JP2016022554A - Surface plate unit - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 120
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 13
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 88
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
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- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
Abstract
Description
本発明は、加工を行う薄状基板を載置する定盤を備えた定盤ユニットに関し、特に、薄状基板の定盤に対する搬入及び搬出を円滑に行う定盤ユニットに関する。 The present invention relates to a surface plate unit including a surface plate on which a thin substrate to be processed is placed, and more particularly to a surface plate unit that smoothly carries in and out a thin substrate.
液晶パネルに用いられるガラス基板などの薄状基板は、製品の製造過程において研磨、加熱等の各種加工が行われる。これらの加工は均一に行うことが求められることから、通常、表面が平坦な定盤に載置して行われる。
薄状基板を定盤上で加工を行う際、一般には、薄状基板をロボット等で把持し定盤上まで搬送して載置部にセッティングされる。また、加工が行われた薄状基板もロボット等を用いて定盤から搬出される。
ガラス基板を搬入・搬出する方法として、ロボットアーム先端に設けた吸引部で吸引して行う方法や、ロボットフォーク上に載せて行う方法及びロボットハンドで把持して行う方法等がある。
ガラス基板が薄い場合、吸引する方法によるとガラス基板の吸引された部分が変形してしまうことから、ロボットフォーク又はロボットハンドを用いることが多い。
A thin substrate such as a glass substrate used for a liquid crystal panel is subjected to various processes such as polishing and heating in the manufacturing process of the product. Since these processes are required to be performed uniformly, they are usually performed by placing them on a surface plate having a flat surface.
When a thin substrate is processed on a surface plate, generally, the thin substrate is gripped by a robot or the like, conveyed to the surface plate, and set on the mounting portion. The processed thin substrate is also unloaded from the surface plate using a robot or the like.
As a method for loading and unloading the glass substrate, there are a method in which suction is performed with a suction portion provided at the tip of the robot arm, a method in which the glass substrate is placed on a robot fork, a method in which the glass substrate is gripped with a robot hand, and the like.
When the glass substrate is thin, the sucked portion of the glass substrate is deformed by the sucking method, so that a robot fork or a robot hand is often used.
ガラス基板をロボットフォーク上に載せて搬入する場合、定盤上でガラス基板を浮かせてからロボットフォークだけを引き抜くことにより載置部にガラス基板をセッティングするようにしている。また、ロボットハンドを用いてガラス基板を搬出する場合、ガラス基板を定盤から浮かせた状態にしなければガラス基板の周縁を把持することができない。
そこで、薄状基板の搬入・搬出に際し薄状基板を定盤上で浮かせる技術として、特許文献1に開示されているリフトピンを用いた方法が知られている。
この方法では、ガラス基板をロボットフォークに載せて定盤上に搬入する際、リフトピンを、ロボットフォークと重ならない位置で定盤から突出させるようにしている。このようにすると、ガラス基板だけが持ち上げられて、ロボットフォークとガラス基板との間に隙間が形成できるので、ロボットフォークだけを引き抜くことができる。
また、加工が行われたガラス基板に対しては、定盤からリフトピンを突出させることで、ガラス基板と定盤との間に隙間が形成できるので、ガラス基板の周縁をロボットハンドにより把持することができる。
When a glass substrate is loaded on a robot fork and carried in, the glass substrate is floated on a surface plate and then only the robot fork is pulled out to set the glass substrate on the mounting portion. Moreover, when carrying out a glass substrate using a robot hand, the periphery of a glass substrate cannot be hold | gripped unless the glass substrate is made into the state which floated from the surface plate.
Therefore, a method using lift pins disclosed in
In this method, when the glass substrate is placed on the robot fork and carried onto the surface plate, the lift pins are projected from the surface plate at positions that do not overlap the robot fork. In this way, only the glass substrate is lifted, and a gap can be formed between the robot fork and the glass substrate, so that only the robot fork can be pulled out.
For processed glass substrates, a lift pin can be projected from the surface plate to create a gap between the glass substrate and the surface plate. Can do.
