JP6339002B2 - stage - Google Patents

stage Download PDF

Info

Publication number
JP6339002B2
JP6339002B2 JP2014234794A JP2014234794A JP6339002B2 JP 6339002 B2 JP6339002 B2 JP 6339002B2 JP 2014234794 A JP2014234794 A JP 2014234794A JP 2014234794 A JP2014234794 A JP 2014234794A JP 6339002 B2 JP6339002 B2 JP 6339002B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bar
stage
holding surface
sample
elevating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014234794A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016100411A (en
Inventor
順 白戸
順 白戸
一佳 三浦
一佳 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Micronics Japan Co Ltd
Original Assignee
Micronics Japan Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Micronics Japan Co Ltd filed Critical Micronics Japan Co Ltd
Priority to JP2014234794A priority Critical patent/JP6339002B2/en
Publication of JP2016100411A publication Critical patent/JP2016100411A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6339002B2 publication Critical patent/JP6339002B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、ステージに関し、特に、基板、液晶表示パネルおよび有機ELパネル等の板状の試料の保持に用いられるステージに関する。   The present invention relates to a stage, and more particularly to a stage used for holding plate-like samples such as substrates, liquid crystal display panels, and organic EL panels.

近年、盛んに開発が進められている液晶表示パネルおよび有機ELパネルは、配線や薄膜トランジスタ等を含む電気回路が形成されたガラス基板を用いて製造され、例えば、製造工程中に、プローバを用いて点灯検査等と称される電気的検査を受ける。この検査では、通常、プローバに組み込まれたステージ上に、負圧を利用して板状の試料である液晶表示パネルや有機ELパネルが吸着固定され、保持される。このように基板や液晶表示パネル等の板状の試料を吸着固定して保持するステージは、従来から、吸着テーブル等とも称されている。   In recent years, liquid crystal display panels and organic EL panels, which are being actively developed, are manufactured using a glass substrate on which an electric circuit including wiring and thin film transistors is formed. For example, a prober is used during the manufacturing process. Receive an electrical test called lighting test. In this inspection, a liquid crystal display panel or an organic EL panel, which is a plate-like sample, is usually adsorbed and held on a stage incorporated in a prober using negative pressure. Such a stage that holds and holds a plate-like sample such as a substrate or a liquid crystal display panel has been conventionally referred to as a suction table or the like.

検査を受けた板状の試料をステージから安全かつ迅速に取り外すために、ステージの保持面には、試料を浮き上がらせるための複数の昇降ピンを設けることができる(例えば、特許文献1参照)。この昇降ピンは、ステージにおいて、その保持面から突出可能に設けることができる。   In order to remove the inspected plate-shaped sample safely and quickly from the stage, a plurality of lifting pins for lifting the sample can be provided on the holding surface of the stage (see, for example, Patent Document 1). The lifting pins can be provided on the stage so as to protrude from the holding surface.

突出位置にある昇降ピンは、保持面の上方で搬送ロボットから検査対象となる試料を受け取ると、保持面下に下降する。この昇降ピンの下降によって保持面上に試料が移動すると、ステージに組み込まれた負圧機構によって保持面に負圧が作用する。試料が検査を受ける間、その試料は上述の負圧によって確実に保持面に吸着固定され、保持される。検査後は、昇降ピンの上昇に伴い、試料が保持面から所定の上昇位置まで持ち上げられる。昇降ピンによって保持面から上昇位置に持ち上げられた試料は、搬送ロボットによってステージから除去される。   When the lifting pin at the protruding position receives the sample to be inspected from the transport robot above the holding surface, the lifting pin descends below the holding surface. When the sample moves on the holding surface by the lowering of the lift pins, a negative pressure is applied to the holding surface by the negative pressure mechanism incorporated in the stage. While the sample is inspected, the sample is securely fixed to the holding surface by the negative pressure described above and held. After the inspection, the sample is lifted from the holding surface to a predetermined raised position as the lifting pins are raised. The sample lifted from the holding surface to the raised position by the lift pins is removed from the stage by the transfer robot.

しかし、上述した昇降ピンと検査対象となる板状の試料との接触面積が小さいことから、試料の大型化・大面積化による重量増加に伴い、試料が昇降ピンとの接触部で受ける局所的な応力は大きくなる。このとき、例えば、ガラス基板等を用いて構成された板状の試料での局所的な応力の集中は、当該試料に大きな歪力を与えることになって望ましくない。   However, since the contact area between the above-described lifting pins and the plate-shaped sample to be inspected is small, local stress that the sample receives at the contact portion with the lifting pins as the sample increases in size and area. Will grow. At this time, for example, local stress concentration in a plate-like sample configured using a glass substrate or the like is not desirable because it gives a large strain force to the sample.

そこで、上述した昇降ピンに代えて、板状の試料を保持する保持面に、その保持面を横切って配置される複数の昇降バーを設けたステージが提案されている(例えば、特許文献2参照)。このステージは、昇降バーを用い、保持面の上方で搬送ロボットから試料を受け取ってその保持面に試料を載せることや、保持面からの試料の持ち上げを行って搬送ロボットに試料を渡すことができ、試料の受け渡しを行うことができる。   Therefore, instead of the above-described lifting pins, a stage has been proposed in which a holding surface for holding a plate-like sample is provided with a plurality of lifting bars arranged across the holding surface (see, for example, Patent Document 2). ). This stage uses a lift bar to receive a sample from the transfer robot above the holding surface and place the sample on the holding surface, or to lift the sample from the holding surface and pass the sample to the transfer robot The sample can be delivered.

特許文献2に記載のステージにおいては、矩形の保持面の上方で板状の試料の受け渡しを行う昇降バーが、複数個、保持面の長手方向に沿って、その保持面を横切るように設けられている。また、ステージの保持面には、その保持面の長手方向に沿って互いに並行して伸びるように、複数の凹所が設けられている。このステージにおいて、複数の凹所は、それぞれが保持面の長手方向の端部で開放されて、複数の昇降バーをそれぞれ、保持面から突出することなく収容できるように形成されている。   In the stage described in Patent Document 2, a plurality of elevating bars for delivering a plate-like sample above a rectangular holding surface are provided so as to cross the holding surface along the longitudinal direction of the holding surface. ing. Further, the holding surface of the stage is provided with a plurality of recesses so as to extend in parallel with each other along the longitudinal direction of the holding surface. In this stage, each of the plurality of recesses is opened at the end portion in the longitudinal direction of the holding surface so that the plurality of lifting bars can be accommodated without protruding from the holding surface.

