的に、より明るく、速いディスプレイが作製される。   In the liquid crystal display field, thin film transistors (TFTs) based on polycrystalline silicon are preferred. This is because it has the ability to carry electrons more efficiently. A polycrystalline silicon transistor (p-Si) is characterized by having higher mobility than an amorphous silicon transistor (a-Si). This allows smaller and faster transistors to be manufactured, ultimately creating a brighter and faster display.

p−Si系トランジスタの1つの問題は、製造に、a−Siトランジスタの製造で用いるよりも、高いプロセス温度が必要であることである。これらの温度は、a−Siトランジスタの製造に用いる350℃のピーク温度に比べて450℃〜600℃の範囲となる。これらの温度で、大抵のAMLCDガラス基板に、圧密として知られているプロセスが行われる。熱安定性または寸法変化とも呼ばれる圧密は、ガラスの仮想温度における変化による、ガラス基板における不可逆的な寸法変化(収縮)である。「仮想温度」は、ガラスの構造状態を示すのに用いる概念である。高温から急冷されるガラスは、高温構造における「凍結」のために、高い仮想温度を有すると言われている。徐冷、または、そのアニール点近くまで、ある時間保持されることによりアニールされるガラスは、低い仮想温度を有すると言われている。   One problem with p-Si based transistors is that manufacturing requires higher process temperatures than are used in the manufacture of a-Si transistors. These temperatures are in the range of 450 ° C. to 600 ° C. compared to the peak temperature of 350 ° C. used for the manufacture of the a-Si transistor. At these temperatures, most AMLCD glass substrates undergo a process known as consolidation. Consolidation, also called thermal stability or dimensional change, is an irreversible dimensional change (shrinkage) in a glass substrate due to changes in the fictive temperature of the glass. “Virtual temperature” is a concept used to indicate the structural state of glass. Glass that is quenched from high temperatures is said to have a high fictive temperature due to "freezing" in the high temperature structure. Glass that is annealed by slow cooling or holding for some time to near its annealing point is said to have a low fictive temperature.

圧密の程度は、ガラスを作製するプロセスと、ガラスの粘弾特性の両方により異なる。ガラスからシート製品を製造するためのフロート法において、ガラスシートは、溶融物から、比較的、徐々に冷却され、比較的低温構造をガラスへと「凍結する」。対照的に、フュージョン法だと、溶融物からガラスシートを非常に急速に冷却し、比較的高温構造へ凍結する。その結果、フロート法により製造されたガラスは、フュージョン法により製造されたガラスに比べ、あまり圧密されない。圧密のための原動力が、仮想温度と、圧密中にガラスが受けるプロセス温度に差があるためである。このように、ダウンドロー法により製造されたガラス基板における圧密のレベルを最小にするのが望ましい。   The degree of consolidation depends on both the process of making the glass and the viscoelastic properties of the glass. In the float process for producing sheet products from glass, the glass sheet is cooled relatively slowly from the melt and “freezes” the relatively low temperature structure into the glass. In contrast, the fusion process cools the glass sheet from the melt very rapidly and freezes it to a relatively hot structure. As a result, the glass produced by the float process is less consolidated than the glass produced by the fusion process. This is because the driving force for compaction is different between the fictive temperature and the process temperature experienced by the glass during consolidation. Thus, it is desirable to minimize the level of consolidation in a glass substrate manufactured by the downdraw method.

ガラスにおける圧密を最小にするのには2つの方法がある。第1に、ガラスを熱により前処理して、p−Si TFT製造中にガラスが受けるのと同様の仮想温度とすることである。しかしながら、この方法にはいくつか問題がある。まず、p−Si TFT製造中に用いる複数の加熱工程によって、ガラスにおいて、僅かに異なる仮想温度が複数存在し、この前処理によって完全にこれを補うことはできない。第2に、ガラスの熱安定性が、p−Si TFT製造の詳細に緊密に関わることであり、つまり、エンドユーザーによって前処理が異なるということである。最後に、前処理によって、処理コストと複雑度が増すことである。   There are two ways to minimize consolidation in glass. First, the glass is pretreated with heat to provide a fictive temperature similar to that experienced by the glass during p-Si TFT fabrication. However, there are several problems with this method. First, a plurality of slightly different fictive temperatures exist in the glass due to a plurality of heating steps used during the manufacture of the p-Si TFT, and this pretreatment cannot completely compensate for this. Second, the thermal stability of the glass is closely related to the details of p-Si TFT fabrication, that is, the pre-treatment varies from end user to end user. Finally, preprocessing increases processing costs and complexity.

他の方法は、圧密応答の速度を遅くすることである。これは、ガラスの粘度を上げることによりなされる。このように、ガラスのひずみ点が、受けるプロセス温度より非常に高い場合には(例えば、ひずみ点が、短い露光後、プロセス温度より、約200−300℃高い場合には)、圧密は最小である。しかしながら、この方法に伴う課題は、費用効率の高い、高ひずみ点のガラスの製造である。   Another way is to slow down the consolidation response. This is done by increasing the viscosity of the glass. Thus, if the strain point of the glass is much higher than the process temperature it undergoes (eg, if the strain point is about 200-300 ° C. higher than the process temperature after a short exposure), consolidation is minimal. is there. However, a challenge with this method is the production of high strain point glass that is cost effective.

本明細書に記載されているのは、高ひずみ点および良好な寸法安定性(すなわち、低圧密)を有するアルカリを含まないガラスおよびその製造方法である。さらに、ガラス組成物はまた、液晶ディスプレイ用基板の製造に重要なダウンドロー処理に必要な全ての特性も有している。   Described herein are alkali-free glasses having a high strain point and good dimensional stability (ie, low pressure density) and methods for making the same. Furthermore, the glass composition also has all the properties required for downdraw processing, which are important for the manufacture of liquid crystal display substrates.

米国特許第3,338,696号明細書U.S. Pat. No. 3,338,696 米国特許第3,682,609号明細書US Pat. No. 3,682,609

上述した目的に従って、具現化され、広く本明細書に記載された、開示された材料、化合物、組成物、物品、デバイスおよび方法は、フラットパネルディスプレイデバイス、例えば、アクティブマトリックス液晶ディスプレイ(AMLCD)において基板として用いるのに所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないボロアルミノシリケートガラスである。その特定の態様によれば、このガラスは、ひずみ点に応じて良好な寸法安定性を有している。さらなる利点は、以下の説明に一部記載され、一部は、説明から明らかであり、後述の態様を実施することにより見出されるであろう。後述する利点は、添付の請求項で具体的に示唆された要素および組合せにより実現され、かつ得られる。前述の一般的な説明および以下の詳細な説明は両方共、例示や説明のためであって、限定するためのものではないと考えられる。   In accordance with the objectives described above, the disclosed materials, compounds, compositions, articles, devices, and methods embodied and broadly described herein are in flat panel display devices, such as active matrix liquid crystal displays (AMLCDs). It is an alkali-free boroaluminosilicate glass that exhibits desired physical and chemical properties for use as a substrate. According to that particular embodiment, the glass has good dimensional stability depending on the strain point. Additional advantages will be set forth in part in the description which follows, and in part will be obvious from the description, and will be found by implementing the embodiments described hereinafter. The advantages described below will be realized and obtained by means of the elements and combinations particularly suggested in the appended claims. Both the foregoing general description and the following detailed description are considered to be illustrative and explanatory and not restrictive.

本明細書に組み込まれ、一部を構成する添付の図面は、後述するいくつかの態様を例示するものである。   The accompanying drawings, which are incorporated in and constitute a part of this specification, illustrate several aspects described below.

本明細書に記載した材料、化合物、組成物、物品、デバイスおよび方法は、開示された構成要件の特定の態様の以下の詳細な説明、実施例および図面を参照することにより容易に理解される。   The materials, compounds, compositions, articles, devices, and methods described herein are readily understood by reference to the following detailed description, examples, and drawings of specific aspects of the disclosed components. .

本発明の材料、化合物、組成物、物品、デバイスおよび方法を開示および記載する前に、以下に記載された態様は、特定の合成方法や特定の試薬(特定のバッチ成分)に限定されず、当然のことながら、変えることができるものと考えられる。また、本明細書で用いた用語は、特定の態様を説明するためのみであって、限定を意図するものではないと考えられる。さらに、本明細書全体にわたって、様々な文献が参照されている。これら文献の開示内容は全てが、本出願に参考文献として援用され、開示された内容に関係する最新技術をより完全に説明するものである。開示された参考文献はまた、参考文献が依拠する文章で述べられた、そこに含まれる材料について、別個に、かつ具体的に援用される。   Prior to disclosing and describing the materials, compounds, compositions, articles, devices and methods of the present invention, the embodiments described below are not limited to specific synthesis methods or specific reagents (specific batch components), Naturally, it can be changed. Further, the terms used in the present specification are only for describing specific aspects, and are not intended to be limiting. Furthermore, various references are made throughout this specification. The disclosures of these documents are all incorporated by reference into the present application and more fully describe the state of the art related to the disclosed content. The disclosed references are also separately and specifically incorporated by reference with respect to the materials contained therein, which are mentioned in the text on which the reference relies.

本明細書の説明および請求項全体にわたって、「含む(comprise)」という文言、およびこの文言のその他の形態、例えば、「含んでいる(comprising)」や「含む(comprises)」には、これらに限定されず、また、これらを排除するものではないが、例えば、他の添加剤、成分、整数または工程が含まれる。   Throughout the description and claims, the word “comprise” and other forms of this wording, such as “comprising” and “comprises” It is not limited and does not exclude these, but includes, for example, other additives, ingredients, integers or steps.

説明および添付の請求項で用いる「1つ(a)」、「1つ(an)」および「前記、該(the)」には、特に断りのない限り、複数も含まれる。このように、例えば、「組成物」には、2種類以上のかかる組成物の混合物が含まれ、「溶剤」には、2種類以上のかかる溶剤の混合物が含まれ、「層」には、2層以上のかかる層の組合せが含まれる。   As used in the description and the appended claims, “a”, “an”, and “the” include the plural unless specifically stated otherwise. Thus, for example, “composition” includes a mixture of two or more such compositions, “solvent” includes a mixture of two or more such solvents, and “layer” includes: Combinations of two or more such layers are included.

「任意の」または「任意で」は、これに続いて記載された事象や状況が、生じることも生じないこともあり、説明には、事象や状況が生じた場合と、生じない場合が含まれる。   “Any” or “optional” means that the event or situation described below may or may not occur, and the explanation includes when the event or situation occurs and when it does not occur It is.

本明細書に開示された特定の材料、化合物、組成物および成分は、商業的に入手して、または当業者に一般的に知られた技術を用いて、容易に合成することができる。例えば、開示された化合物および組成物を調製するのに用いる出発材料および試薬は、民間の供給業者より入手するか、当業者に知られた方法により調製される。   Certain materials, compounds, compositions and components disclosed herein can be readily obtained commercially or using techniques generally known to those skilled in the art. For example, starting materials and reagents used to prepare the disclosed compounds and compositions are obtained from commercial suppliers or prepared by methods known to those skilled in the art.