しかしながら、定盤から突出するピンは、先端の面積が小さいため、ガラス基板とピンが当接する際の相対速度を速くすると当接時の衝撃によりガラス基板に孔があいたり割れたりする問題があった。このため、ガラス基板の定盤への搬入・搬出の際には一連の作業をガラス基板が損傷しないようにゆっくり行う必要があった。
ピンに代えて、複数の線状材をガラス基板の下に配置して持ち上げる方法も考えられる。この方法によれば、ガラス基板と線状材との接触が線接触であることから、ガラス基板の定盤への搬入・搬出の際の一連の作業を高速で行っても複数本の線状材全体に衝撃が分散されて上記問題を生じない。また、ガラス基板のたわみと線状材のたわみが同化するため、線状材を高速で上下させてもガラス基板に無理な力がかからず損傷しにくい。
ところが、この方法では、線状材が定盤の載置部に露出するため、ガラス基板を定盤の載置部にセッティングすると、ガラス基板と載置部の間に線状材が介在することになる。
このため、この状態のままガラス基板に対し研磨等の加工を行うと、線状材と接触箇所に過度の圧力がかかって基板を破損したり、均一な加工処理が施せなくなるなど、載置部においてガラス基板を適切に加工できないといった問題を生じる。
However, since the pin protruding from the surface plate has a small tip area, there is a problem that if the relative speed when the glass substrate and the pin come into contact with each other is increased, a hole is formed or cracked in the glass substrate due to the impact at the time of contact. It was. For this reason, when carrying the glass substrate into and out of the surface plate, it was necessary to perform a series of operations slowly so as not to damage the glass substrate.
In place of the pins, a method of arranging a plurality of linear members under the glass substrate and lifting them up is also conceivable. According to this method, since the contact between the glass substrate and the linear material is a linear contact, even if a series of operations when carrying the glass substrate into and out of the surface plate is performed at a high speed, a plurality of linear shapes are used. The impact is dispersed throughout the material and the above problem does not occur. In addition, since the deflection of the glass substrate and the deflection of the linear material are assimilated, even if the linear material is moved up and down at high speed, an excessive force is not applied to the glass substrate and it is difficult to damage.
However, in this method, since the linear material is exposed to the mounting portion of the surface plate, when the glass substrate is set to the mounting portion of the surface plate, the linear material is interposed between the glass substrate and the mounting portion. become.
For this reason, if processing such as polishing is performed on the glass substrate in this state, excessive pressure is applied to the contact portion with the linear material to damage the substrate, and uniform processing cannot be performed. This causes a problem that the glass substrate cannot be appropriately processed.
本発明は、上記したような事情に鑑みてなされたものであり、薄状基板の定盤への搬入及び搬出の際に、線状材を定盤上方において上下動させることにより、薄状基板の定盤上への搬入及び搬出を円滑に行えるようにするとともに、定盤内に線状材を収容可能に配設し、薄状基板の加工時に線状材が邪魔とならないようにした定盤ユニットの提供を目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and when a thin substrate is carried into and out of a surface plate, the linear material is moved up and down above the surface plate to thereby form a thin substrate. In order to smoothly carry in and out of the surface plate, a linear material can be accommodated in the surface plate so that the linear material does not get in the way when processing thin substrates. The purpose is to provide a board unit.
本発明に係る定盤ユニットは、加工される薄状基板が載置される載置部を有する定盤と、前記定盤の対向する側方にそれぞれフレームが位置し、これらフレームに複数本の線状材の端部をそれぞれ支持する支持部材と、前記支持部材を上下動させることによって前記複数本の線状材を同期して上下動させ、前記載置部に対する前記薄状基板の搬入及び搬出を行う昇降装置と、を備え、前記薄状基板を前記載置部に載置したときに、前記線状材が前記薄状基板と当たらないようにするため、前記定盤に、前記線状材の収容部を設けるようにしてある。 In the surface plate unit according to the present invention, a surface plate having a mounting portion on which a thin substrate to be processed is mounted, and a frame are positioned on opposite sides of the surface plate, and a plurality of frames are provided on these frames. A supporting member for supporting each end portion of the linear material; and the vertical movement of the plurality of linear materials by moving the supporting member up and down to carry the thin substrate into the mounting portion; An elevating device for carrying out, and when the thin substrate is placed on the mounting portion, the wire is placed on the surface plate so that the linear material does not hit the thin substrate. An accommodation part for the material is provided.