そして、特許文献2に記載のステージはさらに、複数の昇降バーを一括して昇降可能に支持するための支持機構を含む昇降機構を備えている。昇降機構の支持機構は、複数の凹所がそれぞれ解放するステージの両方の端部で、複数の昇降バーそれぞれの末端部分を支持するように構成される。そして、昇降機構は、支持機構を介して、昇降バーが上述の凹所から突出する上昇位置と、昇降バーが上述の凹所に収容されて突出しない下降位置との間で、その昇降バーの昇降動作を制御することができる。   And the stage of patent document 2 is further provided with the raising / lowering mechanism containing the support mechanism for supporting the several raising / lowering bar collectively so that raising / lowering is possible. The support mechanism of the elevating mechanism is configured to support the end portions of each of the plurality of elevating bars at both ends of the stage released by the plurality of recesses, respectively. Then, the lifting mechanism is provided between the rising position where the lifting bar protrudes from the recess and the lowered position where the lifting bar is accommodated in the recess and does not protrude via the support mechanism. The raising / lowering operation can be controlled.

以上のような構成を有することにより、特許文献2に記載のステージは、板状の試料の受け渡しに際し、従来の昇降ピンを用いた点状の接触部による支持から、昇降バーを用いた線状の接触部による支持が可能となる。その結果、特許文献2に記載のステージは、試料の受け渡し時に試料との間で、支持のための接触面積を増大させることができ、試料に与える歪力を低減することができる。そして、そのステージは、昇降バーを用いて、歪力を低減しながら、保持面の上方で板状の試料の受け渡しを行うことができる。   By having the configuration as described above, the stage described in Patent Document 2 is a linear shape using a lifting bar from support by a conventional point-like contact portion using a lifting pin when delivering a plate-shaped sample. Can be supported by the contact portion. As a result, the stage described in Patent Document 2 can increase the contact area for support with the sample when the sample is delivered, and can reduce the distortion force applied to the sample. And the stage can deliver a plate-shaped sample above a holding surface, using a raising / lowering bar, reducing a distortion force.

特開2002−246450号公報JP 2002-246450 A 特開2013−251486号公報JP2013-251486A

しかしながら、上述した特許文献2に記載のステージにおいては、板状の試料の大型化・大面積化に伴い、昇降バーの長尺化が必要となる。その結果、昇降バーでは、自重による撓み変形が問題となることがあった。   However, in the stage described in Patent Document 2 described above, it is necessary to increase the length of the lifting bar as the plate-shaped sample increases in size and area. As a result, in the lifting bar, bending deformation due to its own weight sometimes becomes a problem.

すなわち、上述した特許文献2に記載のステージにおいては、複数の昇降バーのそれぞれが、末端部分で昇降機構の支持機構によって支持されている。したがって、昇降バーでは、支持機構に支持された状態で、下方側に向かって撓んだ状態となる撓み変形が問題となることがあった。そして、昇降バーは、板状の試料を搭載してそれを支持する場合、さらに試料の重みが加わって、上述の撓み変形が助長されることがあった。   That is, in the stage described in Patent Document 2 described above, each of the plurality of lift bars is supported by the support mechanism of the lift mechanism at the end portion. Therefore, in the lift bar, bending deformation that becomes a state of being bent downward while being supported by the support mechanism may be a problem. When the plate-like sample is mounted and supported by the lifting bar, the weight of the sample is further added, and the above-described bending deformation may be promoted.

その結果、昇降バーに搭載された板状の試料が、昇降バーと同様に撓み変形して、最終製品となったときの悪影響が懸念される場合があった。   As a result, the plate-like sample mounted on the lifting bar may be bent and deformed in the same manner as the lifting bar, and there may be a concern about an adverse effect when it becomes a final product.

また、昇降バーを用いた従来のステージの場合、上述したように、下降位置にある昇降バーの収容スペースとなる凹所を保持面に設ける必要があるが、それを設けるに際し、昇降バーの撓み変形を考慮する必要がある。そして、ステージの凹所は、昇降バーの撓み変形が増大した場合、下降位置にある昇降バーが突出しないように、昇降バーの撓み変形の増大を考慮したより大きなサイズで形成することが求められる。その結果、ステージの剛性は低下し、保持面の平面精度の低下が懸念される。   In addition, in the case of a conventional stage using a lifting bar, as described above, it is necessary to provide a recess as a storage space for the lifting bar in the lowered position on the holding surface. It is necessary to consider deformation. Then, the recess of the stage is required to be formed in a larger size in consideration of the increase in the bending deformation of the lifting bar so that the lifting bar in the lowered position does not protrude when the bending deformation of the lifting bar increases. . As a result, the rigidity of the stage is lowered, and there is a concern that the planar accuracy of the holding surface is lowered.

また、昇降バーの剛性を向上させて撓みを軽減するように昇降バーの断面のサイズを変更した場合、その変更に対応して、凹所のサイズを変更させる必要がある。すなわち、昇降バーにおいて剛性を高めるため、断面のサイズを増大させた場合、その収容スペースである凹所では、昇降バーの断面サイズの増大に対応して、サイズを増大させる必要がある。その結果、ステージの剛性は低下し、保持面の平面精度の低下が懸念される。   Further, when the size of the cross section of the lifting bar is changed so as to reduce the bending by improving the rigidity of the lifting bar, it is necessary to change the size of the recess corresponding to the change. That is, when the size of the cross section is increased in order to increase the rigidity of the elevating bar, it is necessary to increase the size of the recess, which is the accommodation space, in accordance with the increase in the cross sectional size of the elevating bar. As a result, the rigidity of the stage is lowered, and there is a concern that the planar accuracy of the holding surface is lowered.

そのような懸念に対し、昇降バーの構成材料として、より高い剛性を示す材料を使用して対応することも可能である。例えば、昇降バーの構成に、従来用いられてきたアルミニウム材料に代えて高剛性のCFRP材を使用することが可能である。しかし、そうした材料を使用した場合、昇降バーの撓みを低減することができる一方で、ステージの製造コストが増大し、ステージの生産性を低下させる懸念があった。   It is possible to cope with such a concern by using a material exhibiting higher rigidity as a constituent material of the lifting bar. For example, it is possible to use a highly rigid CFRP material instead of the conventionally used aluminum material for the construction of the lifting bar. However, when such a material is used, the deflection of the lifting bar can be reduced, but there is a concern that the manufacturing cost of the stage increases and the productivity of the stage decreases.