また、開示されているのは、開示された方法および組成物に用いることのできる、それと組み合わせることのできる、その調製に用いることのできる、またはその製品である材料、化合物、組成物および成分である。これらおよびその他の材料が本明細書に開示されており、これらの材料の組合せ、サブセット、相互作用、グループ等が開示されているとき、これらの化合物のそれぞれの様々な別個の、および集合的な組合せと順列が明確に開示されていなくても、それぞれが、具体的に予測され、本明細書に記載されているものと考えられる。例えば、組成物が開示され、組成物の数多くの成分について行える数多くの修正について述べられている場合には、特にそれに反する記述のない限り、可能なそれぞれの組合せと順列が具体的に予測される。このように、成分A、BおよびCの部類が、成分D、EおよびFの部類と共に開示され、組合せA−Dの一例が開示されている場合には、それぞれが別個に列挙されていなくても、それぞれが、別個に、かつ集合的に予測される。このように、この例においては、A−E、A−F、B−D、B−E、B−F、C−D、C−EおよびC−Fの組合せのそれぞれが具体的に予測され、A、BおよびC;D、EおよびFの開示から開示されたと考えられるものとし、一例の組合せはA−Dである。同様に、これらのサブセットまたは組合せも具体的に予測され、開示されている。このように、例えば、A−E、B−FおよびC−Eのサブグループが具体的に予測され、A、BおよびC;D、EおよびFの開示から開示されたと考えるものとし、一例の組合せはA−Dである。この概念は、これらに限られるものではない開示された組成物を製造および用いる方法における工程を含む、この開示内容の全ての態様に適用される。このように、実施できる様々な追加の工程がある場合には、これら追加の工程のそれぞれを、開示された方法の態様の具体的な態様または態様の組合せで実施でき、かかる組合せのそれぞれが、具体的に予測され、開示されたものと考えられるものとする。   Also disclosed are materials, compounds, compositions, and ingredients that can be used in, combined with, used in the preparation of, or products of, the disclosed methods and compositions. is there. When these and other materials are disclosed herein, and combinations, subsets, interactions, groups, etc. of these materials are disclosed, each of these compounds is disclosed in various separate and collective ways. Even though combinations and permutations are not explicitly disclosed, each is specifically predicted and considered to be described herein. For example, if a composition is disclosed and a number of modifications can be made to a number of components of the composition, each possible combination and permutation is specifically predicted unless specifically stated otherwise. . Thus, when the classes of components A, B and C are disclosed together with the classes of components D, E and F, and examples of combinations AD are disclosed, each is not listed separately Each is predicted separately and collectively. Thus, in this example, each of the combinations of AE, AF, BD, BE, BF, CD, CE, and CF is specifically predicted. , A, B, and C; D, E, and F are considered to be disclosed, an example combination is AD. Likewise, these subsets or combinations are also specifically predicted and disclosed. Thus, for example, the sub-group of AE, BF, and CE is specifically predicted and considered to be disclosed from the disclosure of A, B, and C; D, E, and F, The combination is AD. This concept applies to all aspects of this disclosure including, but not limited to, steps in methods of making and using the disclosed compositions. Thus, where there are a variety of additional steps that can be performed, each of these additional steps can be performed with a particular aspect or combination of aspects of the disclosed method aspects, each such combination being It is assumed that it was specifically predicted and disclosed.

サブセットの概念の特定の例として、本発明のガラスの成分の範囲(成分の合計の範囲を含む)またはこれらのガラスの特性の範囲、特に、請求項に記載された成分または特性の範囲は、範囲の上限か下限のいずれかで、本明細書に開示された成分または特性についての値まで狭める(補正する)ことができる。開示内容が、成分または特性の他の範囲(例えば、好ましい範囲)の対応する上限または下限、特定の実施例で用いる成分の量、特定の実施例で示される特性であるかに関わらない。実施例に基づいて請求範囲を狭めることに関して、実施例の他の部分が、狭めた請求の範囲内であるかどうかに関わらず、狭めることができる。   As a specific example of the concept of a subset, the range of components of the glass of the present invention (including the total range of components) or the range of properties of these glasses, in particular the range of components or properties recited in the claims, At either the upper or lower limits of the range, it can be narrowed (corrected) to values for the components or characteristics disclosed herein. It does not matter whether the disclosure is the corresponding upper or lower limit of other ranges of components or properties (eg, preferred ranges), the amount of components used in a particular embodiment, or the properties shown in a particular embodiment. With respect to narrowing the claims based on the embodiments, other portions of the embodiments can be narrowed regardless of whether they are within the narrowed claims.

開示された材料、化合物、組成物、物品および方法の具体的な態様を詳細に参照して、その例を、付随の実施例および図面に示す。   Reference will now be made in detail to specific embodiments of the disclosed materials, compounds, compositions, articles, and methods, examples of which are illustrated in the accompanying Examples and Figures.

本明細書に記載されているのは、高ひずみ点および良好な寸法安定性(すなわち、低圧密)を有するアルカリを含まないガラスおよびその製造方法である。高ひずみ点ガラスは、ガラス製造後の熱処理中、圧密/収縮によるパネルの歪みを防ぐことができる。   Described herein are alkali-free glasses having a high strain point and good dimensional stability (ie, low pressure density) and methods for making the same. High strain point glass can prevent panel distortion due to compaction / shrinkage during heat treatment after glass manufacture.

700℃を超えるひずみ点のガラスは、急冷され、短時間、再加熱されるガラスが受ける寸法変化(すなわち、圧密)を最小にする。一態様において、本明細書に記載されたガラス組成物は、700℃以上または710℃以上のひずみ点を有する。さらなる態様において、本明細書に記載されたガラス組成物は、700℃〜800℃、700℃〜775℃、700℃〜750℃、または700℃〜730℃のひずみ点を有する。さらなる態様において、本明細書に記載された高ひずみ点ガラス組成物は、600℃の熱処理を、5分間行うと、30ppm未満、25ppm未満、20ppm未満、15ppm未満または10ppm未満、熱圧密される。低圧密が好ましい。   Glasses with strain points above 700 ° C. are quenched and minimize the dimensional changes (ie, consolidation) experienced by glass that is reheated for a short period of time. In one embodiment, the glass composition described herein has a strain point of 700 ° C. or higher or 710 ° C. or higher. In further embodiments, the glass compositions described herein have a strain point of 700 ° C to 800 ° C, 700 ° C to 775 ° C, 700 ° C to 750 ° C, or 700 ° C to 730 ° C. In a further aspect, the high strain point glass compositions described herein are heat consolidated to less than 30 ppm, less than 25 ppm, less than 20 ppm, less than 15 ppm, or less than 10 ppm after 600 ° C. heat treatment for 5 minutes. Low pressure density is preferred.

一態様において、本明細書に記載されたガラスは、約700℃を超えるひずみ点を有し、5分間、600℃で熱処理した後、30ppmの圧密(すなわち、寸法変化)を受ける。この温度および時間は、低温ポリシリコン熱処理サイクルに近づけるために選択された。図1に、一連のガラスについての実験データを示す。x軸に沿って測定されたひずみ点対5分間で600℃の測定された寸法変化である。   In one aspect, the glasses described herein have a strain point greater than about 700 ° C. and undergo a 30 ppm consolidation (ie, dimensional change) after heat treatment at 600 ° C. for 5 minutes. This temperature and time was chosen to approximate the low temperature polysilicon heat treatment cycle. FIG. 1 shows experimental data for a series of glasses. Strain point measured along the x-axis versus measured dimensional change of 600 ° C. over 5 minutes.

一態様において、本明細書に記載されているのは、アルカリを含まないガラスであって、酸化物基準においてモルパーセントで、
SiO 64.0−72.0
Al 9.0−16.0
1.0−5.0
MgO+La 1.0−7.5
CaO 2.0−7.5
SrO 0.0−4.5
BaO 1.0−7.0
を含み、ここで、Σ(MgO+CaO+SrO+BaO+3La)/(Al)≧1.15であり、式中、Al、MgO、CaO、SrO、BaOおよびLaは、各酸化物成分のモルパーセントを表す。
In one aspect, described herein is an alkali-free glass, in mole percent on an oxide basis,
SiO 2 64.0-72.0
Al 2 O 3 9.0-16.0
B 2 O 3 1.0-5.0
MgO + La 2 O 3 1.0-7.5
CaO 2.0-7.5
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-7.0
Where Σ (MgO + CaO + SrO + BaO + 3La 2 O 3 ) / (Al 2 O 3 ) ≧ 1.15, where Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO and La 2 O 3 are each Represents the mole percent of the oxide component.

さらなる態様において、本明細書に記載されているのは、アルカリを含まないガラスであって、酸化物基準においてモルパーセントで、
SiO 64.0−72.0
1.0−5.0
Al 9.0−16.0
MgO+La 1.0−7.5
CaO 2.0−7.5
SrO 0.0−4.5
BaO 1.0−7.0
を含み、ここで、
(a)1.15≦Σ(MgO+CaO+SrO+BaO+3La)/(Al)≦1.55で、式中、Al、MgO、CaO、SrO、BaOおよびLaは、各酸化物成分のモルパーセントを表し、
(b)ガラスは、700℃以上のひずみ点を有し、
(c)ガラスは、200ポアズの粘度で、1,665℃以下の温度を有し、
(d)ガラスは、液相線温度で、85,000ポアズ以上の粘度を有する。
In a further aspect, described herein is an alkali-free glass, in mole percent on an oxide basis,
SiO 2 64.0-72.0
B 2 O 3 1.0-5.0
Al 2 O 3 9.0-16.0
MgO + La 2 O 3 1.0-7.5
CaO 2.0-7.5
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-7.0
Where, where
(A) 1.15 ≦ Σ (MgO + CaO + SrO + BaO + 3La 2 O 3 ) / (Al 2 O 3 ) ≦ 1.55, where Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO and La 2 O 3 are each Represents the mole percent of the oxide component,
(B) The glass has a strain point of 700 ° C. or higher,
(C) the glass has a viscosity of 200 poise and a temperature of 1,665 ° C. or less;
(D) The glass has a viscosity of 85,000 poise or more at the liquidus temperature.

他の態様において、本明細書に記載されているのは、アルカリを含まないガラスであって、酸化物基準においてモルパーセントで、
SiO 65.0−71.0
Al 9.0−16.0
1.5−4.0
MgO+La 0.5−7.5
CaO 2.0−6.0
SrO 0.0−4.5
BaO 1.0−7.0
LaO >0.0かつ4.0以下
を含み、ここで、
Σ(MgO+CaO+SrO+BaO+3La)/(Al)≧1.15(好ましくは、≧1.2)であり、式中、Al、MgO、CaO、SrO、BaOおよびLaは、各酸化物成分のモルパーセントを表す。
In other embodiments, described herein is an alkali-free glass, in mole percent on an oxide basis,
SiO 2 65.0-71.0
Al 2 O 3 9.0-16.0
B 2 O 3 1.5-4.0
MgO + La 2 O 3 0.5-7.5
CaO 2.0-6.0
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-7.0
La 2 O> 0.0 and 4.0 or less, where
Σ (MgO + CaO + SrO + BaO + 3La 2 O 3 ) / (Al 2 O 3 ) ≧ 1.15 (preferably ≧ 1.2), where Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO and La 2 O 3 Represents the mole percent of each oxide component.