本発明によれば、定盤に対する薄状基板の搬入及び搬出を円滑に行うことができるとともに、薄状基板に対する加工を円滑に行うことができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being able to smoothly carry in and carrying out the thin board | substrate with respect to a surface plate, the process with respect to a thin board | substrate can be performed smoothly.
以下、本発明の定盤ユニットの実施形態について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る定盤ユニットを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図、(c)は左側面図である。
図2は、本発明の実施形態に係る定盤ユニットにおける線状材の上下動作を説明するための図である。
これらの図に示すように、本実施形態の定盤ユニットは、ガラス基板10(薄状基板)を載置するための定盤11を備える。
定盤11は、コンクリート等の基礎構造物に固定された複数のポール部材14により水平に支持され、上面に矩形状の載置部12を有する。
載置部12は、定盤11上面のほぼ中央部に形成されたガラス基板10を載置する領域であり、平坦状に形成されている。
ガラス基板10は、載置部12に載置された状態で、研磨等の加工が行われる。
Hereinafter, embodiments of the surface plate unit of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a view showing a surface plate unit according to an embodiment of the present invention, in which (a) is a front view, (b) is a plan view, and (c) is a left side view.
FIG. 2 is a view for explaining the vertical movement of the linear member in the surface plate unit according to the embodiment of the present invention.
As shown in these drawings, the surface plate unit of the present embodiment includes a
The
The
The
また、載置部12には、線状材の収容が可能な収容部が形成されている。
具体的には、後記の支持部材18によって載置部12上に架設されたワイヤー17(線状材)を、載置面より露出せずに収容することができる溝16を収容部として形成する。
溝16を設けることで、ワイヤー17を載置部12上に架設しつつも、載置部12にセッティングしたガラス基板10と載置部12との間にワイヤー17が介在することを防止することができる。
これにより、ガラス基板10の加工の際にワイヤー17が邪魔にならないため、ワイヤー17との接触によりガラス基板10が破損したり均一な加工ができないといった問題を生じなくすることができる。
溝16は、線状材の収容部として機能すべく、ワイヤー17の直径より大きい幅及び深さで形成される。
また、溝16は、少なくとも、架設されるワイヤー17の本数に対応した数の溝16を備える。
本実施形態の定盤ユニットでは、4本のワイヤー17が架設され、これに対応した4つの溝16が形成されている。
In addition, the
Specifically, the
Providing the
Thereby, since the
The
The
In the surface plate unit of the present embodiment, four
図3は、本発明の実施形態に係る定盤ユニットにおいて収容部に収容された線状材の様子を示す図であり、定盤を上方向からみたときの模式図である。
図4(a)は図1及び図3のA−A断面図、図4(b)は図3のB−B断面図、図4(c)は図3のC−C断面図である。
線状材は、例えば、0.2mm〜0.5mmの直径のスチール製のワイヤー17を用いることができる。
線状材をこのような太さとしたのは、直径が0.2mm未満では、強度が不足して断線するおそれがあり、他方、直径が0.5mmを超えると、ガラス基板10との接触面が大きくなって、接触の際にゴミが発生し易いことから、このような問題を回避するためである。
また、溝16は、線状材への溝内塵埃の接触を避けるため、線状材の径より大きめとし、例えば、0.4mm〜1.0mmの幅及び深さに形成することが好ましい。
このような線状材と溝16との関係によれば、ワイヤー17を、定盤11の載置面から露出しない態様で、溝16内に収容することができ、載置部12に載置されたガラス基板10を複数本のワイヤー17により持ち上げることが可能となる。
FIG. 3 is a diagram illustrating a state of the linear material housed in the housing portion in the surface plate unit according to the embodiment of the present invention, and is a schematic diagram when the surface plate is viewed from above.
