JP2014041873A - Board support device and method thereof, mounting apparatus and method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板を支持する基板支持装置およびその方法、並びに基板に部品を実装する実装装置およびその方法に関する。 The present invention relates to a board support apparatus and method for supporting a board, and a mounting apparatus and method for mounting components on a board.
従来、電子機器等の工業製品の製造工程には、工業製品を構成するプリント基板(以下、単に「基板」という)等に部品の実装や液剤の塗布等を行う工程が多く含まれる。このような基板は、これらの工程が行われる際に支持される面に、凹凸がある場合も多い。そのため、これらの工程を精度よく確実に行うためには、作業対象の基板を、支持側の凹凸に対応した形態で安定的に支持する必要がある。 2. Description of the Related Art Conventionally, a manufacturing process of an industrial product such as an electronic device often includes a process of mounting a component, applying a liquid agent, or the like on a printed circuit board (hereinafter, simply referred to as “substrate”) constituting the industrial product. Such a substrate often has irregularities on the surface supported when these steps are performed. Therefore, in order to perform these steps accurately and reliably, it is necessary to stably support the work target substrate in a form corresponding to the unevenness on the support side.
そこで、基板に支持ピンを当接させた状態で支持ピンを固定することにより、基板の移動を制限しながら基板を支持する基板支持装置も提案されている(例えば、特許文献1参照)。 Therefore, a substrate support device that supports the substrate while restricting the movement of the substrate by fixing the support pin in a state where the support pin is in contact with the substrate has also been proposed (see, for example, Patent Document 1).
図9(a)、(b)は、特許文献1の基板支持装置による基板の支持方法を示す。図9(a)は、基板の下面に部品が取り付けられていない場合を示し、図9(b)は、基板の下面に部品が取り付けられている場合を示す。図9(a)、(b)に示すように、特許文献1の基板支持装置100は、上方に突出する複数の支持ピン102と、複数の支持ピン102を保持する水平面に配置されたプレート状の保持体101とを備える。
FIGS. 9A and 9B show a method of supporting a substrate by the substrate support device of
図9(a)に示す基板の下面に部品が取り付けられていない場合の基板支持装置100の動作について説明する。まず、保持体101に摺動可能に保持された複数の支持ピン102を、昇降装置103を用いて保持体101とともに一体的に上昇させる。一体的に上昇された複数の支持ピン102は基板104に当接する。当接後も昇降装置103による上昇が継続すると、複数の支持ピン102は保持体101に対して下方に摺動する。その後、昇降装置103による上昇を停止させる。停止後、基板104に当接している支持ピン102を、保持体101と支持ピン102との間に設けられた固定部(図示せず)を用いて保持体101に対して固定する。これにより、図9(a)に示すように支持ピン102の位置が固定される。このように支持ピン102の位置を固定することで、基板104による支持ピン102の支持方向(図9(a)の上下方向)への移動を制限する。
The operation of the
図9(a)では、基板104下面に部品が取り付けられていない場合の基板支持装置100による基板104の支持動作について説明したが、図9(b)に示すように基板104下面に部品が取り付けられている場合でも、同様の動作が行われる。
9A, the operation of supporting the
図9(a)、(b)に示すように基板104を支持ピン102によって支持した後、基板104の上方に位置された実装ユニット(図示せず)を用いて、基板104上面への部品の実装が行われる。
After the
しかしながら、特許文献1の基板支持装置によれば、基板の反りに合わせてそのまま基板を保持した状態にて、部品の実装が行われている。それに対して、反り等が生じた基板をより適切な状態にて保持した上で、精度良く部品の実装を行いたいという要望が存在する。
However, according to the substrate support apparatus of
従って、本発明の目的は、上記問題を解決することにあって、反り等が生じた基板をより適切な状態にて保持することができる基板支持装置およびその方法、並びに精度良く部品の実装を行うことができる実装装置およびその方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-described problem, and to support a substrate supporting apparatus and method capable of holding a substrate in which warpage or the like has occurred in a more appropriate state, and mounting components with high accuracy. An object of the present invention is to provide a mounting apparatus and method that can be performed.
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。 In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows.
本発明の第1態様によれば、基板を下面から支持する複数の支持ピンと、
複数の支持ピンを上下方向に摺動可能にかつ上方に初期突出長さ突出させて保持する保持体と、
待機高さ位置から上昇高さ位置まで保持体を上昇させて、基板の下面に支持ピンの上端を当接させる昇降部と、
保持体に対して相対的に支持ピンを上下方向に固定する複数の電磁固定部と、
保持体に対する相対的な支持ピンの上下方向の位置を非接触状態にて個別に検出する位置検出手段と、
複数の支持ピンが基板の下面に当接するように待機高さ位置から上昇高さ位置まで昇降部により保持体を上昇させる第1の処理と、保持体の上昇中に位置検出手段により初期突出長さよりも小さい所定の突出長さに達した支持ピンを検出する第2の処理と、所定の突出長さに達した支持ピンについては電磁固定部により個別に固定し、他の支持ピンについては、保持体が上昇高さ位置に達してから電磁固定部により固定する第3の処理とを実行する制御部とを備え、
制御部において、支持ピンに支持される基板の下面の基準支持高さに対して許容される基板の許容高さ範囲の情報に基づいて、支持ピンが基板を不支持の状態で、かつ保持体が上昇高さ位置に位置したときに、支持ピンの上端の高さが基板の許容高さ範囲の上限値における基板の下面の高さ以上となるように、支持ピンの初期突出長さが設定されている、基板支持装置を提供する。
According to the first aspect of the present invention, a plurality of support pins for supporting the substrate from the lower surface;
A holding body that holds a plurality of support pins so as to be slidable in the vertical direction and projecting upward at an initial protruding length;
An elevating unit that raises the holding body from the standby height position to the raised height position and abuts the upper end of the support pin on the lower surface of the substrate;
A plurality of electromagnetic fixing portions for fixing the support pins in the vertical direction relative to the holding body;
Position detecting means for individually detecting the vertical position of the support pin relative to the holding body in a non-contact state;
A first process in which the holding body is raised by the elevating unit from the standby height position to the raised height position so that the plurality of support pins are in contact with the lower surface of the substrate; and an initial protrusion length by the position detection means during the raising of the holding body The second process of detecting a support pin that has reached a predetermined projection length smaller than the above, and the support pins that have reached a predetermined projection length are individually fixed by an electromagnetic fixing unit, and the other support pins are A control unit that performs a third process of fixing by the electromagnetic fixing unit after the holding body reaches the raised height position,
In the control unit, based on the information on the allowable height range of the substrate relative to the reference support height of the lower surface of the substrate supported by the support pins, the support pins are in a state of not supporting the substrate, and the holding body The initial protrusion length of the support pin is set so that the height of the upper end of the support pin is equal to or higher than the height of the lower surface of the substrate at the upper limit of the allowable height range of the substrate when A substrate support apparatus is provided.