さらなる態様において、本明細書に記載されているのは、アルカリを含まないガラスであって、酸化物基準においてモルパーセントで、
SiO 65.0−72.0
Al 10.0−15.0
1.0−4.0
MgO 2.0−7.5
CaO 3.0−6.0
SrO 0.0−4.5
BaO 1.0−6.0
を含み、ここで、
Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al)≧1.15であり、式中、Al、MgO、CaO、SrOおよびBaOは、各酸化物成分のモルパーセントを表す。
In a further aspect, described herein is an alkali-free glass, in mole percent on an oxide basis,
SiO 2 65.0-72.0
Al 2 O 3 10.0-15.0
B 2 O 3 1.0-4.0
MgO 2.0-7.5
CaO 3.0-6.0
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-6.0
Where, where
Σ (MgO + CaO + SrO + BaO) / (Al 2 O 3 ) ≧ 1.15, where Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO and BaO represent the mole percentage of each oxide component.

さらなる態様において、本明細書に記載されているのは、SiO、Al、B、MgO、CaO、およびSrOとBaOとの少なくとも一方を含むアルカリを含まないガラスであって、ガラス組成物が、
[MgO]:[CaO]:[SrO+BaO]=1±0.15:1±0.15:1±0.15(好ましくは、[MgO]:[CaO]:[SrO+BaO]=1±0.1:1±0.1:1±0.1)
という関係を満たし、式中、[MgO]、[CaO]および[SrO+BaO]は、酸化物基準におけるモルパーセントでのガラスの指示された成分の濃度である。好ましくは、この態様に関連して、B濃度は、4.0モルパーセント以下である。実施例に示したとおり、上記の関係を満たすガラスは、ダウンドロー法、例えば、フュージョン法に望ましい低液相線温度(高液相線粘度)を有することが分かっている。後述するように、SrOおよびBaO濃度を調整して、ひずみ点、CTEおよび密度を最適にすることができる。モルパーセントにおけるBaO/SrO比は、2.0以上であるのが好ましい。
In a further aspect, described herein is SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , MgO, CaO, and an alkali-free glass comprising at least one of SrO and BaO. The glass composition is
[MgO]: [CaO]: [SrO + BaO] = 1 ± 0.15: 1 ± 0.15: 1 ± 0.15 (preferably [MgO]: [CaO]: [SrO + BaO] = 1 ± 0.1 : 1 ± 0.1: 1 ± 0.1)
Where [MgO], [CaO] and [SrO + BaO] are the concentration of the indicated component of the glass in mole percent on an oxide basis. Preferably, in this regard, the B 2 O 3 concentration is 4.0 mole percent or less. As shown in the Examples, it has been found that a glass that satisfies the above relationship has a low liquidus temperature (high liquidus viscosity) that is desirable for a downdraw process, for example, a fusion process. As described below, SrO and BaO concentrations can be adjusted to optimize strain point, CTE, and density. The BaO / SrO ratio in mole percent is preferably 2.0 or more.

本明細書に記載したガラス組成物において、SiOは、基本的なガラス形成剤として機能する。特定の態様において、SiOの濃度は、64モルパーセントを超えると、フラットパネルディスプレイガラス(例えば、AMLCDガラス)に好適な密度および化学耐久性、液相線温度(液相線粘度)を備えたガラスが得られ、ダウンドロー法(例えば、フュージョン法)によりガラスを形成することができる。上限に関して、一般に、SiO濃度は、約72.0モルパーセント以下とすると、耐熱性溶融装置において、従来の高容積、溶融技術、例えば、ジュール溶融を用いて、バッチ材料を溶融することができる。SiOの濃度が増えるにつれ、200ポアズの温度(融点)は通常上がる。様々な用途において、SiO濃度を調整して、ガラス組成物の融点が、1,650℃以下となるようにする。一態様において、SiO濃度は、66.0〜71.0モルパーセントまたは66.5〜70.5モルパーセントである。 In the glass composition described herein, SiO 2 functions as a basic glass former. In certain embodiments, when the concentration of SiO 2 exceeds 64 mole percent, it has a density and chemical durability suitable for flat panel display glass (eg, AMLCD glass), liquidus temperature (liquidus viscosity). Glass is obtained, and the glass can be formed by a downdraw method (for example, a fusion method). With respect to the upper limit, generally, if the SiO 2 concentration is about 72.0 mole percent or less, the batch material can be melted using conventional high volume, melting techniques such as Joule melting in a heat resistant melter. . As the SiO 2 concentration increases, the temperature (melting point) of 200 poise usually increases. In various applications, the SiO 2 concentration is adjusted so that the melting point of the glass composition is 1,650 ° C. or lower. In one embodiment, SiO 2 concentration is 66.0 to 71.0 mole percent or 66.5 to 70.5 mole percent.

Alは、本明細書に記載したガラスを作製するのに用いる他のガラス形成剤である。9.0モルパーセント以上のAl濃度であると、ガラスに、低液相線温度および対応する高液相線粘度を与える。少なくとも9.0モルパーセントのAlを用いるとまた、ガラスのひずみ点および弾性率も改善する。1.15以上(以下参照)のΣ(MgO+CaO+SrO+BaO+3La)/(Al)比を得るには、Al濃度を、16.0モルパーセント未満に保つのが望ましい。一態様において、Al濃度は、12.0〜15.0モルパーセントである。 Al 2 O 3 is another glass former used to make the glass described herein. An Al 2 O 3 concentration of 9.0 mole percent or higher gives the glass a low liquidus temperature and a corresponding high liquidus viscosity. Using at least 9.0 mole percent Al 2 O 3 also improves the strain point and modulus of the glass. To obtain a Σ (MgO + CaO + SrO + BaO + 3La 2 O 3 ) / (Al 2 O 3 ) ratio of 1.15 or higher (see below), it is desirable to keep the Al 2 O 3 concentration below 16.0 mole percent. In one embodiment, Al 2 O 3 concentration is from 12.0 to 15.0 mole percent.

は、ガラス形成剤と、溶融を補助し、融点を下げる融剤の両方である。これらの効果を得るためには、本明細書に記載したガラス組成物のB濃度は、1.0モルパーセント以上とする。 B 2 O 3 is both a glass former and a flux that aids melting and lowers the melting point. In order to obtain these effects, the B 2 O 3 concentration of the glass composition described in the present specification is 1.0 mole percent or more.

ディスプレイの処理中、ガラスシートは、対向する端部だけで保持されることが多い。従って、シートの未支持の中央部分が垂下する。垂下量は、シートの幾何形状、密度およびガラスのヤング率の関数である。シートの幾何形状は、用いる特定のプロセスにより決まり、ガラス製造業者の管理を超えている。固定した密度については、ヤング率の増加が望ましい。輸送、取扱いおよび熱処理中、大きなガラスシートが示す垂下量が減少するからである。同様に、ヤング率の増加に比例して、密度の増加を伴う、または、垂下が増大する結果となる。一態様において、ガラスの密度は、2.75グラム/cm以下である。他の態様において、ガラス自体の垂下への寄与を最小にするためには、ヤング率/密度の比率が、30.0GPa・cm/gを超える、30.5GPa・cm/gを超える、31.2GPa・cm/gを超える、または32.2GPa・cm/gを超えるのが望ましい。より高い比率が好ましい。アルカリ土類酸化物、LaまたはAlに代えると、Bの密度は減少するが、ヤング率はさらに急速に減少する。このように、B含量は、適度に低く保つのが望ましい。Bはまた、ひずみ点を低下させる傾向もあり、この理由から、ガラスのB含量は、できる限り低く保つのが好ましい。 During display processing, glass sheets are often held only at opposite ends. Accordingly, the unsupported central portion of the sheet hangs down. The amount of sag is a function of sheet geometry, density and glass Young's modulus. Sheet geometry depends on the specific process used and is beyond the control of the glass manufacturer. For a fixed density, an increase in Young's modulus is desirable. This is because the drooping amount exhibited by the large glass sheet decreases during transportation, handling and heat treatment. Similarly, in proportion to the increase in Young's modulus, it results in an increase in density or an increase in droop. In one embodiment, the density of the glass is 2.75 grams / cm 3 or less. In another aspect, to minimize the contribution to the droop of the glass itself, the ratio of Young's modulus / density, more than 30.0GPa · cm 3 / g, more than 30.5GPa · cm 3 / g, exceeds 31.2GPa · cm 3 / g, or desirably exceed 32.2GPa · cm 3 / g. Higher ratios are preferred. Substituting alkaline earth oxides, La 2 O 3 or Al 2 O 3 , reduces the density of B 2 O 3 but decreases the Young's modulus more rapidly. Thus, it is desirable to keep the B 2 O 3 content reasonably low. B 2 O 3 also tends to lower the strain point, and for this reason it is preferred to keep the B 2 O 3 content of the glass as low as possible.

SiOに関して上述したとおり、LCD用途においては、ガラス耐久性もまた非常に重要である。耐久性は、アルカリ土類およびランタン酸化物の濃度を上げ、高含量のBを大幅に減じることにより、若干制御することができる。ひずみ点およびヤング率のように、B含量を低く保つのが望ましい。このように、上記の特性を達成するには、一態様において、本明細書に記載したガラスは、5.0モルパーセント以下、1.0〜5.0モルパーセント、1.0〜4.0モルパーセント、2.0〜4.0モルパーセントのB濃度を有する。 As described above with respect to SiO 2, in LCD applications, glass durability is also very important. Durability can be controlled slightly by increasing the alkaline earth and lanthanum oxide concentrations and significantly reducing the high content of B 2 O 3 . It is desirable to keep the B 2 O 3 content low, such as strain point and Young's modulus. Thus, to achieve the above properties, in one aspect, the glass described herein is 5.0 mole percent or less, 1.0-5.0 mole percent, 1.0-4.0. mole percent, has a B 2 O 3 concentration of 2.0 to 4.0 mole percent.

ガラスの溶融および形成特性を維持しながら、ひずみ点を増大し、弾性率を増大し、耐久性を改善し、密度を減じ、熱膨張係数(CTE)を減じるために、AlおよびB濃度は、対として選択することができる。 Al 2 O 3 and B in order to increase strain point, increase elastic modulus, improve durability, reduce density and reduce coefficient of thermal expansion (CTE) while maintaining glass melting and forming properties The 2 O 3 concentration can be selected as a pair.