4A is a sectional view taken along line AA in FIGS. 1 and 3, FIG. 4B is a sectional view taken along line BB in FIG. 3, and FIG. 4C is a sectional view taken along line CC in FIG.
As the linear material, for example, a
The reason why the linear material has such a thickness is that if the diameter is less than 0.2 mm, the wire may be broken due to insufficient strength. On the other hand, if the diameter exceeds 0.5 mm, the contact surface with the
Moreover, in order to avoid the contact of the dust in a groove | channel with a linear material, the groove |
According to such a relationship between the linear material and the
線状材は、図1及び図3(a)に示すように、すべての本数について、金属部分が露出したスチール製のワイヤー17をそのまま用いることができる。
また、図3(a),(b)及び図4(b)に示すように、全部又は一部の本数(内側の2本)についてワイヤー17の表面に樹脂171をコーティングした線状材を用いることもできる。
このように、表面が樹脂171によりコーティングされたワイヤー17を線状材として用いることによって、ワイヤー17がガラス基板10を持ち上げる際の衝撃を樹脂171により吸収させることができる。
これにより、ワイヤー17との接触によりガラス基板10が傷付けられることを防ぐことができる。
樹脂171によるコーティングの厚みは、0.1mm程度となる。また、コーティングには、DLC(Diamond−Like Carbon)を用いることもでき、この場合のコーティングの厚みは0.003mm程度となる。
As shown in FIG. 1 and FIG. 3 (a), the
Further, as shown in FIGS. 3A, 3B, and 4B, a linear material in which the surface of the
Thus, by using the
Thereby, it can prevent that the
The thickness of the coating with the
また、図3(c),(d)及び図4(c)に示すように、基本的には、全部又は一部の本数(内側の2本)について表面全体が樹脂171によりコーティングされているが、一部がコーティングされておらずワイヤー17の金属部分(導体部分)が露出した線状材を用いることもできる。
ワイヤー17の一部において樹脂コーティングされていない線状材を用いるのは、樹脂素材が、ガラス基板10を傷付けにくいメリットがある反面、定盤11等との摩擦により静電気が帯電し易いためである。
すなわち、ワイヤー17の樹脂表面において静電気が帯電すると、ガラス基板10に触れたときに放電が起こり、ガラス基板10に実装された電子回路に意図しない高い電圧の電流が流れて、故障を及ぼすことがあるからである。
この点、一部に樹脂コーティングされていないワイヤー17を用い、樹脂コーティングされていないワイヤー17の露出部分(導体部分)に接地線を接続できるようにしておけば、樹脂表面に生じた静電気を逃がすことができ、これによりガラス基板10に実装された電子部品を保護することができる。例えば、ワイヤー17が溝16に収容されたときにワイヤー17の導体部分と接地線が接触するように、予め接地線の端子を溝16内に設置しておくことにより可能となる。
Further, as shown in FIGS. 3C, 3D, and 4C, the entire surface is basically coated with a
The reason why the linear material not coated with resin is used in a part of the
That is, when static electricity is charged on the resin surface of the
In this regard, if a
載置部12の対向する側方(平面視左方及び右方)には、長尺板状のフレーム13を配置してある。
フレーム13の上面には、ワイヤー17を定盤11上に架設するための支持部材18が取り付けられてある。
支持部材18(18a,18b)は、左右のフレーム13の対向する位置にそれぞれ取り付けられ、ワイヤー17の端部を各支持部材18によりそれぞれ支持させることでワイヤー17を定盤11(載置部12)上に架設するようにしている。
以下、支持部材18(18a,18b)を用いたワイヤー17の具体的な架設方法について説明する。