本発明の第2態様によれば、制御部において、保持体が上昇高さ位置に位置したときに、保持体の上昇中に固定される支持ピンの上端が基板の下面の基準支持高さに位置するように、所定の突出長さが設定されている、第1態様に記載の基板支持装置を提供する。 According to the second aspect of the present invention, in the control unit, when the holding body is positioned at the raised height position, the upper end of the support pin fixed while the holding body is raised is at the reference support height of the lower surface of the substrate. The substrate support apparatus according to the first aspect, in which a predetermined protrusion length is set so as to be positioned.
本発明の第3態様によれば、制御部は、第1から第3の処理を実施することにより、基板の下面の基準支持高さよりも下方側に変位している基板の部分を、電磁固定部により固定された支持ピンにより持ち上げて、上昇高さ位置に達した際に基板の下面の基準支持高さに位置するように基板の姿勢を矯正する動作を行う、第2態様に記載の基板支持装置を提供する。 According to the third aspect of the present invention, the control unit electromagnetically fixes the portion of the substrate that is displaced below the reference support height on the lower surface of the substrate by performing the first to third processes. The substrate according to the second aspect, wherein the substrate is lifted by a support pin fixed by the portion, and the posture of the substrate is corrected so as to be positioned at the reference support height on the lower surface of the substrate when reaching the raised height position. A support device is provided.
本発明の第4態様によれば、第1態様から第3態様のいずれか1つに記載の基板支持装置と、
部品を保持したノズルを下降させて基板の上面に部品を実装する実装ユニットとを備え、
制御部は、上昇高さ位置に位置された保持体に対してそれぞれの電磁固定部により個別に固定された状態の複数の支持ピンの高さ情報を個別に検出し、検出された支持ピンの高さ情報に基づき、基板に対する各支持ピンの支持位置に対応する基板の高さ情報を算出して出力する第4の処理と、基板の高さ情報に基づき部品を保持したノズルの下降量を制御しながら、複数の支持ピンにより支持された状態の基板に対して部品の実装を行う第5の処理とを実行する、実装装置を提供する。
According to a fourth aspect of the present invention, the substrate support apparatus according to any one of the first to third aspects;
A mounting unit that lowers the nozzle holding the component and mounts the component on the upper surface of the board,
The control unit individually detects height information of a plurality of support pins that are individually fixed by the respective electromagnetic fixing units with respect to the holding body positioned at the raised height position, and the detected support pin Based on the height information, a fourth process for calculating and outputting the height information of the substrate corresponding to the support position of each support pin with respect to the substrate, and the descending amount of the nozzle holding the component based on the height information of the substrate Provided is a mounting apparatus that executes a fifth process of mounting a component on a substrate supported by a plurality of support pins while being controlled.
本発明の第5態様によれば、制御部は、第4の処理によって出力された基板の高さ情報に基づき、基板の許容高さ範囲を超える形状の基板を抽出し、抽出された基板については選択的に第5の処理を行わない、第4態様に記載の実装装置を提供する。 According to the fifth aspect of the present invention, the control unit extracts a substrate having a shape exceeding the allowable height range of the substrate based on the substrate height information output by the fourth process, and the extracted substrate Provides the mounting apparatus according to the fourth aspect, which does not selectively perform the fifth processing.
本発明の第6態様によれば、複数の支持ピンが基板の下面に当接するように、複数の支持ピンを上下方向に摺動可能にかつ上方に初期突出長さ突出させた保持体を、待機高さ位置から上昇高さ位置まで上昇させる第1の工程と、
保持体の上昇中に初期突出長さよりも小さい所定の突出長さに達した支持ピンを検出する第2の工程と、
所定の突出長さに達した支持ピンについては電磁的な外力により上下方向に個別に固定し、他の支持ピンについては、保持体が上昇高さ位置に達してから電磁的な外力により上下方向に固定する第3の工程とを含み、
支持ピンに支持される基板の下面の基準支持高さに対して許容される基板の許容高さ範囲の情報に基づいて、支持ピンが基板を不支持の状態で、かつ保持体が上昇高さ位置に位置したときに、支持ピンの上端の高さが基板の許容高さ範囲の上限値における基板の下面の高さ以上となるように、支持ピンの初期突出長さが設定されている、基板支持方法を提供する。
According to the sixth aspect of the present invention, the holding body in which the plurality of support pins are slidable in the vertical direction and protruded upward by the initial protrusion length so that the plurality of support pins contact the lower surface of the substrate. A first step of raising from a standby height position to a raised height position;
A second step of detecting a support pin that has reached a predetermined protrusion length that is smaller than the initial protrusion length during raising of the holding body;
Support pins that have reached the specified protruding length are individually fixed in the vertical direction by electromagnetic external force, and the other support pins are fixed in the vertical direction by electromagnetic external force after the holding body reaches the raised height position. And a third step of fixing to
Based on information on the allowable height range of the substrate relative to the reference support height of the lower surface of the substrate supported by the support pins, the support pins are in a state of not supporting the substrate, and the holding body is raised. The initial protrusion length of the support pin is set so that the height of the upper end of the support pin is equal to or higher than the height of the lower surface of the substrate at the upper limit value of the allowable height range of the substrate when positioned at the position. A substrate support method is provided.
本発明の第7態様によれば、保持体が上昇高さ位置(P2)に位置したときに、保持体の上昇中に固定される支持ピンの上端が基板の下面の基準支持高さに位置するように、所定の突出長さが設定されている、第6態様に記載の基板支持方法を提供する。 According to the seventh aspect of the present invention, when the holding body is positioned at the rising height position (P2), the upper end of the support pin fixed while the holding body is rising is positioned at the reference support height of the lower surface of the substrate. Thus, the substrate supporting method according to the sixth aspect is provided, wherein a predetermined protruding length is set.
本発明の第8態様によれば、第1から第3の工程を実施することにより、基板の下面の基準支持高さよりも下方側に変位している基板の部分を、固定された支持ピンにより持ち上げて、上昇高さ位置に達した際に基板の下面の基準支持高さに位置するように基板の姿勢を矯正する、第7態様に記載の基板支持方法を提供する。 According to the eighth aspect of the present invention, by performing the first to third steps, the portion of the substrate that is displaced below the reference support height on the lower surface of the substrate is fixed by the fixed support pin. The substrate support method according to the seventh aspect, wherein the substrate posture is corrected so that the substrate is positioned so as to be positioned at the reference support height on the lower surface of the substrate when the lifted height position is reached.