さらに、昇降バーの支持機構において、昇降バーが伸びる方向に昇降バーの両方の端部を引っ張る等して、昇降バーの撓み変形を低減させる機構を設けることも可能である。しかし、そのような追加の機構を取り付けるためのスペースが必要となる他、ステージの製造コストも増大させて、その生産性を低下させる懸念があった。   Further, in the lifting bar support mechanism, it is possible to provide a mechanism for reducing the bending deformation of the lifting bar by pulling both ends of the lifting bar in the direction in which the lifting bar extends. However, in addition to requiring a space for mounting such an additional mechanism, there is a concern that the manufacturing cost of the stage is increased and the productivity is lowered.

すなわち、従来の昇降バーを用いたステージにおいては、低コスト且つ簡便に昇降バーの撓み変形による問題を低減し、昇降バーの収容スペースである凹所を大きく設けること等の煩雑さを回避するのは困難であった。   That is, in the stage using the conventional lifting bar, the problem due to the bending deformation of the lifting bar is reduced at low cost and easily, and the complexity of providing a large recess for the lifting bar is avoided. Was difficult.

そこで、ステージにおいては、板状の試料の昇降に昇降バーを用いる一方で、昇降バーの撓みによって生じる撓み変形の問題を簡便且つ低コストで低減する技術が求められている。   Therefore, in the stage, there is a need for a technique that can easily and inexpensively reduce the problem of bending deformation caused by bending of the lifting bar while using the lifting bar for lifting the plate-shaped sample.

本発明は、こうした課題に鑑みてなされたものである。   The present invention has been made in view of these problems.

すなわち、本発明の目的は、試料を昇降させるための昇降バーを有するとともに、その昇降バーの撓み変形を低減するステージを提供することにある。   That is, an object of the present invention is to provide a stage that has a raising / lowering bar for raising / lowering a sample and reduces bending deformation of the raising / lowering bar.

本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。   Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

本発明の第1の態様は、板状の試料を保持するステージであって、
前記試料を載置する保持面を備える支持台と、
前記保持面を横切って配置される複数の昇降バーと、
前記昇降バーを前記支持台内に収容するよう前記保持面に互いに並行して伸びるように設けられる複数の凹所と、
前記昇降バーを昇降可能に支持する支持機構と、
前記昇降バーを前記凹所から突出する上昇位置と、前記凹所に収容される下降位置との間で昇降するよう前記支持機構の動作を制御する昇降装置とを含み、
前記昇降バーは、前記支持機構の支持によって生じる撓みを相殺するように、予め撓み変形が付与された形状を有することを特徴とするステージに関する。
A first aspect of the present invention is a stage for holding a plate-shaped sample,
A support with a holding surface for placing the sample;
A plurality of elevating bars disposed across the holding surface;
A plurality of recesses provided to extend parallel to each other on the holding surface so as to accommodate the lifting bar in the support base;
A support mechanism for supporting the elevating bar so as to be movable up and down;
An elevating device that controls the operation of the support mechanism to elevate between the raised position where the elevating bar protrudes from the recess and the lowered position accommodated in the recess;
The elevating bar has a shape to which bending deformation is applied in advance so as to cancel the bending caused by the support of the support mechanism.

本発明の第1の態様において、前記支持台は、前記保持面に吸着口を有し、前記試料を吸着させて保持することが好ましい。   In the first aspect of the present invention, it is preferable that the support base has an adsorption port on the holding surface and adsorbs and holds the sample.

本発明の第1の態様において、前記凹所は、前記下降位置にある前記昇降バーが前記保持面から突出することなく前記支持台内に収容される大きさを有することが好ましい。   1st aspect of this invention WHEREIN: It is preferable that the said recess has a magnitude | size accommodated in the said support stand, without the said raising / lowering bar in the said lowered position protruding from the said holding surface.

本発明の第1の態様において、前記昇降バーは、その長手方向と直交する断面の形状が矩形となる棒状形状を有し、前記凹所は、該凹所が伸びる方向と直交する断面の形状が矩形となる形状を有することが好ましい。   1st aspect of this invention WHEREIN: The said raising / lowering bar has the rod-shaped shape from which the shape of the cross section orthogonal to the longitudinal direction becomes a rectangle, The said recessed part is the shape of the cross section orthogonal to the direction where this recessed part is extended. It is preferable to have a shape that becomes a rectangle.

本発明の第2の態様は、板状の試料を保持するステージであって、
前記被検査試料を載置する保持面を備える支持台と、
前記保持面を横切って配置される複数の昇降バーと、
前記昇降バーを前記保持面から突出することなく前記支持台内に収容するよう前記保持面に互いに並行して伸びるように設けられる複数の凹所と、
前記昇降バーが取り付けられて該昇降バーを昇降可能に支持する支持機構と、
前記昇降バーを前記凹所から突出する上昇位置と、前記凹所に収容される下降位置との間で昇降するように前記支持機構の動作を制御する昇降装置とを含み、
前記昇降バーは、予め上面側が凸状に反るよう撓み変形が付与された形状を有し、該凸状に反る上面側が上方側を向くように、前記支持機構に取り付けられることを特徴とするステージに関する。
A second aspect of the present invention is a stage for holding a plate-shaped sample,
A support with a holding surface for placing the sample to be inspected;
A plurality of elevating bars disposed across the holding surface;
A plurality of recesses provided to extend parallel to each other on the holding surface so as to be accommodated in the support base without protruding from the holding surface,
A support mechanism to which the elevating bar is attached and supports the elevating bar so as to be movable up and down;
An elevating device that controls the operation of the support mechanism so as to elevate between the ascending position where the elevating bar protrudes from the recess and the descending position accommodated in the recess;
The elevating bar has a shape that is deformed in advance so that the upper surface side warps in a convex shape, and is attached to the support mechanism so that the upper surface side that warps in the convex shape faces upward. Related to the stage.

本発明の第2の態様において、前記支持台は、前記保持面に吸着口を有し、前記試料を吸着させて保持することが好ましい。   In the second aspect of the present invention, it is preferable that the support base has an adsorption port on the holding surface and adsorbs and holds the sample.

本発明の第1の態様によれば、試料を昇降させるための昇降バーを有するとともに、その昇降バーの撓み変形を低減するステージが提供される。   According to the first aspect of the present invention, there is provided a stage that has an elevating bar for elevating and lowering a sample and that reduces bending deformation of the elevating bar.

また、本発明の第2の態様によれば、試料を昇降させるための昇降バーを有するとともに、その昇降バーの撓み変形を低減するステージが提供される。   Moreover, according to the 2nd aspect of this invention, while having a raising / lowering bar for raising / lowering a sample, the stage which reduces the bending deformation of the raising / lowering bar is provided.