A long plate-
A
The support members 18 (18a, 18b) are respectively attached to the opposing positions of the left and
Hereinafter, a specific construction method of the
図5は、本発明の実施形態に係る支持部材を示す図である。
図5に示すように、支持部材18は、ワイヤー17の端部を固定するためのボルト183等の固定部材と、この固定部材にワイヤー17を案内する滑車182とが、L字状の取付金具181の起立した面の上部及び下部に取り付けられて構成される。
なお、図5(a)は、支持部材18aが、左方のフレーム13上に取り付けられ、図5(b)は、支持部材18bが、右方のフレーム13上に取り付けられた例について図示している(図1,2参照)。
ただし、このような態様に限らず、支持部材18aが右方に取り付けられ、支持部材18bが左方に取り付けられてもよく、支持部材18bが両方に取り付けられる態様であってもよい。
FIG. 5 is a view showing a support member according to the embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 5, the
5A illustrates an example in which the
However, the embodiment is not limited to this, and the
ワイヤー17の架設に当たり、まず、支持部材18bにおいて、ボルト頭部外周に貫通孔187が施されたボルト183を取付金具181下部のボルト穴(図示省略)に挿入し、これをナット(図示省略)により裏側から締め付けて固定(仮固定)する。
次いで、貫通孔187より大きいカシメ部材186により端部処理が施されたワイヤー17を、その開放端側から貫通孔187に挿通し、取付金具181上部の滑車182を介して対向する支持部材18aに向けて配設する。
続いて、支持部材18aにおいて、取付金具181上部の滑車182を介して案内されたワイヤー17の端部を、取付金具181下部の座金付きナット184で挟みつつボルト183により固定する。
これにより、対向する支持部材18aと支持部材18bとの間にワイヤー17を架設することができる。
In constructing the
Next, the
Subsequently, in the
Thereby, the
また、支持部材18bにおいて、ボルト183のボルト頭部外周におけるワイヤー17の巻きを増すことによって、ワイヤー17の張力を調整することができる。
具体的には、ボルト183を時計回りに回すことによって、ワイヤー17の張力を強めることができ、ボルト183を反時計回りに回すことによって、ワイヤー17の張力を弱めることができる。
すなわち、支持部材18bは、ワイヤー17の張力を調整する張力調整部材としても機能する。
支持部材18bは、ワイヤー17ごとに設けているため、複数本のワイヤー17を架設するに当たり、ワイヤー17間に張力差が生じないように1本ずつ調整しつつ保持させることが可能となっている。
従って、ガラス基板10をワイヤー17により持ち上げた際、複数本のワイヤー17間における張力差のためにガラス基板10に歪みが生じて破損することを防ぐことができる。
支持部材18により架設されたワイヤー17は、昇降装置20によって上下動させることができる。
Moreover, the tension | tensile_strength of the
Specifically, the tension of the
That is, the
Since the
Therefore, when the
The
昇降装置20は、フレーム13の下側に設置されている。
具体的には、昇降装置20は、電動シリンダ21と、ロッドなどの伸縮部材22と、ガイド部材23と、筐体24によって構成される。
電動シリンダ21は、モーターを内蔵し、このモーターの回転に応じ伸縮部材22が上下方向に伸縮する。電動シリンダ21は、床面に設置された筐体24に固定するとともに、伸縮部材22の先端部が、フレーム13の下面に固定してある。
ガイド部材23は、フレーム13を上下方向に案内するため、床面に対し垂直方向に延びるフレーム13の側面と対応する筐体24の側面に取り付けてある。
このようにすると、電動シリンダ21を作動させ、伸縮部材22を伸ばすことでフレーム13を上方に移動させることができ、これに応じて、フレーム13上に取り付けた支持部材18を上方に移動させることができる。また、伸縮部材22を縮めることでフレーム13を下方に移動させることができ、これに応じて、フレーム13上に取り付けた支持部材18を下方に移動させることができる(図2参照)。
The elevating
Specifically, the lifting
The
The
If it does in this way, the