本発明の第9態様によれば、第7態様から第9態様のいずれか1つに記載の基板支持方法と、
上昇高さ位置に位置された保持体に対して電磁的な外力により個別に固定された状態の複数の支持ピンの高さ情報を個別に検出し、検出された支持ピンの高さ情報に基づき、基板に対する各支持ピンの支持位置に対応する基板の高さ情報を算出して出力する第4の工程と、
基板の高さ情報に基づき、部品を保持したノズルの下降量を制御しながら、複数の支持ピンにより支持された状態の基板に対して部品の実装を行う第5の工程とをさらに含む、実装方法を提供する。
According to a ninth aspect of the present invention, the substrate supporting method according to any one of the seventh to ninth aspects;
The height information of a plurality of support pins that are individually fixed to the holding body located at the raised height position by electromagnetic external force is detected individually, and based on the detected height information of the support pins A fourth step of calculating and outputting the height information of the substrate corresponding to the support position of each support pin with respect to the substrate;
And a fifth step of mounting the component on the substrate supported by the plurality of support pins while controlling the descending amount of the nozzle holding the component based on the height information of the substrate. Provide a method.
本発明の第10態様によれば、第4の工程によって出力された基板の高さ情報に基づき、基板の許容高さ範囲を超える形状の基板を抽出し、抽出された基板については選択的に第5の工程を行わない、第9態様に記載の実装方法を提供する。 According to the tenth aspect of the present invention, a substrate having a shape exceeding the allowable height range of the substrate is extracted based on the substrate height information output in the fourth step, and the extracted substrate is selectively selected. The mounting method according to the ninth aspect is provided, in which the fifth step is not performed.
本発明によれば、反り等が生じた基板をより適切な状態にて保持することができる基板支持装置およびその方法、並びに精度良く部品の実装を行うことができる実装装置およびその方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a substrate support device and method for holding a warped substrate or the like in a more appropriate state, and a mounting device and method for mounting components with high accuracy. be able to.
以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。 Embodiments according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
(実施の形態)
図1は、本発明の実施の形態にかかる基板支持装置13を備える実装装置1の構成概要を示す斜視図である。実装装置1は、図1に示すように、基板2を支持する基板支持装置13と、搬送レール14と、実装ユニット8とを備える。
(Embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a mounting
基板2は、搬送レール14によって実装装置1内へ搬入される。実装装置1内における基板2は、搬送レール14が延在する方向に沿って搬送される。図1に示すように、基板2の搬送方向をX軸方向とし、上下方向をZ軸方向とし、X軸方向およびZ軸方向に垂直な方向をY軸方向とする。図1に示すように、基板2が搬送レール14に沿って所定位置まで移動されると、搬送方向における基板2の端部(X軸方向における端部)が搬送レール14の図示しないストッパーによって固定される。これにより、基板2は搬送方向沿いの所定位置にて固定される。
The
次に、搬送レール14により搬送方向の所定位置に固定された基板2の下面を、基板支持装置13によって下方より規正して支持する。その後、基板支持装置13によって支持された状態の基板2上面に対して、基板2の上方に位置された実装ユニット8を用いて、部品の実装を行う。
Next, the lower surface of the
実装ユニット8により部品が実装された基板2は、基板支持装置13による下方からの支持および搬送レール14の図示しないストッパーによる基板2の搬送方向への固定が解除されて、移動可能となる。その後、基板2は搬送レール14に沿って移動し、実装装置1外へ搬出される。
The
次に、実装装置1の基板支持装置13の構成について、図2を用いて説明する。基板支持装置13は、基板2を支持する支持ピン3と、保持体4と、電磁固定部5と、昇降部6と、位置検出手段7と、制御部9とを備える。なお、図2では、基板支持装置13の複数の支持ピン3により基板2下面が支持された状態を示している。
Next, the configuration of the
基板支持装置13の複数の支持ピン3は、プレート状の保持体4によって、上下方向(Z方向)に摺動可能に保持されている。保持体4に保持された複数の支持ピン3は通常、基板2下面に上端が当接しないように、保持体4が下降することにより一体的に下降した状態で基板2の下方に配置され、待機している。
The plurality of support pins 3 of the
図3は、支持ピン3および保持体4の平面図を示す。図3に示すように、保持体4は、XY平面内に配置された略矩形状のプレートである。保持体4には、上下方向(Z方向)に貫通する略同一径の複数の円形貫通穴16が形成されている。複数の貫通穴16は、例えば上方から見たときに、X方向に複数列、Y方向に複数列並び、各方向における間隔がそれぞれ等しくなるように規則的に配置されている。保持体4の貫通穴16内には、支持ピン3が挿通されている。
FIG. 3 shows a plan view of the
図2に示すように、保持体4には昇降部6が取り付けられている。昇降部6は、保持体4を上昇させることにより、保持体4と、保持体4に保持された複数の支持ピン3とを一体的に上昇(および下降)させる。昇降部6によって保持体4が上昇されることにより、支持ピン3の上端が上方に配置された基板2下面に当接する。
As shown in FIG. 2, an elevating