本発明の実施形態のステージの一例を搬送ロボットとともに模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically an example of the stage of embodiment of this invention with a conveyance robot. 本発明の実施形態の一例であるステージの模式的な平面図である。It is a typical top view of the stage which is an example of the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態の一例であるステージの模式的な側面図である。It is a typical side view of the stage which is an example of the embodiment of the present invention. 昇降バーに生じる撓みを説明するステージの模式的な正面図である。It is a typical front view of the stage explaining the bending which arises in a raising / lowering bar. 本発明の実施形態の一例であるステージが有する昇降バーを模式的に示す正面図である。It is a front view which shows typically the raising / lowering bar which the stage which is an example of embodiment of this invention has. 本発明の実施形態の一例であるステージの要部構造を示す正面図である。It is a front view which shows the principal part structure of the stage which is an example of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の一例であるステージにおいて、昇降バーが下降位置にある状態を示す昇降バーと凹所と支持台の模式的な断面図である。In the stage which is an example of embodiment of the present invention, it is a typical sectional view of a raising / lowering bar, a recess, and a support stand which show a state where an raising / lowering bar exists in a lowered position. 図3に示されたステージのV−V線に沿って得られた断面図である。It is sectional drawing obtained along the VV line of the stage shown by FIG. 昇降バーが上昇位置にある状態を示す本発明の実施形態の一例であるステージの要部の模式的な正面図である。It is a typical front view of the principal part of the stage which is an example of the embodiment of the present invention which shows the state where a raising / lowering bar exists in a raised position. 昇降バーが下降位置にある状態を示す本発明の実施形態の一例であるステージの要部の模式的な正面図である。It is a typical front view of the important section of the stage which is an example of the embodiment of the present invention which shows the state where the raising / lowering bar is in the lowered position.

以下、本発明の実施形態のステージについて、適宜図面を用いて説明する。   Hereinafter, the stage of the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings as appropriate.

図1は、本発明の実施形態のステージの一例を搬送ロボットとともに模式的に示す平面図である。   FIG. 1 is a plan view schematically showing an example of a stage according to an embodiment of the present invention together with a transfer robot.

本発明の実施形態の一例であるステージ10は、図1に示すように、板状の試料12を載置してそれを保持するのに使用することができる。ここで、板状の試料12としては、表示素子の構成に用いられる液晶パネルや、表示素子または照明装置等の構成に用いられる有機ELパネルや、液晶パネルおよび有機ELパネル等の構成に用いられる基板等を挙げることができる。   The stage 10 which is an example of embodiment of this invention can be used for mounting and holding the plate-shaped sample 12, as shown in FIG. Here, the plate-like sample 12 is used for the configuration of a liquid crystal panel used for the configuration of a display element, an organic EL panel used for a configuration of a display element or a lighting device, a liquid crystal panel, an organic EL panel, and the like. A substrate etc. can be mentioned.

そして、ステージ10は、例えば、基板や液晶パネルや有機ELパネルのような試料12を検査するためのプローバ(図示されない)に組み込まれて使用することも可能である。図1は、搬送ロボット14との間で試料12の受け渡しを行う例を模式的に示している。   The stage 10 can be used by being incorporated into a prober (not shown) for inspecting the sample 12, such as a substrate, a liquid crystal panel, or an organic EL panel. FIG. 1 schematically shows an example in which the sample 12 is transferred to and from the transfer robot 14.

図1に示すように、搬送ロボット14は、公知の構造を有し、ベース16上をステージ10に向かう方向およびステージ10から離れる方向の両方向に移動可能な可動台18と、可動台18上に設置された支柱20に同軸的に支持され、軸線の周りに回転動作し、またその軸線に沿って支柱20に関して伸縮動作する軸部材22とを備える。この回転および伸縮動作が可能な軸部材22には、板状の試料12を載せるためのフォーク状のロボットアーム24が固着されている。   As shown in FIG. 1, the transfer robot 14 has a known structure and is movable on the base 16 in both directions toward the stage 10 and away from the stage 10. A shaft member 22 that is coaxially supported by the installed support column 20 and that rotates around the axis and expands and contracts with respect to the support column 20 along the axis is provided. A fork-shaped robot arm 24 for mounting the plate-shaped sample 12 is fixed to the shaft member 22 capable of rotating and extending and contracting.

搬送ロボット14は、例えば、図示されないカセットから、そのカセットに収容された基板や液晶パネル等の板状の試料12をロボットアーム24上に受け取ると、軸部材22を伸長させた状態でロボットアーム24がステージ10上に向けて移動するように、可動台18を作動させる。その後、軸部材22が収縮動作され、試料12がステージ10上に移されると、この収縮状態でロボットアーム24がステージ10から離れるように可動台18が作動される。   For example, when the transfer robot 14 receives a plate-like sample 12 such as a substrate or a liquid crystal panel accommodated in the cassette from a cassette (not shown) on the robot arm 24, the robot arm 24 is extended with the shaft member 22 extended. The movable table 18 is operated so that moves toward the stage 10. Thereafter, when the shaft member 22 is contracted and the sample 12 is moved onto the stage 10, the movable base 18 is operated so that the robot arm 24 moves away from the stage 10 in this contracted state.

また、ステージ10上の試料12の電気的な検査または視覚的な検査が終了すると、搬送ロボット14は、軸部材22を収縮させた状態でロボットアーム24がステージ10上の試料12の下に挿入されるように、可動台18をステージ10へ向けて作動させる。その後、軸部材22が伸長動作されることにより、ステージ10上に保持された試料12がロボットアーム24上に移されると、搬送ロボット14は、この伸長状態でロボットアーム24がステージ10から離れるように、可動台18を作動させる。この搬送ロボット14の動作によって、試料12がステージ10から搬送ロボット14を経て上述したカセットに移される。   When the electrical inspection or visual inspection of the sample 12 on the stage 10 is completed, the transfer robot 14 inserts the robot arm 24 under the sample 12 on the stage 10 with the shaft member 22 contracted. As described above, the movable base 18 is operated toward the stage 10. Thereafter, when the sample 12 held on the stage 10 is moved onto the robot arm 24 by extending the shaft member 22, the transfer robot 14 causes the robot arm 24 to move away from the stage 10 in this extended state. Then, the movable base 18 is operated. By the operation of the transfer robot 14, the sample 12 is transferred from the stage 10 to the cassette described above via the transfer robot 14.