このような構成の昇降装置20によれば、電動シリンダ21の駆動により支持部材18を上下動させることができ、これにより、支持部材18により架設された複数本のワイヤー17を同期して上下動させることができる。これにより、載置部12に載置したガラス基板10を、複数本のワイヤー17を用いて上下動させることができる。
このとき、ガラス基板10は、複数本のワイヤー17がそれぞれ線接触させた状態で支持される。また、このようにガラス基板10がワイヤー17により支持されている状態においては、ワイヤー17のたわみとガラス基板10のたわみが同化される。
これにより、衝撃による破損を防ぎつつガラス基板10を上下動させることができる。
また、昇降装置20においては、伸縮部材22の伸縮動作を速め、フレーム13に支持されたワイヤー17の移動を高速化することができる。
このため、ガラス基板10を、無理な力が加わることなく高速に上下動させることができる。
According to the
At this time, the
Thereby, the
Moreover, in the lifting / lowering
For this reason, the
以上のような構成からなる定盤ユニットによれば、定盤11内にワイヤー17を収容可能に配設し、ガラス基板10の加工時にワイヤー17が邪魔とならないように載置部12にセッティングすることができ、また、セッティングされたガラス基板10を、複数本のワイヤー17を上下動させることによって安全かつ高速に上下動させることができる。
ガラス基板10の定盤11に対する搬入及び搬出は、このような複数本のワイヤー17の上下動に同期したガラス基板10の上下動を利用して行う。
以下、ガラス基板10の搬入方法及び搬出方法について説明する。
According to the surface plate unit configured as described above, the
Loading and unloading of the
Hereinafter, the carrying-in method and the carrying-out method of the
まず、ガラス基板の搬入方法について説明する。
図6は、ガラス基板の搬入方法を説明するための図である。
図6(a)に示すように、初期状態において、定盤11(載置部12)にはガラス基板10が載置されておらず、かつ、複数本のワイヤー17が各溝16に収容されている。
ここで、ガラス基板10の搬入は、複数本のフォークがほぼ平行に延びるロボットフォーク30を用いて行う。
具体的には、まず、ガラス基板10が配置されたロボットフォーク30を、定盤11(載置部12)上にセットしてガラス基板10を搬入する(b)。なお、各フォークは、いずれも載置部12上の溝16、すなわち、ワイヤー17とは重ならない領域に配置する。
First, the glass substrate carrying-in method will be described.
FIG. 6 is a view for explaining a glass substrate carrying-in method.
As shown in FIG. 6A, in the initial state, the
Here, the
Specifically, first, the
次に、ワイヤー17を上昇させる(c)。具体的には、昇降装置20によりフレーム13(支持部材18)を上昇させることによって、架設状態のワイヤー17を上昇させる。これにより、ガラス基板10は、複数本のワイヤー17により持ち上げられ、ロボットフォーク30との間に隙間が形成される。
続いて、ロボットフォーク30を引き抜く(d)。前工程(c)において、ガラス基板10とロボットフォーク30との間に隙間が形成されているため、ロボットフォーク30だけを引き抜くことができる。
そして、ワイヤー17を下げる(e)。これにより、ワイヤー17が溝16に収容されるとともに、ガラス基板10が載置部12上に載置される。
Next, the
Subsequently, the
Then, the
次に、ガラス基板の搬出方法について説明する。
図7は、ガラス基板の搬出方法を説明するための図である。
図7(a)に示すように、加工の行われたガラス基板10が、定盤11(載置部12)上に載置され、かつ、ワイヤー17が溝16に収容されている。
まず、ワイヤー17を上昇させる(b)。具体的には、昇降装置20によりフレーム13(支持部材18)を上昇させることによって、架設状体のワイヤー17を上昇させる。これにより、ガラス基板10は、複数本のワイヤー17により持ち上げられ、定盤11(載置部12)との間に隙間が形成される。
ここで、ガラス基板10の搬出は、2本以上の指部により薄状基板の把持が可能なロボットハンド31を用いて行う。具体的には、前工程(b)において、定盤11との間に隙間が形成されることで把持可能となったガラス基板10の両側の周縁を、2つのロボットハンド31によりそれぞれ把持し(c)、定盤ユニットの外部に搬出する(d)。
ガラス基板10がロボットハンド31により把持され搬出された後、ワイヤー17を下げることによって、ワイヤー17が溝16に収容され、初期状態に戻る(e)。
Next, a method for carrying out the glass substrate will be described.