例えば、Bの増加と、対応するAlの減少は、低密度およびCTEを得るのに有用であり、一方、Alの増加と、対応するBの減少は、ひずみ点、弾性率および耐久性を増大するのに有用である。ただし、Alの増加が、Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al)またはΣ(MgO+CaO+SrO+BaO+3La)/(Al)比を約1.15より減少しないという場合に限る。例えば、当該技術分野で知られているとおり、AMLCD用途で用いるガラスのCTE(0〜300℃)は、28−42×10-7/℃、好ましくは30−40×10-7/℃、最も好ましくは32−38×10-7/℃の範囲である。後述する実施例で示したような他の温度範囲、例えば、25〜300℃について測定されたCTEは、測定値に補正を加えることにより、0〜300℃の範囲に変換することができる。25〜300℃の範囲について測定したCTE値を、0〜300℃の範囲についての値に変換する場合には、−0.8×10-7/℃の補正が、AMLCDシリカ系ガラスにとって適切であることが見出されている。CTEに関して、従来、ランプガラスは、低ホウ素および高アルカリ土類含量を有しているが(高アルカリ土類対アルミナ比につながる)、これらのガラスは、故意に、42×10-7/℃を超えるCTEを有していて、これは、モリブデンリード線に匹敵するものである。従って、ランプガラスは、AMLCD用途で用いるのには好適ではない。 For example, an increase in B 2 O 3 and a corresponding decrease in Al 2 O 3 is useful to obtain low density and CTE, while an increase in Al 2 O 3 and a corresponding decrease in B 2 O 3 Is useful for increasing the strain point, modulus, and durability. Provided, however, that the increase of Al 2 O 3 is, Σ (MgO + CaO + SrO + BaO) / (Al 2 O 3) or Σ (MgO + CaO + SrO + BaO + 3La 2 O 3) / (Al 2 O 3) not lower than about 1.15 ratio. For example, as is known in the art, the CTE (0-300 ° C.) of glass used in AMLCD applications is 28-42 × 10 −7 / ° C., preferably 30-40 × 10 −7 / ° C., most The range is preferably 32-38 × 10 −7 / ° C. The CTE measured for other temperature ranges, for example, 25 to 300 ° C. as shown in the examples described later, can be converted to a range of 0 to 300 ° C. by correcting the measured values. When converting CTE values measured for the range of 25-300 ° C to values for the range of 0-300 ° C, a correction of -0.8x10 -7 / ° C is appropriate for AMLCD silica-based glasses. It has been found to be. With respect to CTE, traditionally lamp glasses have a low boron and high alkaline earth content (leading to a high alkaline earth to alumina ratio), but these glasses are deliberately 42 × 10 −7 / ° C. Which has a CTE greater than that which is comparable to molybdenum leads. Accordingly, the lamp glass is not suitable for use in AMLCD applications.

ガラス形成剤(SiO、AlおよびB)に加えて、本明細書に記載したガラスはまた、アルカリ土類酸化物も含む。一態様において、少なくとも3つのアルカリ土類酸化物、例えば、MgO、CaOおよびBaOと、任意でSrOが、ガラス組成物の一部である。アルカリ土類酸化物は、ガラスに、溶融、清澄、成形および最終用途にとって重要な様々な特性を与える。従って、これらに関して、ガラス性能を改善するには、一態様において、Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al)比は、1.15以上、1.2以上または1.25以上である。他の態様において、Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al)比は、1.55以下、1.50以下である。 In addition to the glass formers (SiO 2, Al 2 O 3 and B 2 O 3), glass described herein also include alkaline earth oxides. In one aspect, at least three alkaline earth oxides, such as MgO, CaO and BaO, and optionally SrO are part of the glass composition. Alkaline earth oxides give the glass various properties that are important for melting, fining, shaping and end use. Accordingly, to improve the glass performance in these respects, in one embodiment, the Σ (MgO + CaO + SrO + BaO) / (Al 2 O 3 ) ratio is 1.15 or more, 1.2 or more, or 1.25 or more. In another embodiment, the Σ (MgO + CaO + SrO + BaO) / (Al 2 O 3 ) ratio is 1.55 or less and 1.50 or less.

ガラス中の、MgO、Laまたはこれらの組合せの濃度と、ガラスのΣ(MgO+CaO+SrO+BaO+3La)/(Al)比は、ガラス性能、特に溶融性と清澄性に影響し得る。従って、これらに関して、ガラス性能を改善するには、一態様において、Σ(MgO+CaO+SrO+BaO+3La)/(Al)比は、1.15以上、1.20以上、1.25以上である。他の態様において、Σ(MgO+CaO+SrO+BaO+3La)/(Al)比は、1.15以上、1.55以下、1.25以上および1.45以下である。 The concentration of MgO, La 2 O 3 or combinations thereof in the glass and the Σ (MgO + CaO + SrO + BaO + 3La 2 O 3 ) / (Al 2 O 3 ) ratio of the glass can affect glass performance, especially meltability and clarity. . Accordingly, in order to improve the glass performance in these respects, in one aspect, the Σ (MgO + CaO + SrO + BaO + 3La 2 O 3 ) / (Al 2 O 3 ) ratio is 1.15 or more, 1.20 or more, 1.25 or more. . In another embodiment, the Σ (MgO + CaO + SrO + BaO + 3La 2 O 3 ) / (Al 2 O 3 ) ratio is 1.15 or more, 1.55 or less, 1.25 or more and 1.45 or less.

本発明の特定の実施形態について、MgOとLaは、事実上、単一組成成分として処理される。これは、粘弾特性、液相線温度および液相関係に対する影響が、定量的に非常に似ているからである。他のアルカリ土類酸化物は、長石鉱物、特に、灰長石(CaAlSi)およびセルシアン(BaAlSi)およびこのストロンチウム含有固溶体を形成する。MgOもLaも、これらの結晶にはあまり加わっていない。従って、長石結晶が既に液相のときは、MgOまたはLaを特に添加すると、結晶に対して液体を安定化し、液相線温度を下げる役割を実際には果たす。同時に、粘度曲線が、典型的に、急勾配になって、低温粘度にほとんど、または全く影響を与えずに、融点を下げる。この意味で、少量のMgOおよび/またはLaの添加は、高ひずみ点と低圧密を保ちつつ、融点を下げることによる溶解の利点、液相温度を下げ、液相線粘度を上げることによる成形の利点が得られる。 For certain embodiments of the invention, MgO and La 2 O 3 are effectively treated as a single composition component. This is because the effects on viscoelastic properties, liquidus temperature and liquid phase relationship are quantitatively very similar. Other alkaline earth oxides form feldspar minerals, in particular anorthite (CaAl 2 Si 2 O 8 ) and celsian (BaAl 2 Si 2 O 8 ) and this strontium-containing solid solution. Neither MgO nor La 2 O 3 is added to these crystals. Therefore, when the feldspar crystals are already in the liquid phase, the addition of MgO or La 2 O 3 actually serves to stabilize the liquid relative to the crystals and lower the liquidus temperature. At the same time, the viscosity curve typically becomes steep and lowers the melting point with little or no effect on low temperature viscosity. In this sense, the addition of a small amount of MgO and / or La 2 O 3 reduces the melting point, lowers the liquidus temperature, and raises the liquidus viscosity while maintaining the high strain point and low pressure density. The advantage of molding by is obtained.

これらの特性に与えるMgOとLaの影響は同様であるが、その他の主要なガラス特性に与える影響は非常に異なる。Laは、MgOに比べ、密度を大きく増やし、CTEは穏やかに増やす。いずれかを本発明のアルミノシリケートガラスに添加すると、ヤング率は典型的に増えるが、密度が、La含量により速やかに増えて、比弾性率(密度で除算したヤング率)を減少させる。熱処理中のシートの過剰な垂下を避けるには、AMLCD基板について典型的な値である、少なくとも28MPa・m/kgの比弾性率を有するのが望ましい。本発明のガラスのヤング率は、約77.6〜約83GPaであり、密度が約2.75g/ccを超えるときは、比弾性率は所望のレベルより低くなる。このため、Laを抑制する必要性は、粘弾特性に所望の影響を得る必要性よりも高くない。MgOはこの影響を与えないが、高濃度では、バリウムアルミノシリケートセルシアンに高い溶解性があるのが分かっており、液相のためには、Laに匹敵するレベルまたはそれ以下に保持する必要がある。 The effects of MgO and La 2 O 3 on these properties are similar, but the effects on other key glass properties are very different. La 2 O 3 greatly increases the density and CTE increases gently compared to MgO. When either is added to the aluminosilicate glass of the present invention, Young's modulus typically increases, but the density rapidly increases with La 2 O 3 content, decreasing the specific modulus (Young's modulus divided by density). . To avoid excessive sagging of the sheet during heat treatment, it is desirable to have a specific modulus of at least 28 MPa · m 3 / kg, which is typical for AMLCD substrates. The Young's modulus of the glass of the present invention is about 77.6 to about 83 GPa, and when the density exceeds about 2.75 g / cc, the specific modulus is lower than desired. For this reason, the need to suppress La 2 O 3 is not higher than the need to obtain the desired effect on viscoelastic properties. MgO does not have this effect, but at high concentrations it has been found that barium aluminosilicate celsian has a high solubility, and for the liquid phase it remains at a level comparable to La 2 O 3 or below. There is a need to.

MgO+Laの合計を増やすことにより、液相線温度が上がり、液相線粘度は、高粘度形成プロセス(例えば、フュージョン法)を用いると損なわれるようなレベルまで落ちる可能性がある。従って、MgOとLaの量は、ガラス形成にとって望ましい特性が得られるように調整することができる。 Increasing the total MgO + La 2 O 3 increases the liquidus temperature, and the liquidus viscosity can drop to a level that would be compromised using a high viscosity forming process (eg, a fusion process). Accordingly, the amount of MgO and La 2 O 3 can be adjusted to obtain desirable properties for glass formation.

濃度に関して、両者が存在するときは、MgO+Laを組み合わせた濃度は、上述した様々な利点を得るには、1.0〜7.5モルパーセントでなければならない。他の態様において、MgO濃度は、特に、MgOを、Laなしで用いるときは特に、2.0〜6.0モルパーセント、または3.0〜6.0モルパーセントである。さらなる態様において、La濃度は、ガラスの密度を上げないために、約3.0モルパーセント以下に保つのが好ましい。 In terms of concentration, when both are present, the combined concentration of MgO + La 2 O 3 must be 1.0 to 7.5 mole percent to obtain the various advantages described above. In another embodiment, MgO concentration, in particular, the MgO, when used in La 2 O 3 No is particularly 2.0 to 6.0 mole percent, or 3.0 to 6.0 mole percent. In a further aspect, the La 2 O 3 concentration is preferably kept below about 3.0 mole percent so as not to increase the density of the glass.

ガラス組成物中に存在する酸化カルシウムは、フラットパネル用途、特に、AMLCD用途について、最も望ましい範囲の低液相線温度(高液相線粘度)、高ひずみ点および弾性率、ならびにCTEを生成できる。また、化学的耐久性にも寄与するため好ましく、他のアルカリ土類酸化物に比べて、バッチ材料としては比較的安価である。しかしながら、高濃度だと、CaOは、密度およびCTEを増加させる。さらに、十分に低いSiO濃度だと、CaOは、灰長石を安定化させて、液相線粘度が減少する。従って、一態様において、CaO濃度は、2.0モルパーセント以上とすることができる。他の態様において、ガラス組成物のCaO濃度は、7.5モルパーセント以下、3.0〜7.5モルパーセントである。 Calcium oxide present in the glass composition can produce the most desirable ranges of low liquidus temperature (high liquidus viscosity), high strain point and modulus, and CTE for flat panel applications, particularly AMLCD applications. . It is also preferable because it contributes to chemical durability, and is relatively inexpensive as a batch material compared to other alkaline earth oxides. However, at high concentrations, CaO increases density and CTE. Furthermore, if the SiO 2 concentration is sufficiently low, CaO stabilizes anorthite and the liquidus viscosity decreases. Therefore, in one embodiment, the CaO concentration can be 2.0 mole percent or more. In other embodiments, the CaO concentration of the glass composition is 7.5 mole percent or less, 3.0 to 7.5 mole percent.