図2、3に示すように、保持体4の各貫通穴16の内周と各支持ピン3の外周との間には電磁固定部5が設けられている。電磁固定部5は、電磁的な外力を用いて支持ピン3を解除可能に固定することができる。電磁固定部5は、通常、支持ピン3を摺動可能に保持しているが、電磁的な外力を発することにより選択的に支持ピン3を固定する。電磁固定部5によって固定された支持ピン3は、保持体4に対して相対的に固定された状態となる。本実施の形態では、電磁的な外力の一例として電圧を用いており、電磁固定部5の一例として電圧の印加によって粘性が変化するERゲル15(電気粘性流体)を用いている。
As shown in FIGS. 2 and 3, an
図4を用いて電磁固定部5について説明する。図4に示すように、電磁固定部5は、パッキン10と、電極11と、ERゲル15とを備える。ERゲル15は、貫通穴16の上下端部にそれぞれ設けられたパッキン10により、内部に封じ込められている。ERゲル15が封じ込められている空間内には、電源12に接続された2つの電極11が設けられている。電極11間に電圧が印加されると、ERゲル15の粘性が変化することにより、ERゲル15と支持ピン3との間の摩擦力が上昇して支持ピン3が固定される。
The
一方で、電磁固定部5に電圧が印加されていない場合の電磁固定部5による支持ピン3に対する摩擦力は、支持ピン3が自重によって落ちない程度に設定されている。
On the other hand, the friction force with respect to the
次に、図1、2に示すように、保持体4の下部には、保持体4に対する支持ピン3の相対的な位置を個別に検出する位置検出手段7が設けられている。位置検出手段7は、支持ピン3に対して非接触な状態にて支持ピン3の周囲を取り囲むように保持体1の下部に取り付けられている。図1、2では、1つの支持ピン3につき1つの位置検出手段7が設けられる。
Next, as shown in FIGS. 1 and 2, position detection means 7 for individually detecting the relative positions of the support pins 3 with respect to the holding
なお、本実施の形態では、各支持ピン3の上下方向の非接触な位置検出手段である位置検出手段7として光学式や磁気式のリニアスケールが用いられている。例えば、磁気式リニアスケールはコイルを有しており、コイルの磁界は、磁気式リニアスケールによって取り囲まれる支持ピン3の高さ位置によって変化する。コイルの磁界と支持ピン3の高さ位置との関係を予め算出してくことにより、検出されたコイルの磁界をもとに支持ピン3の高さ位置が検出される。すなわち、磁気式リニアスケール等を用いることにより、保持体4に対する支持ピン3の相対的な高さ位置を、非接触状態にて検出することができる。
In the present embodiment, an optical or magnetic linear scale is used as the position detection means 7 which is a non-contact position detection means in the vertical direction of each
図1、2に示すように、基板2の上方には実装ユニット8が設けられている。実装ユニット8は、駆動部(図示せず)によってX、YおよびZ方向に移動される。
As shown in FIGS. 1 and 2, a mounting unit 8 is provided above the
実装ユニット8の先端には、基板2に実装すべき部品を吸着する吸着機構(例えば、真空吸着用ノズル)が設けられている。ノズルが部品を吸着することにより、実装ユニット8は部品を吸着保持しながら移動することができる。
At the tip of the mounting unit 8, a suction mechanism (for example, a vacuum suction nozzle) that sucks components to be mounted on the
図1、2に示すように、実装ユニット8は、部品の実装を行わない場合には基板2の上方に退避している。一方で、部品の実装を行う場合には、実装ユニット8は基板2の実装位置に対してXおよびY方向に位置決めされた状態にて、駆動部によって下方に移動される。
As shown in FIGS. 1 and 2, the mounting unit 8 is retracted above the
ここで、本実施の形態の基板支持装置13において、各支持ピン3の突出長さなど、それぞれの支持ピン3と保持体4との位置関係について、図5(a)、(b)を用いて説明する。図5(a)は、昇降部6による保持体4の上昇が開始する前の状態(待機状態)を示す。図5(b)は、保持体4が最大高さ位置まで上昇された状態を示す。なお、図5(a)、(b)においては、支持ピン3の上方に基板2が配置されていない場合について説明する。
Here, in the board |
図5(a)に示すように、待機状態の場合、保持体4の高さ位置は下限高さ位置としての待機高さ位置P1にある。このとき、複数の支持ピン3は、基板2を不支持の状態でかつ、保持体4から初期突出長さL1だけ突出した状態にて保持されている。なお本明細書における突出長さとは、保持体4を基準として保持体4から上方に突出した部分の長さのことをいう。
As shown in FIG. 5A, in the standby state, the height position of the holding
その後、昇降部6によって保持体4および複数の支持ピン3が上昇される。図5(b)に示すように、保持体4は、上限高さ位置としての上昇高さ位置P2まで上昇される。図5(b)に示すように、複数の支持ピン3は、保持体4が上昇高さ位置P2に到達しても、図5(a)に示す待機状態と同様に、保持体4に対して初期突出長さL1にて上方に突出した状態で図示されている。これは、支持ピン3の上方に基板2が配置されない条件で、保持体4が上昇高さ位置P2に到達するまでに支持ピン3が基板2に当接せず、保持体4に対して下方に摺動していないためである。
Thereafter, the holding
また本実施の形態では、図5(a)に示すように、基板2の下面が平坦に支持される場合の基準の支持高さとしての基準支持高さP3が設定される。基準支持高さP3とは、各支持ピン3によって支持される所望の基板2下面の高さ位置のことであり、任意に設定することができる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 5A, a reference support height P3 is set as a reference support height when the lower surface of the
さらに本実施の形態では、図5(a)に示すように、基準支持高さP3を基準として、基板2の下面の許容高さ範囲Rが設定される。許容高さ範囲Rとは、基板2の品質上許容される反り量の基板2下面の高さ範囲のことであり、任意に設定することができる。
Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 5A, the allowable height range R of the lower surface of the
さらに本実施の形態では、図5(b)に示すように、支持ピン3が基板2を不支持の状態でかつ、保持体4が上昇高さ位置P2に位置したときに、保持体4にて上下方向に摺動可能に保持されている支持ピン3の上端の高さが基板2の下面の許容高さ範囲Rの上限高さP4以上となるように、支持ピン3の初期突出長さL1が設定されている。このように初期突出長さL1を設定することにより、支持される基板2の反り量が許容される反り量以内である場合には、保持体4が上昇高さ位置P2に位置したときに全ての支持ピン3が基板2の下面に当接することとなる。このことを利用して、基板2の反り量が許容される反り量か否かを判別することができる。具体的な判別方法については後述する。
Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 5B, when the support pins 3 do not support the
上述した実装装置1および基板支持装置13の構成部材の動作は、基板支持装置13が備える制御部9によって制御される。図2に示すように、制御部9は、支持ピン3、保持体4、電磁固定部5、昇降部6および位置検出手段7に接続されており、これらの構成部材の動作を個々に制御する。
The operations of the constituent members of the mounting
位置検出手段7によって検出された支持ピン3の高さ情報は、位置検出手段7から制御部9に送信されて制御部9においてデータ処理される。制御部9は実装ユニット8の昇降動作を制御しており、実装ユニット8のノズル先端の下降量も、制御部9によって制御される。
The height information of the
次に、本実施の形態の実装装置1および基板支持装置13の動作について、説明する。
Next, operations of the mounting
本実施の形態の実装装置1および基板支持装置13は、図6に示すフローチャートに沿って動作を行う。図6に示すフローチャートによる実装装置1の動作を、基板2が下反り場合と上反りの場合について、図7(a)−(c)および図8(a)−(c)を用いて、それぞれ説明する。なお、基板2が上反りの場合とは、基板2の中央部で基板2が上方凸状となっている場合を指し、基板2が下反りの場合とは基板2が下方凸状となっている場合を指す。
The mounting
図7(a)は、基板2が下反りの場合において、昇降部6による上昇が始まる前の待機状態を示す。図7(a)に示すように、保持体4は、支持ピン3が保持体4に対して初期突出長さL1にて突出した状態にて、下限高さ位置としての待機高さ位置P1にて待機状態で配置される(ステップS1)。初期突出長さL1は前述したように、支持ピン3が基板2を不支持の状態でかつ、保持体4が上昇高さ位置P2に位置したときに、支持ピン3上端の高さが基板2下面の許容高さ範囲Rの上限高さP4以上となるように、基板支持装置13の制御部9によって設定される。この設定は、保持体4に対して上下方向に摺動可能に保持された支持ピン3を図示しない突出基準部材により相対的に一括して規正させる初期突出量設定動作により、実施することもできる(例えば、保持体4に対して上下方向に貫通する支持ピン3の下端を図示しない突出基準部材に相対的に押し付けて、初期突出長さL1の設定を一括して行っても良い)。
FIG. 7A shows a standby state before the lift by the elevating
このように初期突出長さL1が設定されることにより、図7(a)に示すように、複数の支持ピン3は、保持体4に対して初期突出長さL1突出した位置に配置される。一方で、保持体4は、下限高さ位置としての待機高さ位置P1に配置されている。
By setting the initial protrusion length L 1 in this way, the plurality of support pins 3 are arranged at positions protruding from the initial protrusion length L 1 with respect to the holding
このように支持ピン3および保持体4が配置された待機状態においては、基板2が搬入されたときに基板2と支持ピン3とが干渉しない配置となっている。
Thus, in the standby state in which the support pins 3 and the holding
本実施の形態では、初期突出長さL1に加えて、初期突出長さL1よりも小さく、保持体4が上限高さ位置P2に位置した時、支持ピン3の上端が基板2の下面の基準支持高さP3に位置するような突出長さの所定の突出長さLFが予め設定される。この突出長さLFが設定された状態にて、支持ピン3および保持体4を待機高さ位置P1で待機状態に配置する(ステップS1)。所定の突出長さLFの具体的な設定については後述する。
In the present embodiment, in addition to the initial protrusion length L 1 , the upper end of the
次に、制御部9の制御により、昇降部6は、保持体4と複数の支持ピン3とを一体的に上昇させる(ステップS2(第1の処理、第1の工程))。これにより、図7に示すような下反りの基板2を支持する場合には、複数の支持ピン3のうち、基板2の中央部に位置する支持ピン3から先に、上端が基板2の下面に当接していく。上端が基板2の下面に当接した支持ピン3は、昇降部6による上昇が継続すると、上端が基板2の下面に位置されたまま、保持体4に対して相対的に下方に摺動する。支持ピン3が保持体4に対して下方に摺動するにつれて、支持ピン3の突出長さは初期突出長さL1から小さくなっていく。
Next, under the control of the
次に、保持体4に対して下方に摺動した複数の支持ピン3のうち、ステップS1で定められている初期突出量L1から所定の突出長さLFに達した支持ピン3を順次固定していく(ステップS3)。具体的には、各支持ピン3に設けられた位置検出手段7により支持ピン3の高さ情報を随時検出し(第2の処理、第2の工程)、検出した支持ピン3の高さ情報をもとに所定の突出長さLFに達した支持ピン3を判別する。判別した支持ピン3を電磁固定部5によって固定する(第3の処理、第3の工程)。具体的には、制御部9の制御により、電極11から電磁固定部5へ電圧を印加する。電圧の印加によって電磁固定部5の粘性が変化し、電磁固定部5と支持ピン3との間の摩擦力が上昇する。この摩擦力の上昇によって支持ピン3は固定される。支持ピン3が固定されると、支持ピン3によって支持された基板2の下方への変形が防止される。
Then, among the plurality of support pins 3 which slides downward with respect to the holding
図7(b)は、上昇過程を示す図である。図7(b)に示すように、中央部に位置する1本の支持ピン3は、突出長さがLFに達したため、電磁固定部5により固定されている。この支持ピン3はその後、固定された状態にて保持体4と一体的に上昇される。一方で、その他の支持ピン3は、突出長さがLFに達していないため、電磁固定部5による固定はされていない。これらの支持ピン3はその後、保持体4の上昇に伴って保持体4に対して下方に摺動する。
FIG.7 (b) is a figure which shows an ascending process. As shown in FIG. 7 (b), 1 supporting pins located in the
図7(b)に示すように、中央部に位置する1本の支持ピン3は、突出長さLFに達し、上端が基板2の下面に当接した状態にて保持体4に対する上下方向の摺動が固定され、保持体4とともに一体的に上昇される。これにより、基板2の中央部が支持ピン3の上端によって上方へ押し上げられていく。基板2の中央部が上方へ押し上げられることにより、下反りであった基板2の形状が徐々に水平に近づき、姿勢の矯正が行われる。
As shown in FIG. 7B, the
その後の保持体4の上昇中においても、所定の突出長さLFに達した支持ピン3を順次固定していく。最終的に、保持体4が上昇高さ位置P2に位置したときに、昇降部6による保持体4の上昇を停止する(ステップS4)。
Also in the subsequent rising of the
なお、本実施の形態では、基準支持高さP3を水平に設定している。 In the present embodiment, the reference support height P3 is set to be horizontal.