搬送ロボット14との間で試料12の受け渡しを行うステージ10は、板状の試料12を保持する保持面26aを備えた支持台26を有する。ステージ10の支持台26は、図1に示される例では、公知のXYZθ移動スタンド28上に載置されている。したがって、支持台26は、従来におけると同様に垂直軸であるZ軸の周りに回転可能であり、またZ軸に直角なXY面上でそれぞれX軸およびY軸に沿って移動可能である。   The stage 10 that delivers the sample 12 to and from the transfer robot 14 includes a support base 26 that includes a holding surface 26 a that holds the plate-like sample 12. In the example shown in FIG. 1, the support base 26 of the stage 10 is placed on a known XYZθ moving stand 28. Therefore, the support base 26 can rotate around the Z axis, which is a vertical axis, as in the prior art, and can move along the X axis and the Y axis on the XY plane perpendicular to the Z axis.

図2は、本発明の実施形態の一例であるステージの模式的な平面図である。   FIG. 2 is a schematic plan view of a stage which is an example of an embodiment of the present invention.

本発明の実施形態の一例であるステージ10は、その支持台26の保持面26aで、図1の搬送ロボット14から受け渡された板状の試料12(図2中では図示されない)を保持面26aに載置して保持する。この保持面26aは、図1および図2に示す例では、XY平面上で長辺および短辺を有する矩形形状を有する。そして、大型で大面積の試料12の載置も可能となるように、長辺の寸法は、例えば、1m〜4mとすることができ、短辺の寸法は、例えば、0.8m〜3mとすることができる。   The stage 10, which is an example of an embodiment of the present invention, holds the plate-like sample 12 (not shown in FIG. 2) delivered from the transfer robot 14 of FIG. 26a is placed and held. In the example shown in FIGS. 1 and 2, the holding surface 26a has a rectangular shape having a long side and a short side on the XY plane. And the dimension of the long side can be set to 1 m to 4 m, for example, and the dimension of the short side can be set to 0.8 m to 3 m, for example, so that the large sample 12 having a large area can be placed. can do.

また、図2に明確に示されるように、支持台26の保持面26aには、その長辺に沿って伸長し、その両端が支持台26の両側に開放する複数の細溝30aが形成されている。また、保持面26aには、保持面26a上で矩形状となる吸着口30bが形成されている。   In addition, as clearly shown in FIG. 2, the holding surface 26 a of the support base 26 is formed with a plurality of narrow grooves 30 a that extend along the long side and open at both ends of the support base 26 on both sides. ing. The holding surface 26a is formed with a suction port 30b having a rectangular shape on the holding surface 26a.

吸着口30bには、保持面26aに板状の試料12を載置して保持するときに、試料12を吸着するための負圧が負圧源(図示されない)から導入される。したがって、ステージ10の支持台26は、保持面26aに吸着口30bが形成されて負圧開口が開放するように構成されており、板状の試料12を保持面26aに吸着させて保持することができる。   When the plate-like sample 12 is placed and held on the holding surface 26a, a negative pressure for adsorbing the sample 12 is introduced into the suction port 30b from a negative pressure source (not shown). Therefore, the support base 26 of the stage 10 is configured such that the suction port 30b is formed in the holding surface 26a and the negative pressure opening is opened, and the plate-like sample 12 is sucked and held on the holding surface 26a. Can do.

保持面26aに形成された細溝30aは、帯電防止用の溝である。細溝30aは、試料12を保持面26aから引き離すとき、試料12と保持面26aとの間に空気を取り込むことにより、試料12と保持面26aと間に生じる空気流を弱める効果を示す。この細溝30aの効果によって、試料12と保持面26aと間の空気流によって試料12に導入される静電気の発生を抑制することができる。   The narrow groove 30a formed in the holding surface 26a is an antistatic groove. The narrow groove 30a has an effect of weakening an air flow generated between the sample 12 and the holding surface 26a by taking air between the sample 12 and the holding surface 26a when the sample 12 is pulled away from the holding surface 26a. Due to the effect of the narrow groove 30a, generation of static electricity introduced into the sample 12 by the air flow between the sample 12 and the holding surface 26a can be suppressed.

図3は、本発明の実施形態の一例であるステージの模式的な側面図である。   FIG. 3 is a schematic side view of a stage which is an example of an embodiment of the present invention.

図1〜図3に示すように、支持台26の保持面26aには、その長辺に沿って直線状に伸長する複数の凹所32が形成されている。複数の凹所32は、保持面26aにおいて、互いに並行して伸びるように設けられている。特に図3に示されているように、各凹所32は、支持台26の両側の端に達し、その両側で開放する。したがって、凹所32は、保持面26aの長辺の寸法に対応して、例えば、1m〜4mの長さで形成される。   As shown in FIGS. 1 to 3, the holding surface 26 a of the support base 26 is formed with a plurality of recesses 32 extending linearly along its long side. The plurality of recesses 32 are provided on the holding surface 26a so as to extend in parallel with each other. As shown particularly in FIG. 3, each recess 32 reaches the ends on both sides of the support base 26 and opens on both sides. Accordingly, the recess 32 is formed with a length of 1 m to 4 m, for example, corresponding to the dimension of the long side of the holding surface 26a.

そして、各凹所32に対応して、保持面26aをその長辺方向に横切るように、複数の昇降バー34が配置されている。昇降バー34は、板状の試料12を載置して支持するための構成部材である。昇降バー34は、例えば、その長手方向と直交する断面の形状が矩形となる棒状形状を有することができる。そして、昇降バー34は、例えば、アルミニウム材を用いて構成することができる。   A plurality of elevating bars 34 are arranged so as to cross the holding surface 26 a in the long side direction corresponding to the respective recesses 32. The elevating bar 34 is a constituent member for placing and supporting the plate-like sample 12. The elevating bar 34 can have, for example, a bar shape in which the shape of the cross section perpendicular to the longitudinal direction is a rectangle. And the raising / lowering bar 34 can be comprised using an aluminum material, for example.

昇降バー34は、支持台26の保持面26aから離れた上方、すなわち、上昇位置で板状の試料12の受け取りや引き渡しを行うのに用いられ、板状の試料12の受け渡しに際して、試料12に対して線状の接触部による支持を可能とする。そして、昇降バー34は、板状の試料12に生じる歪力を低減しながら、保持面26aと離間した上昇位置で、板状の試料12の受け取りや引き渡しを行うことができる。   The elevating bar 34 is used to receive and deliver the plate-like sample 12 at an upper position away from the holding surface 26 a of the support base 26, that is, at the raised position. When the plate-like sample 12 is delivered, On the other hand, it can be supported by a linear contact portion. And the raising / lowering bar 34 can receive and deliver the plate-shaped sample 12 in the raised position spaced apart from the holding surface 26a, reducing the distortion force which arises in the plate-shaped sample 12. FIG.