FIG. 7 is a diagram for explaining a glass substrate carry-out method.
As shown in FIG. 7A, the processed
First, the
Here, the
After the
このようなガラス基板10の搬入方法及び搬出方法によれば、ガラス基板10を損傷することなくワイヤー17を高速に上下動することができるため、ガラス基板10の搬入及び搬出にかかる時間を短縮化することができる。
例えば、リフトピンを用いた従来の場合、搬入・搬出のためのリフトアップに2.5秒、リフトダウンに2.0秒要していたのに対し、本発明によればリフトアップ及びリフトダウンにそれぞれ0.7秒しか要することがなく、3.1秒短縮することができる。
According to such a
For example, in the conventional case where lift pins are used, it takes 2.5 seconds for lift-up for loading and unloading and 2.0 seconds for lift-down. Each takes only 0.7 seconds and can be reduced by 3.1 seconds.
以上、本発明について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明は、前述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることはいうまでもない。 Although the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the present invention. Nor.
例えば、上述の実施形態では、薄状基板としてガラス基板10を用いて説明したが、このような態様に限らず、例えば、プリント回路基板に用いられるフィルム基板等、あらゆる薄状基板に適用することができる。
また、ワイヤー17は、上述した実施形態に限らず、薄状基板のサイズ、材質等に応じ、任意の本数を所定の間隔で架設することができる。
また、図5(b)に示す支持部材18bの構造に限らず、線状材を巻き取って固定することが可能な部材であれば張力調整部材として用いることもできる。
また、ガラス基板10の搬入手段としてロボットフォーク30を用い、搬出手段としてロボットハンド31を用いる場合について説明したが、ロボットフォーク30を搬出に用い、ロボットハンド31を搬入に用いてもよく、また、いずれか一方を用いて搬出及び搬出を行う場合にも適用することができる。
For example, in the above-described embodiment, the
Further, the
Moreover, it is not restricted to the structure of the
Moreover, although the case where the
本発明は、ガラス基板などの薄状基板の加工の際に用いられる定盤に関する技術分野において利用することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used in the technical field related to a surface plate used when processing a thin substrate such as a glass substrate.
10 ガラス基板(薄状基板)
11 定盤
12 載置部
13 フレーム
14 ポール部材
16 溝(収容部)
17 ワイヤー(線状材)
171 樹脂
18 支持部材
20 昇降装置
21 電動シリンダ
22 伸縮部材
23 ガイド部材
24 筐体
30 ロボットフォーク
31 ロボットハンド
10 Glass substrate (thin substrate)
11
17 Wire (Linear material)
171
Claims (4)
前記定盤の対向する側方にそれぞれフレームが位置し、これらフレームに複数本の線状材の端部をそれぞれ支持する支持部材と、
前記支持部材を上下動させることによって前記複数本の線状材を同期して上下動させ、前記載置部に対する前記薄状基板の搬入及び搬出を行う昇降装置と、を備え、
前記薄状基板を前記載置部に載置したときに、前記線状材が前記薄状基板と当たらないようにするため、前記定盤に、前記線状材の収容部を設けたことを特徴とした定盤ユニット。 A surface plate having a placement portion on which a thin substrate to be processed is placed;
Frames are respectively positioned on opposite sides of the surface plate, and support members that respectively support the ends of a plurality of linear members on the frames,
An elevating device that vertically moves the plurality of linear members by moving the support member up and down, and carries in and out the thin substrate with respect to the placement unit;
In order to prevent the linear material from coming into contact with the thin substrate when the thin substrate is placed on the placing portion, the linear plate is provided with a receiving portion for the linear material. A featured surface plate unit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014148134A JP6445803B2 (en) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | Surface plate unit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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JP6445803B2 JP6445803B2 (en) | 2018-12-26 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2014148134A Active JP6445803B2 (en) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | Surface plate unit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6445803B2 (en) |
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JP6445803B2 (en) | 2018-12-26 |
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