残りのアルカリ土類酸化物SrOおよびBaOは、両者共、低液相線温度(高液相線粘度)に寄与し、本明細書に記載したガラスは、典型的に、これらの酸化物のうち少なくとも1つを含有する。しかしながら、これらの酸化物の選択および濃度は、CTEと密度の増加、および弾性率とひずみ点の減少を排除するように選択される。SrOとBaOの相対的な比率を釣り合わせて、物理特性と液相線粘度の好適な組合せが得られるようにし、ガラスがダウンドロー法により形成できるようにする。   The remaining alkaline earth oxides SrO and BaO both contribute to low liquidus temperature (high liquidus viscosity), and the glasses described herein are typically among these oxides. Contains at least one. However, the selection and concentration of these oxides is selected to eliminate CTE and density increases, and elastic modulus and strain point decreases. The relative proportions of SrO and BaO are balanced so that a suitable combination of physical properties and liquidus viscosity is obtained and the glass can be formed by the downdraw method.

本発明のガラスの中心成分の効果/役割をまとめると、SiOが基本的なガラス形成剤である。AlとBもまたガラス形成剤であり、対として選択することができる。例えば、用いるBを増やし、これに対応して、Alを減らすと、低密度およびCTEとなり、用いるAlを増やし、これに対応して、Bを減らすと、ひずみ点、弾性率および耐久性が増加する。ただし、Alを増やしても、RO/(Al)または(RO+3La)/(Al)比を約1.15未満に下げないものとする。式中、RO=Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)である。この比が低すぎると、溶融性が損なわれる。すなわち、融点が高くなりすぎる。Bを用いて融点を下げることができるが、高レベルのBだと、ひずみ点が損なわれる。 To summarize the effect / role of the central component of the glass of the present invention, SiO 2 is the basic glass former. Al 2 O 3 and B 2 O 3 are also glass formers and can be selected as a pair. For example, increasing B 2 O 3 used and correspondingly decreasing Al 2 O 3 results in low density and CTE, increasing Al 2 O 3 used and correspondingly decreasing B 2 O 3 . As a result, the strain point, elastic modulus and durability increase. However, even if Al 2 O 3 is increased, the RO / (Al 2 O 3 ) or (RO + 3La 2 O 3 ) / (Al 2 O 3 ) ratio is not lowered to less than about 1.15. In the formula, RO = Σ (MgO + CaO + SrO + BaO). If this ratio is too low, the meltability is impaired. That is, the melting point becomes too high. B 2 O 3 can lower the melting point by using it, that's B 2 O 3 of high level, the strain point is impaired.

溶融性とひずみ点の考慮に加えて、AMCLD用途については、ガラスのCTEが、シリコンに匹敵するものでなければならない。かかるCTE値を得るために、本発明のガラスは、ガラスのRO含量(または、Laを含むガラスについてのRO+3La含量)を制御する。あるAl含量について、RO含量を制御することは、RO/Al比(またはLaを含むガラスについては、(RO+3La)/Al比)を制御することに対応する。実際、好適なCTEを有するガラスは、RO/Al比(または(RO+3La)/Al比)が約1.55未満の場合に作製される。 In addition to meltability and strain point considerations, for AMCLD applications, the CTE of the glass must be comparable to silicon. To obtain such a CTE value, the glass of the present invention controls the RO content of the glass (or, RO + 3La 2 O 3 content of glass containing La 2 O 3). For a Al 2 O 3 content, controlling the RO content (for glasses containing the or La 2 O 3, (RO + 3La 2 O 3) / Al 2 O 3 ratio) RO / Al 2 O 3 ratio control Corresponding to. In fact, a glass with a suitable CTE is made when the RO / Al 2 O 3 ratio (or (RO + 3La 2 O 3 ) / Al 2 O 3 ratio) is less than about 1.55.

これらの考慮に加えて、ガラスは、ダウンドロー法、例えば、フュージョン法により形成可能であるのが好ましい。すなわち、ガラスの液相線粘度を比較的高くする必要がある。個々のアルカリ土類は、これに関して重要な役割を演じる。形成される結晶相を不安定にする可能性があるためである。BaOとSrOは、液相線粘度を制御するのに特に効率的であり、少なくともこの目的のために、本発明のガラスに含まれる。以下の実施例で示すように、アルカリ土類の様々な組合せによって、高液相線粘度を有するガラスが作製される。アルカリ土類(用いるときはLaも)全体で、低融点、高ひずみ点および好適なCTEを得るのに必要なRO/Al比(または(RO+3La)/Al比)の制限を満足する。 In addition to these considerations, the glass can preferably be formed by a downdraw method, for example, a fusion method. That is, the liquidus viscosity of the glass needs to be relatively high. Individual alkaline earths play an important role in this regard. This is because the formed crystal phase may be unstable. BaO and SrO are particularly efficient in controlling the liquidus viscosity and are included in the glasses of the present invention at least for this purpose. As shown in the following examples, glasses with high liquidus viscosity are produced by various combinations of alkaline earths. RO / Al 2 O 3 ratio (or (RO + 3La 2 O 3 ) / Al 2 required to obtain a low melting point, high strain point, and suitable CTE across alkaline earths (also La 2 O 3 when used) It satisfies the limit of O 3 ratio).

上記の成分に加えて、本明細書に記載したガラス組成物は、ガラスの様々な物理、溶融、清澄および成形属性を調整するために、様々なその他の酸化物を含むことができる。かかるその他の酸化物としては、これらに限られるものではないが、TiO、MnO、Fe、ZnO、Nb、MoO、Ta、WO、YおよびCeOが例示される。一態様において、これらの各酸化物の量は、2.0モルパーセント以下とし、合計の組合せた濃度は、4.0モルパーセント以下とする。本明細書に記載したガラス組成物はまた、バッチ材料に関連した、および/またはガラスを作製するのに用いる溶融、清澄および/または形成装置によりガラスに導入された様々な汚染物質、特に、FeやZrOも含む可能性がある。ガラスはまた、酸化錫電極を用いるジュール溶融の結果、および/または錫含有材料、例えば、SnO、SnO、SnCO、SnC等の計量により、SnOを含有する可能性もある。 In addition to the components described above, the glass compositions described herein can include various other oxides to adjust various physical, melting, fining, and forming attributes of the glass. Such other oxides include, but are not limited to, TiO 2 , MnO, Fe 2 O 3 , ZnO, Nb 2 O 5 , MoO 3 , Ta 2 O 5 , WO 3 , Y 2 O 3 and CeO 2 is exemplified. In one embodiment, the amount of each of these oxides is 2.0 mole percent or less, and the total combined concentration is 4.0 mole percent or less. The glass compositions described herein also include various contaminants, particularly Fe, associated with batch materials and / or introduced into the glass by melting, fining and / or forming equipment used to make the glass. 2 O 3 and ZrO 2 may also be included. Glass is also a result of the Joule melting using tin oxide electrodes, and / or tin-containing materials, for example, SnO 2, SnO, by weighing such SnCO 3, SnC 2 O 4, possibly containing SnO 2.

ガラス組成物は、概してアルカリを含まないが、ガラスはある程度のアルカリ汚染物質を含む可能性がある。AMCLD用途においては、アルカリレベルを、0.1モルパーセント未満に保って、ガラスから、TFTのシリコンへのアルカリイオンの拡散により、薄膜トランジスタ(TFT)性能に悪影響を及ぼさないようにするのが望ましい。本明細書で用いる「アルカリを含まないガラス」は、0.1モルパーセント以下の合計アルカリ濃度を有するガラスである。合計アルカリ濃度は、NaO、KOおよびLiO濃度の合計である。一態様において、合計アルカリ濃度は、0.07モルパーセント以下である。 Glass compositions are generally free of alkali, but glass can contain some alkaline contaminants. In AMCLD applications, it is desirable to keep the alkali level below 0.1 mole percent so that diffusion of alkali ions from the glass into the silicon of the TFT does not adversely affect thin film transistor (TFT) performance. As used herein, “glass without alkali” is a glass having a total alkali concentration of 0.1 mole percent or less. The total alkali concentration is the sum of Na 2 O, K 2 O and Li 2 O concentrations. In one embodiment, the total alkali concentration is 0.07 mole percent or less.

上述したように、1.15以上のΣ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al)およびΣ(MgO+CaO+SrO+BaO+3La)/(Al)比により、清澄、すなわち、ガス状含有物の溶融バッチ材料からの除去が改善される。この改善によって、より環境に優しい清澄パッケージを用いることができる。例えば、酸化物基準で、本明細書に記載したガラス組成物は、以下の組成特性のうち1つ以上、または全てを有することができる。
(i)最大で0.05モルパーセントのAs濃度、
(ii)最大で0.05モルパーセントのSb濃度、
(iii)最大で0.2モルパーセントのSnO濃度。
As described above, clarification, that is, a molten batch of gaseous inclusions, with a ratio of Σ (MgO + CaO + SrO + BaO) / (Al 2 O 3 ) and Σ (MgO + CaO + SrO + BaO + 3La 2 O 3 ) / (Al 2 O 3 ) of 1.15 or more Removal from the material is improved. With this improvement, a clearer package that is more environmentally friendly can be used. For example, on an oxide basis, the glass compositions described herein can have one or more or all of the following composition characteristics.
(I) an As 2 O 3 concentration of up to 0.05 mole percent,
(Ii) up to 0.05 mole percent Sb 2 O 3 concentration;
(Iii) A maximum of 0.2 mole percent SnO 2 concentration.

Asは、AMLCDガラスについての効率的な高温清澄剤であり、本明細書に記載したある態様において、Asは、その優れた清澄特性のために、清澄に用いられる。しかしながら、Asは毒性があり、ガラス製造プロセスにおいては特別な取り扱いが必要である。従って、特定の態様においては、大量のAsを用いずに清澄を行う。すなわち、仕上がりガラスのAsは、最大で0.05モルパーセントとする。一態様においては、ガラスの清澄には、意図的にAsは使わない。そのような場合、バッチ材料および/またはバッチ材料を溶融するのに用いる装置に存在する汚染物質により、仕上がりガラスのAsは、最大で0.005モルパーセントである。 As 2 O 3 is an efficient high temperature fining agent for AMLCD glasses, and in certain embodiments described herein, As 2 O 3 is used for fining because of its superior fining properties. However, As 2 O 3 is toxic and requires special handling in the glass manufacturing process. Therefore, in a specific embodiment, clarification is performed without using a large amount of As 2 O 3 . That is, the As 2 O 3 of the finished glass is 0.05 mol percent at the maximum. In one embodiment, As 2 O 3 is not intentionally used for glass fining. In such cases, the As 2 O 3 of the finished glass is at most 0.005 mole percent due to contaminants present in the batch material and / or equipment used to melt the batch material.