図7(c)は、保持体4が上昇高さ位置P2にて停止された状態を示す図である。所定の突出長さLFが前述のような長さに設定されることにより、図7(c)に示すように、支持ピン3は、上端が基準支持高さP3に位置した状態にて基板2の下面を支持する。このように支持されることにより、基板2は基準支持高さP3に沿って水平に配置される。基板2が水平に支持されることにより、基板2の姿勢が矯正される。
FIG.7 (c) is a figure which shows the state in which the holding
なお、図7(c)では、全ての支持ピン3が上昇過程で突出長さLFに達した場合について説明しているが、基板2の反り方向や基準支持高さP3の設定によっては、一部の支持ピン3について突出長さがLFに達しない場合がある。このような突出長さがLFに達しない支持ピン3は、昇降部6による上昇が停止するまでの間に電磁固定部5によって固定されず、昇降部6による上昇停止後も保持体4に対して摺動可能な状態にて保持される。このように保持体4が上昇高さ位置P2に位置した後も固定されていない支持ピン3が存在する場合には、その支持ピン3を電磁固定部5により固定する(ステップS5)。ステップS5が完了すると、全ての支持ピン3が固定された状態となる。なお、支持ピン3が固定されたら、制御部9の制御により、位置検出手段7が保持体4に対する支持ピン3の高さ位置を検出する。本実施の形態では、1つの支持ピン3に対して1つの位置検出手段7が設けられているため、全ての支持ピン3の高さ位置が個別に検出される。検出されたそれぞれの支持ピン3の高さ位置に関する情報は、位置検出手段7から制御部9に送られる。
In FIG. 7 (c), the although all the support pins 3 that describes when it reaches the projecting length L F at elevated process, by setting the warp direction and standards support height P3 of the
制御部9は、位置検出手段7から送られてきた各支持ピン3の高さ位置に関する情報と、予め入力されていた基板2の厚みに関する情報から、支持位置における基板2の高さ情報を算出して出力する(ステップS6(第4の処理、第4の工程))。
The
次に、複数の支持ピン3によって支持された状態の基板2に対して、実装ユニット8による部品の実装を行う(ステップS7(第5の処理、第5の工程))。具体的には、実装ユニット8のノズルを下降させて、実装ユニット8のノズルの先端に吸着された部品を基板2の上面に押し当てる。実装ユニット8が下方に移動することにより、実装ユニット8の先端に保持された部品の下面(部品の実装される面)が基板2の上面に到達し、基板2の上面に取り付けられる。その後、ノズルによる部品の吸着を解除した上で、実装ユニット8を上方へ再度退避させる。このようにして、実装ユニット8による部品の実装が行われる。
Next, components are mounted by the mounting unit 8 on the
このときの実装ユニット8のノズルの下降量は、ステップS6で出力された基板2の高さ位置の情報をもとに制御部9によって制御される。このように実装ユニット8のノズルの下降量を制御することにより、基板2や部品に余分なストレスをかけずに基板2の形状に沿って部品の実装を行うことができ、高品質な基板2を作成することができる。なお、基板2の上面の位置は、ステップS7において実装ユニット8のノズルの下降量を制御する前に予め、ステップS6で出力された基板2の高さ位置の情報をもとに制御部9によって特定されている。
The amount of lowering of the nozzle of the mounting unit 8 at this time is controlled by the
また、基板2の姿勢を矯正した状態にて部品の実装を行うことにより、基板2の品質を向上させ、部品の実装精度も向上させることができる。
Further, by mounting the components in a state where the posture of the
次に、基板2が上反りの場合について、図8(a)−(c)を用いて説明する。図8(a)−(c)は、基板2が上反りの場合の実装装置1および基板支持装置13の動作を示す図である。本実施の形態にかかる実装装置1では、実装対象である基板2の反りにかかわらず図6に示すフローチャートに沿って実装装置1の動作を行い部品の実装を行う。すなわち、基板2が上反りの場合も、基板2が下反りの場合と同様に、図6に示すフローチャートに沿って部品の実装が行われる。
Next, the case where the board |
図8(a)は、基板2が上反りの場合において、昇降部6による上昇が始まる前の待機状態を示す。図8(a)に示すように、複数の支持ピン3は、保持体4に対して初期突出長さL1で上方へ突出した状態にて保持されている。初期突出長さL1の設定は、下反りの場合と同様であるため説明を省略する。
FIG. 8A shows a standby state before the lift by the elevating
また、初期突出長さL1に加えて、初期突出長さL1よりも小さく、保持体4が上昇高さ位置P2に位置した時、支持ピン3の上端が基板2の下面の基準支持高さP3に位置するような突出長さの所定の突出長さLFを予め設定した上で、支持ピン3および保持体4を待機高さ位置P1で待機状態に配置する(ステップS1)。所定の突出長さLFの設定も下反りの場合と同様であるため説明を省略する。
In addition to the initial protrusion length L 1 , the upper end of the
次に、保持体4および複数の支持ピン3を一体的に上昇させる(ステップS2)。これにより、図8(b)に示すように、複数の支持ピン3のうち、基板2の端部に近い支持ピン3から先に、上端が基板2下面に当接していく。上端が基板2下面に当接した支持ピン3は、昇降部6による上昇が継続すると、上端が基板2下面に位置されたまま保持体4に対して相対的に下方に摺動する。
Next, the holding
次に、保持体4に対して下方に摺動した複数の支持ピン3のうち、突出長さが、ステップS1で定めた所定の突出長さLFに達した支持ピン3を順次固定していく(ステップS3)。具体的には、各支持ピン3に設けられた位置検出手段7により支持ピン3の高さ情報を随時検出し、検出した支持ピン3の高さ情報をもとに所定の突出長さLFに達した支持ピン3を判別する。
Then, a plurality of support pins 3 which slides downward with respect to the holding
最終的に、保持体4が上昇高さ位置P2に位置したときに、昇降部6による保持体4の上昇を停止する(ステップS4)。
Finally, when the holding
図8(c)は、保持体4が上昇高さ位置P2にて停止された状態を示す図である。図8(c)に示すように、上反りの基板2の中央側を支持する複数の支持ピン3は、所定の突出長さLFに達しておらず、保持体4に対して固定されていない。これは、保持体4が上昇高さ位置P2に位置するまでに、いずれの支持ピン3も所定の突出長さLFに到達しなかったためである。
FIG. 8C is a diagram illustrating a state in which the holding
図8(c)に示すように、全ての支持ピン3上端が基板2下面に当接している。一方で、ステップS1において、支持ピン3の初期突出長さL1は、保持体4が上昇高さ位置P2に位置したときに、支持ピン3上端の高さが基板2下面の許容高さ範囲Rの上限高さP4以上となるように設定されている。よって、図8(c)に示すように、全ての支持ピン3上端が基板2下面に当接していることから、図8で用いられている基板2の下面の高さ位置が許容高さ範囲R内にあるということがわかる。すなわち、基板2の反り量が許容される反り量であるということがわかる。このように、本実施の形態の実装装置1および基板支持装置13によれば、保持体4が上昇高さ位置P2に位置したときの支持ピン3の高さ情報をもとに、基板2の反り量が許容される反り量であるか否かを判別することができる。
As shown in FIG. 8C, the upper ends of all the support pins 3 are in contact with the lower surface of the
次に、上昇停止後も保持体4に対して固定されていない支持ピン3を電磁固定部5により固定する(ステップS5)。ステップS5が完了すると、全ての支持ピン3が固定されて基板2を支持する状態となる。