昇降バー34は、長手方向の寸法が、保持面26aの長辺と同じであるか、それより若干長い寸法であることが好ましい。したがって、昇降バー34の長手方向の寸法は、例えば、1mより若干長い寸法から4mより若干長い寸法であることが好ましい。昇降バー34がそのような長さ寸法を有することにより、後述するように、支持台26の両側の側方において、昇降バー34の両方の端部を対応する各支持機構36に取り付けることが容易となる。そして、昇降バー34を支持機構36によって容易に支持することができる。   The lifting bar 34 preferably has a longitudinal dimension that is the same as or slightly longer than the long side of the holding surface 26a. Therefore, it is preferable that the longitudinal dimension of the elevating bar 34 is, for example, a dimension slightly longer than 1 m to a dimension slightly longer than 4 m. Since the elevating bar 34 has such a length dimension, it is easy to attach both ends of the elevating bar 34 to the corresponding support mechanisms 36 on both sides of the support base 26 as will be described later. It becomes. The lifting bar 34 can be easily supported by the support mechanism 36.

図2および図3に示すように、支持台26の両側には、昇降バー34の支持機構36および昇降装置38がそれぞれ配置されている。支持機構36は、図2および図3に示されるように、支持台26の側方で支持台26に沿ってほぼ水平に配置された梁部材40を有する。尚、支持機構36は、梁部材40をZ軸に沿って垂直方向に案内するための複数のガイド装置(図示されない)を有することができる。支持台26の両側に配置された一対の梁部材40は、そのガイド装置により、支持台26の両側で、垂直方向へ移動可能に支持台26に保持されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the support mechanism 36 and the lifting device 38 of the lifting bar 34 are respectively disposed on both sides of the support base 26. As shown in FIGS. 2 and 3, the support mechanism 36 includes a beam member 40 disposed substantially horizontally along the support base 26 on the side of the support base 26. The support mechanism 36 can have a plurality of guide devices (not shown) for guiding the beam member 40 in the vertical direction along the Z axis. The pair of beam members 40 arranged on both sides of the support table 26 are held by the support table 26 so as to be movable in the vertical direction on both sides of the support table 26 by the guide device.

支持機構36は、さらに、図2および図3に示すように、各昇降バー34を梁部材40に結合するため、各昇降バー34に対応して各昇降バー34を支持する複数の支柱54を備える。各昇降バー34の端部は、対応する各支柱54の上端部に結合されている。そして、図3に示されるように、各支柱54の下端部は、梁部材40に結合されている。したがって、ステージ10において、各昇降バー34は、対応する支柱54および梁部材40を介して、支持機構36に取り付けられて支持されるように構成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the support mechanism 36 further includes a plurality of columns 54 that support the lift bars 34 corresponding to the lift bars 34 in order to couple the lift bars 34 to the beam members 40. Prepare. The end of each elevating bar 34 is coupled to the upper end of each corresponding column 54. As shown in FIG. 3, the lower end portion of each column 54 is coupled to the beam member 40. Therefore, in the stage 10, each elevating bar 34 is configured to be supported by being attached to the support mechanism 36 via the corresponding column 54 and the beam member 40.

尚、本発明の実施形態の一例であるステージ10においては、支持機構36の各支柱54の上端部に、圧縮コイルスプリング等を用いた衝撃緩和機構(図示されない)を設けることができる。そのような衝撃緩和機構を有する場合、各昇降バー34の端部は、各衝撃緩和機構を介して対応する支柱54の上端部に弾性的に結合される。   In the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, an impact relaxation mechanism (not shown) using a compression coil spring or the like can be provided at the upper end portion of each support 54 of the support mechanism 36. In the case of having such an impact mitigation mechanism, the end portion of each lifting bar 34 is elastically coupled to the upper end portion of the corresponding column 54 via each impact mitigation mechanism.

また、支持機構36においては、図3に示されるように、各支柱54が、その下部に設けられた高さ調整機構72を介して対応する梁部材40に結合され、梁部材40に支持されるように構成することが可能である。この高さ調整機構72による支柱54の高さ位置の調整により、各支柱54に支持された昇降バー34の傾斜や高さ位置のばらつきを修正することができ、昇降バー34の上面34aを支持台26の保持面26aに平行な仮想平面に一致させることができる。そして、昇降バー34が安定して板状の試料を載置できるようにすることができる。   Further, in the support mechanism 36, as shown in FIG. 3, each column 54 is coupled to the corresponding beam member 40 via a height adjustment mechanism 72 provided at the lower portion thereof, and is supported by the beam member 40. It is possible to configure so that. By adjusting the height position of the column 54 by the height adjusting mechanism 72, the inclination of the elevating bar 34 supported by each column 54 and variations in the height position can be corrected, and the upper surface 34a of the elevating bar 34 is supported. It can be made to correspond to a virtual plane parallel to the holding surface 26a of the table 26. And the raising / lowering bar 34 can make it possible to mount a plate-shaped sample stably.

以上のように、ステージ10において、昇降バー34は、支柱54および梁部材40等を介して支持機構36に取り付けられて支持される。このとき、昇降バー34は、上述した長さ寸法を有しており、従来から問題とされてきた自重による撓みの発生が懸念される。   As described above, in the stage 10, the elevating bar 34 is attached to and supported by the support mechanism 36 via the support column 54 and the beam member 40. At this time, the raising / lowering bar 34 has the above-described length dimension, and there is a concern about the occurrence of bending due to its own weight, which has been a problem in the past.

図4は、昇降バーに生じる撓みを説明するステージの模式的な正面図である。   FIG. 4 is a schematic front view of the stage for explaining the bending that occurs in the lifting bar.

図4では、上面が試料の保持面26aとなる支持台26と、支持台26の両側に設けられた支持機構36と、支持機構36に取り付けられて支持される昇降バー34が模式的に示されている。図4に示すように、昇降バー34は、両方の端部がそれぞれ、支持機構36の対応する支柱54に結合される。そして、その支柱54が高さ調整機構72を介して支持機構36の梁部材40に結合されることで、昇降バー34は支持機構36に取り付けられている。   FIG. 4 schematically shows a support base 26 whose upper surface serves as a sample holding surface 26a, a support mechanism 36 provided on both sides of the support base 26, and a lift bar 34 attached to and supported by the support mechanism 36. Has been. As shown in FIG. 4, the lifting bar 34 is coupled at both ends to the corresponding column 54 of the support mechanism 36. The up / down bar 34 is attached to the support mechanism 36 by the support 54 being coupled to the beam member 40 of the support mechanism 36 via the height adjustment mechanism 72.