Asほどではないが、Sbも毒性があるため、特別な取り扱いが必要である。さらに、Sbは、AsまたはSnOを清澄剤として用いるガラスに比べ、密度を上げ、CTEを上げ、ひずみ点を下げる。従って、特定の態様においては、大量のSbを用いずに清澄を行う。すなわち、仕上がりガラスのSbは、最大で0.05モルパーセントとする。他の態様においては、ガラスの清澄には、意図的にSbは使わない。そのような場合、バッチ材料および/またはバッチ材料を溶融するのに用いる装置に存在する汚染物質により、仕上がりガラスのSbは、最大で0.005モルパーセントである。 Although not as much as As 2 O 3 , Sb 2 O 3 is also toxic and requires special handling. Furthermore, Sb 2 O 3 raises the density, raises the CTE, and lowers the strain point compared to glass using As 2 O 3 or SnO 2 as a fining agent. Therefore, in a specific embodiment, clarification is performed without using a large amount of Sb 2 O 3 . That is, Sb 2 O 3 of the finished glass is 0.05 mol percent at the maximum. In other embodiments, Sb 2 O 3 is not intentionally used for glass fining. In such cases, the Sb 2 O 3 of the finished glass is at most 0.005 mole percent due to contaminants present in the batch material and / or equipment used to melt the batch material.

AsおよびSb清澄に比べると、錫清澄(すなわち、SnO清澄)はあまり効率的でないが、SnOは、有害な特性が認められないどこにでもある材料である。また、長年にわたって、SnOは、ガラスのバッチ材料のジュール溶解において、錫酸化物電極を利用するAMLCDガラスの成分となっている。AMLCDガラスにSnOが存在しても、液晶ディスプレイの製造において、これらのガラスを用いる悪影響は認められていない。しかしながら、高濃度のSnOは好ましくない。AMLCDガラスにおける結晶欠陥の形成となり得るからである。一態様において、仕上がりガラスのSnOの濃度は、0.2モルパーセント以下である。 Compared to As 2 O 3 and Sb 2 O 3 fining, tin fining (ie, SnO 2 fining) is less efficient, but SnO 2 is a material that is everywhere no harmful properties are observed. For many years, SnO 2 has also been a component of AMLCD glass that utilizes tin oxide electrodes in Joule melting of glass batch materials. Even in the presence of SnO 2 in AMLCD glasses, no adverse effects using these glasses have been observed in the production of liquid crystal displays. However, high concentrations of SnO 2 are not preferred. This is because crystal defects can be formed in AMLCD glass. In one embodiment, the finished glass has a SnO 2 concentration of 0.2 mole percent or less.

錫清澄は、所望により、単独、あるいは、他の清澄技術と組み合わせて用いることができる。例えば、錫清澄は、ハロゲン化物清澄、例えば、臭素清澄と組み合わせて用いることができる。他の可能な組合せとしては、これらに限られるものではないが、錫清澄と、硫酸、硫化物、酸化セリウム、機械発泡および/または真空清澄が挙げられる。これらのその他の清澄技術は、単独で用いることができるものと考えられる。特定の態様において、Σ(MgO+CaO+SrO+BaO+3La)/(Al)比と、上述した範囲内の個々のアルカリ土類およびLa濃度を維持するのは、清澄プロセスを、実施し易く、より効率的にさせる。 Tin fining can be used alone or in combination with other fining techniques as desired. For example, tin fining can be used in combination with halide fining, such as bromine fining. Other possible combinations include, but are not limited to, tin clarification and sulfuric acid, sulfide, cerium oxide, mechanical foaming and / or vacuum clarification. These other clarification techniques are believed to be able to be used alone. In certain embodiments, maintaining the Σ (MgO + CaO + SrO + BaO + 3La 2 O 3 ) / (Al 2 O 3 ) ratio and the individual alkaline earth and La 2 O 3 concentrations within the ranges described above is performed by a clarification process. Make it easier and more efficient.

本明細書に記載したガラスは、当該技術分野で公知の様々な技術を用いて製造することができる。一態様において、ガラスは、例えば、フュージョンダウンドロー法のようなダウンドロー法を用いて作製される。一態様において、本明細書に記載されているのは、バッチ材料を選択し、溶融し、そして清澄する工程を含むダウンドロー法により、アルカリを含まないガラスシートを製造する方法であり、シートを構成するガラスは、SiO、Al、B、MgO、CaOおよびBaOを含み、かつ酸化物基準で、
(i)1.15以上のΣ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al)比、
(ii)2.0モルパーセント以上のMgO含量、
(iii)3.0モルパーセント以上のCaO含量、および
(iv)1.0モルパーセント以上のBaO含量
を含み、ここで、
(a)清澄は、大量のヒ素を用いずに(任意で、大量のアンチモンを用いずに)実施され、
(b)溶融および清澄したバッチ材料からダウンドロー法により作製された50枚の連続したガラスシートの集合体の平均ガス含有レベルは、0.10ガス含有/立方センチメートル未満であり、その集合体の各シートの体積が、少なくとも500立方センチメートルである。
The glasses described herein can be manufactured using various techniques known in the art. In one aspect, the glass is made using a downdraw method, such as, for example, a fusion downdraw method. In one aspect, described herein is a method of producing an alkali-free glass sheet by a downdraw process that includes batch material selection, melting, and fining steps. The constituting glass contains SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , MgO, CaO and BaO, and on an oxide basis,
(I) Σ (MgO + CaO + SrO + BaO) / (Al 2 O 3 ) ratio of 1.15 or more,
(Ii) a MgO content of 2.0 mole percent or more,
(Iii) a CaO content greater than or equal to 3.0 mole percent, and (iv) a BaO content greater than or equal to 1.0 mole percent, wherein
(A) Clarification is performed without a large amount of arsenic (optionally without a large amount of antimony),
(B) The average gas content level of an assembly of 50 consecutive glass sheets made from the molten and clarified batch material by the downdraw method is less than 0.10 gas content / cubic centimeter, The volume of the sheet is at least 500 cubic centimeters.

米国特許第5,785,726号明細書(ドーフェルドら(Dorfeld et al.))、第6,128,924号明細書(バングら(Bange et al.))、第5,824,127号明細書(バングら(Bange et al.))および同時係属出願第11/116,669号明細書は、ヒ素を含まないガラスを製造するプロセスを開示している。   US Pat. Nos. 5,785,726 (Dorfeld et al.), 6,128,924 (Bang et al.), 5,824,127 (Bang et al.) And co-pending application Ser. No. 11 / 116,669 disclose a process for producing arsenic-free glass.

一態様において、溶融および清澄したバッチ材料からダウンドロー法により作製された50枚の連続したガラスシートの集合体の平均ガス含有レベルは、0.05ガス含有/立方センチメートル未満であり、その集合体の各シートの体積が、少なくとも500立方センチメートルである。   In one aspect, the average gas content level of a collection of 50 consecutive glass sheets made from the melted and clarified batch material by a downdraw process is less than 0.05 gas content / cubic centimeter, The volume of each sheet is at least 500 cubic centimeters.

参考文献として援用される特許文献1および2に記載されたダウンドローシートドローイング法、特に、フュージョン法をここで用いることができる。フロート法等の他の形成プロセスに比べ、フュージョン法は、いくつかの理由から好ましい。第1に、フュージョン法から作製されたガラス基板には、研磨の必要がない。現在のガラス基板研磨では、原子間力顕微鏡法により測定される平均表面粗さが、約0.5nm(Ra)のガラス基板を作製することができる。フュージョン法により作製されたガラス基板の原子間力顕微鏡法により測定される平均表面粗さは、0.5nm未満である。基板はまた、150psi以下の光学的遅れにより測定される平均内部応力も有する。   The downdraw sheet drawing method described in Patent Documents 1 and 2 incorporated by reference, in particular the fusion method, can be used here. Compared to other formation processes such as the float process, the fusion process is preferred for several reasons. First, glass substrates made from the fusion method do not need to be polished. In the present glass substrate polishing, a glass substrate having an average surface roughness measured by atomic force microscopy of about 0.5 nm (Ra) can be produced. The average surface roughness measured by atomic force microscopy of a glass substrate produced by the fusion method is less than 0.5 nm. The substrate also has an average internal stress measured by an optical delay of 150 psi or less.

ダウンドロー法により形成するには、本明細書に記載したガラス組成物の液相線粘度が、85,000ポアズ以上、100,000ポアズ以上、150,000ポアズ以上であるのが望ましく、さらに高い液性粘度が好ましい。   In order to form by the down draw method, the liquidus viscosity of the glass composition described in the present specification is desirably 85,000 poise or more, 100,000 poise or more, 150,000 poise or more, and higher. Liquid viscosity is preferred.

本明細書に記載したガラス組成物を用いて、様々なガラス物品を作製することができる。例えば、本明細書に記載したガラス組成物を用いて、例えば、AMLCD等の液晶ディスプレイを作製することができる。一態様において、フラットパネルディスプレイ用途に用いるのに好適とするには、本明細書に記載したガラスは、(ヤング率)/密度>30.5GPa・cm/gの値、研磨した試料を5%HCl溶液に24時間95℃で露出したときに0.8ミリグラム/cm以下の重量損失、1容積の50wt.%のHFおよび10容積の40wt.%のNHFの溶液に30℃で5分間露出したときに、1.5ミリグラム/cm以下の重量損失を有する。 Various glass articles can be made using the glass compositions described herein. For example, a liquid crystal display such as AMLCD can be manufactured using the glass composition described in this specification. In one embodiment, the glass described herein has a value of (Young's modulus) / density> 30.5 GPa · cm 3 / g, 5 samples of polished samples, suitable for use in flat panel display applications. Less than 0.8 mg / cm 2 weight loss when exposed to% HCl solution at 95 ° C. for 24 hours, 1 volume of 50 wt. % HF and 10 volumes of 40 wt. When exposed to a solution of% NH 4 F at 30 ° C. for 5 minutes, it has a weight loss of 1.5 mg / cm 2 or less.

寸法変化の依存性を示し、600℃で5分間加熱された、本明細書に記載した一連のガラス組成物の「圧密」対ひずみ点で記されている。It shows the dependence on dimensional change and is stated in “consolidation” versus strain point for a series of glass compositions described herein heated at 600 ° C. for 5 minutes. 600℃の温度で繰り返し熱処理した3つのガラス試料の圧密挙動対時間を示す。Figure 3 shows consolidation behavior versus time for three glass samples repeatedly heat treated at a temperature of 600 ° C.

以下の実施例は、開示された構成要件に従った方法および結果を例示するために以下に記載される。これらの実施例は、本明細書に開示された構成要件のすべての態様を含むものではなく、代表的な方法および結果を例示するものである。これらの実施例は、当業者に明白な本発明の等価物および変形例を除外するものではない。   The following examples are set forth below to illustrate the methods and results in accordance with the disclosed configuration requirements. These examples do not include all aspects of the components disclosed herein, but exemplify representative methods and results. These examples are not intended to exclude equivalents and variations of the present invention which are apparent to one skilled in the art.