Next, the
ステップS5以降は、上反り基板の場合と同様に、フローチャートのステップS6(支持位置における基板2の高さ上方を算出して出力)およびステップS7(部品を実装)と同じ工程を実施する。ステップS6およびS7については説明を省略する。
After step S5, similar to the case of the warped substrate, the same processes as step S6 (calculate and output the height above the
ステップS7において、実装ユニット8のノズルの下降量を制御して部品の実装を行うことにより、基板2や部品に余分なストレスをかけずに基板2の形状に沿って部品の実装を行うことができ、高品質な基板2を作成することができる。
In step S7, by mounting the component by controlling the lowering amount of the nozzle of the mounting unit 8, it is possible to mount the component along the shape of the
上述したように、本実施の形態の実装装置1および基板支持装置13によれば、保持体4が上昇高さ位置P2に位置した時、支持ピン3の上端が基板2の下面の基準高さP3に位置するように、例えば下反りの基板2の姿勢を平坦になるよう矯正可能な所定の突出長さLFを予め設定した上で、保持体4の上昇中に突出長さLFに達した支持ピン3を順次固定することにより、基板2(特に下反り)の姿勢を矯正することができる。基板2の姿勢を矯正した状態にて部品の実装を行うことにより、基板2の品質を向上させるとともに、部品の実装精度を向上させることができる。
As described above, according to the mounting
また、本実施の形態の実装装置1および基板支持装置13によれば、支持ピン3の初期突出長さL1を所定の長さに設定しておくことにより、基板2(特に上反り)の下面の高さ位置が許容高さ範囲R内にあるか否かを判別することができる。すなわち、基板2の反り量が許容される反り量であるか否かを判別することができる。
Further, according to the mounting
また、本実施の形態の実装装置1および基板支持装置13によれば、位置検出手段7が支持ピン3に対して非接触な状態にて支持ピン3の高さ位置を検出するため、支持ピン3の特性などに影響を受けずに安定的な位置検出を行うことができる。
Further, according to the mounting
また、本実施の形態の実装装置1によれば、実装ユニット8のノズルの下降量を制御することにより、基板2に余分なストレスをかけずに基板2の形状に沿って部品の実装を行うことができ、高品質な基板2を作成することができる。
Further, according to the mounting
上述したように、本実施の形態の基板支持装置13によれば、反り等が生じた基板をより適切な状態にて保持することができる。また、本実施の形態の実装装置1によれば、反り等が生じた基板に対して精度良く部品の実装を行うことができる。
As described above, according to the
なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。例えば、基板2の反り量が許容できない量であると判別された場合(基板2下面の許容高さ範囲Rを超える形状の基板2を抽出した場合)に、その反り量を有する基板2については部品の実装(ステップS6)を行わないようにしても良い。このように、部品の実装を選択的に行うことにより歩留まりを向上させることもできる。
In addition, this invention is not limited to the said embodiment, It can implement in another various aspect. For example, when it is determined that the warpage amount of the
また、上記実施の形態では、所定の突出長さLFは、保持体4が上昇高さ位置P2に位置したときに、保持体4の上昇中に固定された支持ピン3上端が基準支持高さP3に位置するような長さに設定される場合について説明したが、このような場合に限らず、保持体4の上昇中に固定された支持ピン3上端が基準支持高さP3以外の高さ(例えば、基板2の下面に実装された部品を介して基板2を支持する支持ピン3である場合では、基準支持高さP3以下の高さ)に位置するような長さに設定されるようにしても良い。
Further, in the above embodiment, the predetermined projection length L F, when the
また、上記実施の形態の実装装置1以外にも、複数の実装装置が並んで配置されている場合、実装装置1で得られた基板2の高さ情報などを、以降の実装装置にデータとして送信するようにしても良い。このようにデータを送信することで基板2のデータを有効に活用することができ、複数の実装装置を含む実装ラインにおいて効率的な実装を行うことができる。
In addition to the mounting
また、上記実施の形態では電磁固定部5にERゲル15を用いているが、圧電素子などを用いても良い。
Moreover, although the
また、上記実施の形態では位置検出手段7として光学式や磁気式のリニアスケールを用いているが、その他にも支持ピン3の位置検出が可能な手段を用いても良い。
In the above embodiment, an optical or magnetic linear scale is used as the position detection means 7, but other means capable of detecting the position of the
また、上記実施の形態では基準支持高さP3や許容高さ範囲Rの上限高さP4および下限高さを水平に(XY平面内に)設定しているが、これに限らず、基板2の性質や、完成した基板2に求められるスペック等に応じて適宜設定することができる。基板2を上方若しくは下方に反った状態で支持するように基準支持高さP3、許容高さ範囲Rの上限高さP4および下限高さを設定しても良い。
In the above embodiment, the reference support height P3 and the upper limit height P4 and the lower limit height of the allowable height range R are set horizontally (in the XY plane). It can be set as appropriate according to the properties and specifications required for the completed
また、上記実施の形態ではそれぞれの支持ピン3に位置検出手段7が設けられているが、位置検出手段7が特定の支持ピン3のみに設けられる場合であっても良い。
In the above embodiment, the position detection means 7 is provided on each
また、保持体4に形成される貫通穴16の個数や間隔などは、上記実施の形態の配置以外にも適宜設定可能である。
Further, the number and interval of the through
なお、上記様々な実施の形態のうちの任意の実施の形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。 It is to be noted that, by appropriately combining any of the above-described various embodiments, the effects possessed by them can be produced.
本発明は、基板を支持する基板支持装置およびその方法、並びに基板に部品を実装する実装装置およびその方法に適用することができる。 The present invention can be applied to a substrate supporting apparatus and method for supporting a substrate, and a mounting apparatus and method for mounting components on a substrate.