そして、昇降バー34は予め、例えば、従来技術と同様に、撓みや反りがなく真っすぐに伸長する棒状の部材として形成することが可能である。その場合、図4に示すように、支持機構36に取り付けられた状態の昇降バー34は、両方の端部が支持機構36によって支持されているため、自重によって、垂直方向(Z方向)の下方側に凸状となる撓みが発生する。尚、図4のステージ10では、昇降バー34が保持面26aの上方の上昇位置にある例が示されるが、その自重による撓みは、昇降バー34が凹所32に収容されて下降位置にある場合にも同様に発生する。すなわち、昇降バー34においては、支持機構36に取り付けられた状態であれば、上昇位置にあっても下降位置にあっても、自重による撓みが発生する。   And the raising / lowering bar | burr 34 can be previously formed as a rod-shaped member which does not bend or warp and extends straight, for example, as in the prior art. In this case, as shown in FIG. 4, the lifting bar 34 attached to the support mechanism 36 is supported by the support mechanism 36 at both ends, and therefore is lowered in the vertical direction (Z direction) by its own weight. The side becomes convex. In the stage 10 of FIG. 4, an example is shown in which the elevating bar 34 is in the raised position above the holding surface 26a, but the bending due to its own weight is in the lowered position with the elevating bar 34 being accommodated in the recess 32. This also occurs in some cases. In other words, the lift bar 34 is bent by its own weight when it is attached to the support mechanism 36 regardless of whether it is in the raised position or the lowered position.

図4に示すような昇降バー34における撓みの発生は、以下のような問題を生じさせることになる。   Generation | occurrence | production of the bending in the raising / lowering bar 34 as shown in FIG. 4 will cause the following problems.

例えば、後述するように、昇降バー34は、支持機構36に取り付けられて支持がなされ、その状態で、図3に示した昇降装置38(図4には図示されない)によって昇降動作が制御される。そして、昇降動作における下降位置にある昇降バー34は、保持面26aから突出することがないように凹所32に収容される。   For example, as will be described later, the lifting bar 34 is attached to and supported by the support mechanism 36, and in that state, the lifting operation is controlled by the lifting device 38 (not shown in FIG. 4) shown in FIG. . And the raising / lowering bar 34 in the lowered position in the raising / lowering operation is accommodated in the recess 32 so as not to protrude from the holding surface 26a.

したがって、ステージ10において、上述の凹所32を支持台26の保持面26aに設けるときには、下降位置にある昇降バー34の収容スペースとして十分に機能するように、昇降バー34の撓み変形を考慮する必要がある。そして、昇降バー34の撓み変形が増大した場合、ステージ10の凹所32は、下降位置にある昇降バー34が突出しないように、昇降バー34の撓み変形の増大を考慮した、より大きなサイズで形成されることが求められる。その結果、ステージ10の支持台26の剛性は低下し、保持面の平面精度が低下する懸念が生じてしまう。   Therefore, in the stage 10, when the above-described recess 32 is provided on the holding surface 26 a of the support base 26, the bending deformation of the elevating bar 34 is considered so as to sufficiently function as a storage space for the elevating bar 34 in the lowered position. There is a need. And when the bending deformation of the raising / lowering bar 34 increases, the recess 32 of the stage 10 is a larger size considering the increase in the bending deformation of the raising / lowering bar 34 so that the raising / lowering bar 34 in the lowered position does not protrude. It is required to be formed. As a result, the rigidity of the support base 26 of the stage 10 is lowered, and there is a concern that the planar accuracy of the holding surface is lowered.

そこで、本発明の実施形態の一例であるステージ10においては、昇降バー34として、支持機構36の支持によって生じる撓みを相殺するように予め撓み変形が付与された形状を有するものが用いられる。   Therefore, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, the lifting bar 34 having a shape to which bending deformation is given in advance so as to cancel the bending caused by the support of the support mechanism 36 is used.

図5は、本発明の実施形態の一例であるステージが有する昇降バーを模式的に示す正面図である。   FIG. 5 is a front view schematically showing a lift bar included in a stage which is an example of an embodiment of the present invention.

本発明の実施形態の一例であるステージ10において、昇降バー34は、図5に示すように、一つの面の側、すなわち、図の上方側(Z軸方向上方側)である上面34aの側が凸状に反るように、予め、撓み変形が付与された形状を有する。   In the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, as shown in FIG. It has a shape to which bending deformation is given in advance so as to warp in a convex shape.

図5に示す、本発明の実施形態の一例であるステージ10の昇降バー34は、撓みや反りがなく真っすぐに伸長する棒状の部材として形成した後、機械加工または曲げ加工を施すことにより形成することができる。   The lift bar 34 of the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention shown in FIG. 5 is formed by performing machining or bending after being formed as a rod-like member that does not bend or warp and extends straight. be able to.

尚、各昇降バー34の端部には、図5に示すように、昇降バー34の上面34aに板状の試料(図示されない)が載ったとき、その試料の縁に当接して試料が昇降バー34の端部からはみ出すことを防止する肩部34bが形成されている。さらに、昇降バー34の上面34aの肩部34bに近接する領域には、試料の昇降バー34上での傾きによって試料の縁部が昇降バー34の上面34aに当接することを防止するための凹状の逃げ溝70が形成されている。この肩部34bと逃げ溝70については、昇降バー34を示す以降の図面において図示省略されることがある。   As shown in FIG. 5, when a plate-like sample (not shown) is placed on the upper surface 34a of the elevating bar 34 at the end of each elevating bar 34, the sample moves up and down in contact with the edge of the sample. A shoulder 34b is formed to prevent the bar 34 from protruding from the end. Further, in a region close to the shoulder portion 34b of the upper surface 34a of the lifting bar 34, a concave shape for preventing the edge of the sample from coming into contact with the upper surface 34a of the lifting bar 34 due to the inclination of the sample on the lifting bar 34. The relief groove 70 is formed. The shoulder 34b and the escape groove 70 may be omitted in the subsequent drawings showing the lifting bar 34.

図6は、本発明の実施形態の一例であるステージの要部構造を示す正面図である。   FIG. 6 is a front view showing a main structure of a stage which is an example of the embodiment of the present invention.