数(例えば、量、温度等)に関しては精度が確保されるよう努力したが、多少の誤差や偏差はあるものとする。特に断りのない限り、温度は℃、または周囲温度であり、圧力は大気圧または大気圧近傍である。組成物自体は、酸化物基準でのモルパーセントで与えられており、100%に正規化されている。反応条件、例えば、成分濃度、温度、圧力およびその他反応範囲、ならびに、記載したプロセスから得られる生成物純度および収率を最適化するのに用いることのできる条件の数多くの変形および組合せがある。かかるプロセス条件を最適化するには、適切な所定の実験が必要なだけである。
実施例1−試験試料の作製
試験ガラス試料は、適切なバッチ材料を、Ptるつぼにて、1,600−1,650℃で6時間以上溶融し、鋼シート上に注ぐことにより作製した後、試験のために切断および研磨する前に、従来のアニーリングを行った。ガラスの得られたパテを処理して、おおよそ、厚さが3インチ×7インチ×2mmまたは厚さが4インチ×4インチ×2mmの矩形または四角形のガラス試料を得た。矩形または四角形のガラスを1011ポアズの粘度に対応する温度まで加熱し、4時間保持した後、室温まで急冷した。この熱処理は、フュージョンドローシートの熱履歴の最良の近似となるものと考えられる。試料の平坦な表面を研磨し、端部近くに(および矩形試料の場合には、試料の長軸に垂直に)いくつかの基準マークのセットによりマークを付ける。矩形試料を半分の長さに切断し、1つの参照部分と、熱処理を行う他の部分とにする。参照ピースと熱処理ピースを、顕微鏡により一緒に調べ、寸法変化を記録する。四角形試料の寸法は、ミツトヨクイックビジョン(Mitutoyo Quick Vision)QV202プロ(Pro)機器を用いて熱処理する前に正確に測定した後、適切な時間および温度で熱処理し、試料寸法を再測定する。自動光学機器により、各試料に数十回の繰り返しの測定が行えるため、統計的な方法を用いて、1ミクロンという小さな寸法変化を求めることができ、これは、用いる試料サイズの5〜10ppm未満の寸法変化に対応している。繰り返しの熱処理および測定を用いて、時間に応じて、ある温度で、ガラスの寸法緩和挙動を求めることができる。
Efforts have been made to ensure accuracy with respect to numbers (eg, amounts, temperature, etc.) but there may be some errors and deviations. Unless otherwise specified, the temperature is ° C. or ambient temperature, and the pressure is at or near atmospheric pressure. The composition itself is given in mole percent on an oxide basis and is normalized to 100%. There are many variations and combinations of conditions that can be used to optimize reaction conditions, such as component concentrations, temperatures, pressures and other reaction ranges, and product purity and yields obtained from the processes described. Only suitable routine experimentation is required to optimize such process conditions.
Example 1-Preparation of test sample After a test glass sample was prepared by melting a suitable batch material in a Pt crucible at 1,600-1,650 ° C for 6 hours or more and pouring onto a steel sheet, Conventional annealing was performed before cutting and polishing for testing. The resulting putty of glass was processed to obtain a rectangular or square glass sample approximately 3 inches × 7 inches × 2 mm thick or 4 inches × 4 inches × 2 mm thick. Rectangular or square glass was heated to a temperature corresponding to a viscosity of 10 11 poise, held for 4 hours, and then rapidly cooled to room temperature. This heat treatment is considered to be the best approximation of the thermal history of the fusion draw sheet. The flat surface of the sample is polished and marked with a set of several reference marks near the edges (and perpendicular to the long axis of the sample for rectangular samples). A rectangular sample is cut into half lengths to make one reference part and another part to be heat-treated. The reference piece and the heat treated piece are examined together under a microscope and the dimensional change is recorded. The dimensions of the square sample are accurately measured prior to heat treatment using a Mitutoyo Quick Vision QV202 Pro (Pro) instrument, then heat treated at the appropriate time and temperature, and the sample dimensions are remeasured. Since the automatic optical instrument can measure several tens of times for each sample, a statistical method can be used to determine dimensional changes as small as 1 micron, which is less than 5-10 ppm of the sample size used. It corresponds to the dimensional change of. Using repeated heat treatments and measurements, the dimensional relaxation behavior of the glass can be determined at a certain temperature as a function of time.

図1に、ひずみ点が圧密に与える影響を調べるために、一連の市販および実験用ガラスで行った圧密試験の結果を示す。この図から分かるとおり、ひずみ点での圧密の変化は、非線形現象であり、660℃〜680℃の間の20℃の範囲にわたって、最大の改善がなされている。これに関して、現在市場に出回っているAMLCDガラスについて、660℃が典型的なひずみ点であることを注記しておく。ひずみ点をちょうど20℃、680℃まで増大することにより、圧密は、70ppm〜30ppm未満まで降下する。すなわち、50%を超える改善である。あるポリSiプロセスについては、この改善で十分である。他のプロセスについては、さらなる改善が必要とされることがある。図1に示すとおり、ひずみ点が660℃から50〜100℃以上増大すると、20ppm以下の圧密レベルが得られる。これらのレベルは、現在用いられている、または数年以内に用いられると予測されるポリSiプロセスに好適である。   FIG. 1 shows the results of consolidation tests performed on a series of commercial and laboratory glasses to investigate the effect of strain point on consolidation. As can be seen from this figure, the change in consolidation at the strain point is a non-linear phenomenon, with the greatest improvement over the 20 ° C. range between 660 ° C. and 680 ° C. In this regard, it is noted that 660 ° C. is a typical strain point for AMLCD glasses currently on the market. By increasing the strain point to just 20 ° C. and 680 ° C., the consolidation drops to 70 ppm to less than 30 ppm. That is, the improvement exceeds 50%. This improvement is sufficient for some poly-Si processes. For other processes, further improvements may be required. As shown in FIG. 1, when the strain point is increased from 660 ° C. by 50 to 100 ° C. or more, a consolidation level of 20 ppm or less is obtained. These levels are suitable for poly-Si processes currently in use or expected to be used within a few years.

図2に、繰り返しの熱処理が、異なるひずみ点を有するガラスに与える影響を示す。繰り返しの熱処理は、図1のデータを生成するのに用いる単一の熱処理でなく、ポリSi製造プロセスをより正確に模している。図2については、3つのガラスのそれぞれ、すなわち、表1の実施例68に対応するガラスA、表1の実施例65に対応するガラスBおよびコーニングイーグル(Corning Eagle)2000FガラスであるガラスCを、600℃の炉に挿入し、実験を続けながら、時間を増やして、その温度に保持した。第1の熱処理については、時間は5分間、第2の時間は、さらに5分間(合計時間は10分間)等であり、表2に示すとおり、最後の4つの時間はそれぞれ60分であった。各熱処理後、ガラス試料を炉から取り出し、2つのファンの間に置いて、急冷した。このようにして、ガラス試料には、基本的に、温度の段階変化を行った。   FIG. 2 shows the effect of repeated heat treatment on glass having different strain points. The repeated heat treatment is more accurately mimicking the poly-Si manufacturing process, rather than the single heat treatment used to generate the data of FIG. For FIG. 2, each of the three glasses, glass A corresponding to Example 68 in Table 1, Glass B corresponding to Example 65 in Table 1, and Glass C, which is Corning Eagle 2000F glass. The sample was inserted into a furnace at 600 ° C., and the temperature was increased and maintained at that temperature while continuing the experiment. For the first heat treatment, the time was 5 minutes, the second time was another 5 minutes (total time was 10 minutes), etc. As shown in Table 2, the last four times were 60 minutes each. . After each heat treatment, the glass sample was removed from the furnace and placed between two fans and quenched. In this way, the glass sample was basically subjected to a temperature step change.

図2から分かるとおり、全ての3つの試料について、試験時間あたりの圧密は、時間の増加と共に減少する。ガラス構造が、600℃の処理に晒される前に、それに基づいて弛緩されるからである。しかしながら、高ひずみ点を有するガラス、すなわち、本発明のガラスAおよびBは、現在利用できるAMLCDガラスのひずみ点特性を有するガラスCよりも、顕著に低いレベルの圧密を示した。図2にプロットされたデータを表2に示す。   As can be seen from FIG. 2, for all three samples, consolidation per test time decreases with increasing time. This is because the glass structure is relaxed based on it before it is subjected to a 600 ° C. treatment. However, glasses with high strain points, ie, glasses A and B of the present invention, showed significantly lower levels of consolidation than glass C, which has the strain point characteristics of currently available AMLCD glasses. The data plotted in FIG.

低圧密に加え、ガラスは、フュージョンドローまたは関連のプロセスに適用可能な厳密な形成要件を満たさなければならない。失透は、最初は均質なガラスからの結晶相の形成と定義される。結晶がガラスと共存する最大温度は、液相線温度と定義される。表1のガラスの試験に関して後述するように、液相線温度は、砕いたガラス試料を白金ボートに入れ、管炉にて、1cm当たり10℃以下の勾配で24時間加熱することにより測定される。液相線温度のガラスの粘度は、液相線粘度と呼ばれる。精密なシートガラス形成プロセスは、通常、比較的高い、例えば、40,000ポアズを超える、好ましくは85,000ポアズを超える液相線粘度を必要とする。   In addition to the low pressure density, the glass must meet strict forming requirements applicable to fusion draw or related processes. Devitrification is initially defined as the formation of a crystalline phase from homogeneous glass. The maximum temperature at which crystals coexist with glass is defined as the liquidus temperature. As will be described later with respect to the glass test in Table 1, the liquidus temperature is measured by placing a crushed glass sample in a platinum boat and heating in a tube furnace with a gradient of 10 ° C. or less per cm for 24 hours. . The viscosity of the glass at the liquidus temperature is called the liquidus viscosity. A precise sheet glass forming process usually requires a relatively high liquidus viscosity, for example, greater than 40,000 poise, preferably greater than 85,000 poise.

ガラスは、製造の目的で、厳しい溶融要件も満たさなければならない。ガラスバッチ成分が、経済的に適度な時間で溶融する温度、および捕捉された気泡が、適度な時間でガラスから抜け出る温度は、典型的に、約200ポアズの粘度に対応している。耐久性のある高融点または貴金属容器における高温により、約1,680℃の温度で、200ポアズが実際の上限となっている。従来用いられていたものからのバッチ材料の変更によって、より粘性のガラスが、比例した高い粘度で溶融できるが、かかる材料だとコストが並はずれたものとなり、ガラスを溶融および調整システムに高粘度で搬送することは、技術的に極めて難しい。数多くのガラス組成物をその物理特性と共に表1に示す。   Glass must also meet stringent melting requirements for manufacturing purposes. The temperature at which the glass batch components melt in an economically reasonable time and the temperature at which trapped bubbles escape from the glass in a reasonable time typically corresponds to a viscosity of about 200 poise. Due to the durable high melting point or high temperature in precious metal containers, at a temperature of about 1,680 ° C., 200 poise is the actual upper limit. By changing the batch material from what was previously used, more viscous glasses can be melted with proportionally higher viscosities, but with such materials the costs are extraordinary and the glass is melted and adjusted to a higher viscosity system It is technically very difficult to transport it with A number of glass compositions are shown in Table 1 along with their physical properties.