1 実装装置
2 基板
3 支持ピン
4 保持体
5 電磁固定部
6 昇降部
7 位置検出手段
8 実装ユニット
9 制御部
10 パッキン
11 電極
12 電源
13 基板支持装置
14 搬送レール
15 ERゲル
16 貫通穴
R 許容高さ範囲
P1 待機高さ位置
P2 上昇高さ位置
P3 基準支持高さ
P4 許容高さ範囲Rの上限値
L1 初期突出長さ
LF 所定の突出長さ
DESCRIPTION OF
Claims (10)
複数の支持ピンを上下方向に摺動可能にかつ上方に初期突出長さ(L1)突出させて保持する保持体(4)と、
待機高さ位置(P1)から上昇高さ位置(P2)まで保持体を上昇させて、基板の下面に支持ピンの上端を当接させる昇降部(6)と、
保持体に対して相対的に支持ピンを上下方向に固定する複数の電磁固定部(5)と、
保持体に対する相対的な支持ピンの上下方向の位置を非接触状態にて個別に検出する位置検出手段(7)と、
複数の支持ピンが基板の下面に当接するように待機高さ位置(P1)から上昇高さ位置(P2)まで昇降部により保持体を上昇させる第1の処理と、保持体の上昇中に位置検出手段により初期突出長さ(L1)よりも小さい所定の突出長さ(LF)に達した支持ピンを検出する第2の処理と、所定の突出長さ(LF)に達した支持ピンについては電磁固定部により個別に固定し、他の支持ピンについては、保持体が上昇高さ位置(P2)に達してから電磁固定部により固定する第3の処理とを実行する制御部とを備え、
制御部において、支持ピンに支持される基板の下面の基準支持高さ(P3)に対して許容される基板の許容高さ範囲(R)の情報に基づいて、支持ピンが基板を不支持の状態で、かつ保持体が上昇高さ位置(P2)に位置したときに、支持ピンの上端の高さが基板の許容高さ範囲(R)の上限値における基板の下面の高さ(P4)以上となるように、支持ピンの初期突出長さ(L1)が設定されている、基板支持装置。 A plurality of support pins (3) for supporting the substrate from the lower surface;
A holding body (4) for holding a plurality of support pins slidable in the vertical direction and projecting upward with an initial projecting length (L 1 );
An elevating part (6) for raising the holding body from the standby height position (P1) to the raised height position (P2) and bringing the upper end of the support pin into contact with the lower surface of the substrate;
A plurality of electromagnetic fixing portions (5) for fixing the support pins in the vertical direction relative to the holder;
Position detection means (7) for individually detecting the vertical position of the support pin relative to the holding body in a non-contact state;
A first process in which the holding body is raised by the elevating unit from the standby height position (P1) to the raised height position (P2) so that the plurality of support pins are in contact with the lower surface of the substrate; A second process of detecting a support pin that has reached a predetermined protrusion length (L F ) smaller than the initial protrusion length (L 1 ) by the detection means, and a support that has reached a predetermined protrusion length (L F ) A control unit that performs the third process of fixing the pins individually by the electromagnetic fixing unit and fixing the other support pins by the electromagnetic fixing unit after the holding body reaches the rising height position (P2). With
In the control unit, based on the information on the allowable height range (R) of the substrate relative to the reference support height (P3) of the lower surface of the substrate supported by the support pins, the support pins do not support the substrate. When the holding body is positioned at the raised height position (P2) in the state, the height of the lower surface of the substrate (P4) when the height of the upper end of the support pin is the upper limit value of the allowable height range (R) of the substrate. as the above, the initial projection length of the support pins (L 1) is set, the substrate supporting device.
部品を保持したノズルを下降させて基板の上面に部品を実装する実装ユニット(8)とを備え、
制御部は、上昇高さ位置(P2)に位置された保持体に対してそれぞれの電磁固定部により個別に固定された状態の複数の支持ピンの高さ情報を個別に検出し、検出された支持ピンの高さ情報に基づき、基板に対する各支持ピンの支持位置に対応する基板の高さ情報を算出して出力する第4の処理と、基板の高さ情報に基づき部品を保持したノズルの下降量を制御しながら、複数の支持ピンにより支持された状態の基板に対して部品の実装を行う第5の処理とを実行する、実装装置。 A substrate support apparatus according to any one of claims 1 to 3,
A mounting unit (8) for lowering the nozzle holding the component and mounting the component on the upper surface of the board;
The control unit individually detects the height information of the plurality of support pins in a state of being individually fixed by the respective electromagnetic fixing units with respect to the holding body positioned at the rising height position (P2), and is detected. Based on the height information of the support pins, a fourth process for calculating and outputting the height information of the substrate corresponding to the support position of each support pin with respect to the substrate, and the nozzle holding the component based on the height information of the substrate A mounting apparatus that executes a fifth process of mounting a component on a substrate supported by a plurality of support pins while controlling a descending amount.
保持体の上昇中に初期突出長さ(L1)よりも小さい所定の突出長さ(LF)に達した支持ピンを検出する第2の工程と、
所定の突出長さ(LF)に達した支持ピンについては電磁的な外力により上下方向に個別に固定し、他の支持ピンについては、保持体が上昇高さ位置(P2)に達してから電磁的な外力により上下方向に固定する第3の工程とを含み、
支持ピンに支持される基板の下面の基準支持高さ(P3)に対して許容される基板の許容高さ範囲(R)の情報に基づいて、支持ピンが基板を不支持の状態で、かつ保持体が上昇高さ位置(P2)に位置したときに、支持ピンの上端の高さが基板の許容高さ範囲(R)の上限値における基板の下面の高さ(P4)以上となるように、支持ピンの初期突出長さ(L1)が設定されている、基板支持方法。 The holding body in which the plurality of support pins are slidable in the vertical direction and protruded upward in the initial protruding length (L1) so that the plurality of support pins are in contact with the lower surface of the substrate is set at the standby height position (P1). A first step of raising the lift to a lift height position (P2);
A second step of detecting a support pin that has reached a predetermined protrusion length (L F ) that is smaller than the initial protrusion length (L 1 ) during the raising of the holder;
The support pins that have reached a predetermined protruding length (L F ) are individually fixed in the vertical direction by electromagnetic external force, and the other support pins after the holder has reached the raised height position (P2). A third step of fixing in the vertical direction by electromagnetic external force,
Based on information on the allowable height range (R) of the substrate that is allowed relative to the reference support height (P3) of the lower surface of the substrate supported by the support pins, the support pins are in a state of not supporting the substrate, and When the holding body is positioned at the raised height position (P2), the height of the upper end of the support pin is equal to or higher than the height (P4) of the lower surface of the substrate at the upper limit value of the allowable height range (R) of the substrate. A substrate support method in which the initial protrusion length (L 1 ) of the support pin is set.
上昇高さ位置(P2)に位置された保持体に対して電磁的な外力により個別に固定された状態の複数の支持ピンの高さ情報を個別に検出し、検出された支持ピンの高さ情報に基づき、基板に対する各支持ピンの支持位置に対応する基板の高さ情報を算出して出力する第4の工程と、
基板の高さ情報に基づき、部品を保持したノズルの下降量を制御しながら、複数の支持ピンにより支持された状態の基板に対して部品の実装を行う第5の工程とをさらに含む、実装方法。 A substrate support method according to any one of claims 6 to 8,
Height information of a plurality of support pins in a state of being individually fixed by an electromagnetic external force to the holding body positioned at the raised height position (P2) is individually detected, and the detected height of the support pins A fourth step of calculating and outputting the height information of the substrate corresponding to the support position of each support pin with respect to the substrate based on the information;
And a fifth step of mounting the component on the substrate supported by the plurality of support pins while controlling the descending amount of the nozzle holding the component based on the height information of the substrate. Method.
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