表1に示したガラス特性は、ガラス業界で通常の技術に従って求めた。このように、25〜300℃の温度範囲にわたる線熱膨張率(CTE)は、×10−7/℃で表され、ひずみ点は℃で表されている。これらは、繊維伸長技術(それぞれ、参考文献ASTM E228−85およびC336)から求めた。 The glass properties shown in Table 1 were determined according to conventional techniques in the glass industry. Thus, the coefficient of linear thermal expansion (CTE) over a temperature range of 25 to 300 ° C. is represented by × 10 −7 / ° C., and the strain point is represented by ° C. These were determined from fiber elongation techniques (references ASTM E228-85 and C336, respectively).

グラム/cmの密度は、アルキメデス法(ASTM C693)により測定した。 The density in grams / cm 3 was measured by the Archimedes method (ASTM C693).

℃での融点(ガラス溶融物が200ポアズの粘度を示す温度と定義される)は、回転シリンダ粘度計により測定された高温粘度データに適合させたフルチャー(Fulcher)式を用いて計算した(ASTM C965−81)。   The melting point at 0 C (defined as the temperature at which the glass melt exhibits a viscosity of 200 poise) was calculated using the Fulcher equation fitted to high temperature viscosity data measured by a rotating cylinder viscometer (ASTM C965-81).

℃でのガラスの液相線温度を、ASTM C829−81の標準勾配ボート液相線法を用いて測定した。これには、砕いたガラス粒子を白金ボートに置き、ボートを勾配温度の領域を有する炉に入れ、ボートを適切な温度範囲で24時間加熱し、結晶がガラス内部に現れる最高温度を顕微鏡により調べることにより求めることが含まれる。より具体的には、ガラス試料を、一体型でPtボートから外し、偏光顕微鏡を用いて調べて、Ptと空気界面に対して形成された結晶の場所と性質、および試料の内部を識別する。炉の勾配は分かっているため、温度対場所は、5〜10℃以内で、良好に推定することができる。試料の内側点で結晶が観察される温度は、ガラスの液相線を表す(対応の試験時間について)。成長の遅い相を観察するために、試験は、長い時間(例えば、72時間)実施されることがある。表1の様々なガラスの結晶相は、次の略記で記載されている。anor−−灰長石、カルシウムアルミノシリケート鉱物、cris−−クリストバライト(SiO)、cels−−混合アルカリ土類セルシアン、Sr/Alsil−−ストロンチウムアルミノシリケート相、SrSi−−ストロンチウムシリケート相。ポアズでの液相線粘度を、液相線温度およびフルチャー(Fulcher)式から求めた。 The liquidus temperature of the glass at ° C. was measured using the standard gradient boat liquidus method of ASTM C829-81. This is done by placing the crushed glass particles in a platinum boat, placing the boat in a furnace with a gradient temperature range, heating the boat in the appropriate temperature range for 24 hours, and examining the maximum temperature at which crystals appear inside the glass by a microscope. It is included by seeking. More specifically, the glass sample is removed from the Pt boat in a single piece and examined using a polarizing microscope to identify the location and nature of the crystals formed against the Pt and air interface and the interior of the sample. Since the furnace gradient is known, the temperature versus location can be well estimated within 5-10 ° C. The temperature at which crystals are observed at the inner point of the sample represents the liquidus of the glass (for the corresponding test time). The test may be performed for a long time (eg, 72 hours) to observe the slow growing phase. The crystal phases of the various glasses in Table 1 are described in the following abbreviations. anor-- anorthite, calcium aluminosilicate mineral, Cris-- cristobalite (SiO 2), cels-- mixed alkaline earth celsian, Sr / Alsil-- strontium aluminosilicate phase, SrSi-- strontium silicate phase. The liquidus viscosity at Poise was determined from the liquidus temperature and the Fulcher equation.

Gpaでのヤング率の値は、ASTM E1875−00e1に記載された一般タイプの共鳴超音波分光分析技術を用いて求めた。   The value of Young's modulus in Gpa was determined using a general type resonance ultrasonic spectroscopy technique described in ASTM E1875-00e1.

表1から分かるとおり、実施例1〜88は、AMLCD用途等のディスプレイ用途に好適なガラスにする密度、CTE、ひずみ点およびヤング率の値を有している。表1には示していないが、ガラスはまた、これらの用途に好適な化学的耐久性も有している。特に、実施例68、69、70および71は、それぞれ、10wt.%のHFに20分間、室温で浸漬したときに、6.7〜7.5ミリグラム/cmの重量損失を有することが分かった。比較として、市販のAMLCDガラスは、この方法で試験すると、5〜8ミリグラム/cmの重量損失を示す。実施例のガラスは全て、フュージョン技術等のダウンドロー技術を用いて形成することができる。このように、1250℃以下の液相線温度、85,000ポアズ以上、多くの場合、150,000ポアズ以上の液相線粘度を有する。 As can be seen from Table 1, Examples 1-88 have values for density, CTE, strain point and Young's modulus that make the glass suitable for display applications such as AMLCD applications. Although not shown in Table 1, the glass also has chemical durability suitable for these applications. In particular, Examples 68, 69, 70 and 71 are each 10 wt. % HF was found to have a weight loss of 6.7-7.5 milligrams / cm 2 when soaked at room temperature for 20 minutes. By way of comparison, commercially available AMLCD glasses exhibit a weight loss of 5-8 milligrams / cm 2 when tested in this manner. All of the example glasses can be formed using a downdraw technique such as a fusion technique. Thus, it has a liquidus temperature of 1250 ° C. or lower, a liquidus viscosity of 85,000 poise or more, and in many cases 150,000 poise or more.

実施例71および79に示した組成および特性を有するガラスは、本発明の最も好ましい実施形態を表す、すなわち、現時点で、本発明の目的にとって最良の組合せの特性を与えるものと現在考えられる。   Glasses having the compositions and properties shown in Examples 71 and 79 are currently considered to represent the most preferred embodiments of the present invention, i.e., at the present time giving the best combination of properties for the purposes of the present invention.

本出願全体にわたって、様々な文献を参照している。これらの文献の開示内容は全て、本明細書に記載した化合物、組成物および方法を、より完全に説明するために、本出願に参考文献として援用される。   Throughout this application, various references are referenced. The entire disclosures of these documents are hereby incorporated by reference into the present application to more fully describe the compounds, compositions and methods described herein.

様々な修正および変形を、本明細書に記載した材料、方法および物品に行うことができる。本明細書に記載した材料、方法および物品の他の態様は、本明細書に開示した材料、方法および物品の仕様および実行を考慮に入れれば明白であろう。仕様および実施例は例示と考えるものとする。   Various modifications and variations can be made to the materials, methods, and articles described herein. Other aspects of the materials, methods, and articles described herein will be apparent in light of the specification and practice of the materials, methods, and articles disclosed herein. Specifications and examples are to be considered illustrative.

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Claims (7)

酸化物基準においてモルパーセントで、
SiO 64.0−72.0
Al 9.0−16.0
1.0−5.0
MgO+La 1.0−7.5
CaO 2.0−7.5
BaO 1.0−7.0
SrO 0.0−3.5
を含み、
ここで、
(1)Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al)≦1.50であり、式中、Al、MgO、CaO、SrO、BaOが、各酸化物成分のモルパーセントを表し、
(2)SrOの含有量が0モルパーセントではない場合は、モルパーセントにおけるBaO/SrO比が2.0以上であり、
(3)SiO、Al、B、MgO、CaO、BaO、SrO,La以外のいかなる酸化物の量も2.0モルパーセント以下であり、
(4)AsおよびSbの含有量が各々0.005モルパーセント以下であり、
(5)700℃以上のひずみ点を有し、
(6)600℃で5分間の熱処理に対して30ppm未満の寸法変化を呈する、
アルカリを含まないガラス。
Mole percent on oxide basis,
SiO 2 64.0-72.0
Al 2 O 3 9.0-16.0
B 2 O 3 1.0-5.0
MgO + La 2 O 3 1.0-7.5
CaO 2.0-7.5
BaO 1.0-7.0
SrO 0.0-3.5
Including
here,
(1) Σ (MgO + CaO + SrO + BaO) / (Al 2 O 3 ) ≦ 1.50, where Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO represents the mole percentage of each oxide component,
(2) When the content of SrO is not 0 mole percent, the BaO / SrO ratio in mole percent is 2.0 or more,
(3) The amount of any oxide other than SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , MgO, CaO, BaO, SrO, La 2 O 3 is 2.0 mole percent or less,
(4) The contents of As 2 O 3 and Sb 2 O 3 are each 0.005 mole percent or less,
(5) having a strain point of 700 ° C. or higher,
(6) exhibit a dimensional change of less than 30 ppm for a heat treatment at 600 ° C. for 5 minutes,
Glass without alkali.
請求項1記載のガラスを含む液晶ディスプレイ用基板。   A liquid crystal display substrate comprising the glass according to claim 1. 150,000ポアズ以上の液相線粘度を有することを特徴とする請求項1記載のガラス。   The glass according to claim 1, having a liquidus viscosity of 150,000 poise or more. ダウンドロー法によりアルカリを含まないガラスシートを製造する方法であって、
ガラスシートを構成するガラスが請求項1記載の組成を有するようにバッチ材料を選択し、溶融し、そして清澄する各工程を含み、
溶融および清澄したバッチ材料から前記ダウンドロー法により製造された50枚の連続したガラスシートの集合体の平均ガス含有レベルが、0.10ガス含有/立方センチメートル未満であり、前記集合体の各シートの体積が、少なくとも500立方センチメートルである、アルカリを含まないガラスシートを製造する方法。
A method for producing a glass sheet not containing alkali by a downdraw method,
Selecting, melting and clarifying batch materials such that the glass constituting the glass sheet has the composition of claim 1,
The average gas content level of an assembly of 50 consecutive glass sheets produced from the molten and clarified batch material by the downdraw method is less than 0.10 gas content / cubic centimeter, A method for producing an alkali-free glass sheet having a volume of at least 500 cubic centimeters.
前記ダウンドロー法がフュージョンドロー法であることを特徴とする請求項4記載の方法。   The method according to claim 4, wherein the downdraw method is a fusion draw method. 前記ガラスシートを液晶ディスプレイ用基板として使用することをさらに含むことを特徴とする請求項4または5記載の方法。   6. The method according to claim 4, further comprising using the glass sheet as a substrate for a liquid crystal display. 前記ガラスシートを構成するガラスが150,000ポアズ以上の液相線粘度を有することを特徴とする請求項4、5または6記載の方法。   The method according to claim 4, 5 or 6, wherein the glass constituting the glass sheet has a liquidus viscosity of 150,000 poise or more.
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