図6では、図1等に示したステージ10における、保持面26aを上部側に有する支持台26と、保持面26aの長辺に沿って直線状に伸長する凹所32と、保持面26aの長辺方向に沿って配置される昇降バー34と、昇降バー34を昇降可能に支持する支持機構36とが示されている。支持機構36は、昇降バー34に上部で結合して昇降バー34を支持する支柱54と、支柱54が高さ調整機構72を介して結合される梁部材40を含んで構成される。そして、図6に示すステージ10では、昇降バー34が支持機構36に取り付けられて、保持面26aの上方である上昇位置にある。   In FIG. 6, in the stage 10 shown in FIG. 1 and the like, the support base 26 having the holding surface 26 a on the upper side, the recess 32 extending linearly along the long side of the holding surface 26 a, and the holding surface 26 a An elevating bar 34 disposed along the long side direction and a support mechanism 36 that supports the elevating bar 34 so as to be movable up and down are shown. The support mechanism 36 includes a support 54 that is coupled to the elevating bar 34 at an upper portion to support the elevating bar 34, and a beam member 40 that is connected to the support 54 via a height adjusting mechanism 72. And in the stage 10 shown in FIG. 6, the raising / lowering bar 34 is attached to the support mechanism 36, and exists in the raise position which is the upper direction of the holding surface 26a.

図6に模式的に示されるように、昇降バー34は、その凸状に反る上面34a側がZ軸方向の上方側(図の上方側)、すなわち、試料(図示されない)を載置する側を向くように、支持機構36に取り付けられる。支持機構36に取り付けられた状態の昇降バー34は、上述したように、両方の端部が、支持機構36の各支柱54によって支持されている。その結果、昇降バー34では、自重によって、図の下方側に向かって凸となるような撓みが発生する。   As schematically shown in FIG. 6, the up-and-down bar 34 has a convex upper surface 34 a side on the upper side in the Z-axis direction (upper side in the figure), that is, a side on which a sample (not shown) is placed. It attaches to the support mechanism 36 so that it may face. As described above, both ends of the lifting bar 34 attached to the support mechanism 36 are supported by the columns 54 of the support mechanism 36. As a result, the elevating bar 34 is bent so as to protrude toward the lower side of the figure due to its own weight.

しかしながら、本発明の実施形態の一例であるステージ10においては、予想される昇降バー34の撓みに対し、上述したような事前の対策が施されている。すなわち、図5に示され、また、図6に点線で模式的に示されたように、昇降バー34は、支持機構36の支柱54による両端の支持によって生じる撓みを相殺するように、予め撓み変形が付与された形状を有している。具体的には、昇降バー34は、支持機構36への取り付けによって生じる撓み、すなわち、図の下方側に凸となるような撓みに対して、その反対方向に凸となるような歪み変形が予め付与されて構成されている。   However, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, the above-described prior measures are taken against the expected bending of the lift bar 34. That is, as shown in FIG. 5 and schematically shown by a dotted line in FIG. 6, the elevating bar 34 is bent in advance so as to cancel out the bending caused by the support of both ends by the pillars 54 of the support mechanism 36. It has a shape with deformation. Specifically, the elevating bar 34 is previously subjected to distortion caused by being attached to the support mechanism 36, that is, deforming to be convex in the opposite direction with respect to the bending to be convex downward in the figure. Granted and configured.

したがって、本発明の実施形態の一例であるステージ10では、図6に示すように、昇降バー34が支持機構36に取り付けられた状態で発生するその撓みは、少なくとも一部が、その昇降バー34に予め付与されていた撓み変形によって相殺される。   Therefore, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, as shown in FIG. 6, at least a part of the bending that occurs in a state where the lifting bar 34 is attached to the support mechanism 36 is the lifting bar 34. It is canceled by the bending deformation previously applied to.

その結果、昇降バー34においては、撓みの発生によって、予め付与されていた上述の撓み変形が減じられる。そして、昇降バー34は、支持機構36に支持された状態で、図6に示すように、その直線性が向上し、真っすぐに伸長する直線状の形状により近くなる。そして、昇降バー34と保持面26aとの間の平行性はより向上されて、より平行に近い状態となる。したがって、本発明の実施形態の一例であるステージ10は、昇降バー34の上面34aに板状の試料を載置するに際し、試料に生じる撓み変形を低減することができる。   As a result, in the raising / lowering bar 34, the above-mentioned bending deformation | transformation provided previously is reduced by generation | occurrence | production of bending. As shown in FIG. 6, the lift bar 34 is supported by the support mechanism 36, and its linearity is improved, and the lift bar 34 becomes closer to a straight shape that extends straight. And the parallelism between the raising / lowering bar 34 and the holding surface 26a is improved more, and it will be in the state nearer parallel. Therefore, the stage 10, which is an example of an embodiment of the present invention, can reduce bending deformation that occurs in the sample when the plate-like sample is placed on the upper surface 34 a of the elevating bar 34.

また、本発明の実施形態の一例であるステージ10において、支持台26の保持面26aの凹所32は、上述したように、下降位置にある昇降バー34の収容スペースとなって、昇降バー34の撓み変形を考慮したサイズでの形成が求められる。したがって、本発明の実施形態の一例であるステージ10では、凹所32は、昇降バー34の歪み変形が考慮されるが、上述のように昇降バー34の直線性が向上されてその撓み変形がより小さくなっているため、従来の昇降バーを用いた技術に比べて、より小さいサイズで形成することができる。その結果、ステージ10の支持台26の剛性の低下を低減することができ、保持面26aの平面精度の低下を抑えることができる。   Moreover, in the stage 10 which is an example of embodiment of this invention, the recessed part 32 of the holding surface 26a of the support stand 26 becomes an accommodation space of the raising / lowering bar 34 in a lowered position, as mentioned above, and the raising / lowering bar 34 Therefore, formation with a size that takes into account the flexural deformation is required. Therefore, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, the recess 32 takes into account the deformation of the lifting bar 34, but as described above, the linearity of the lifting bar 34 is improved and its bending deformation is reduced. Since it is smaller, it can be formed in a smaller size as compared with the conventional technique using a lifting bar. As a result, a decrease in rigidity of the support base 26 of the stage 10 can be reduced, and a decrease in planar accuracy of the holding surface 26a can be suppressed.

このとき、本発明の実施形態の一例であるステージ10においては、昇降バー34に予め付与される撓み変形について、以下の例示が可能である。   At this time, in the stage 10 which is an example of embodiment of this invention, the following illustration is possible about the bending deformation | transformation previously given to the raising / lowering bar 34. FIG.

図7は、本発明の実施形態の一例であるステージにおいて、昇降バーが下降位置にある状態を示す昇降バーと凹所と支持台の模式的な断面図である。   FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a lift bar, a recess, and a support base showing a state where the lift bar is in a lowered position in a stage that is an example of an embodiment of the present invention.

昇降バー34は、例えば、アルミニウム材料から形成することができる。そして、図7に示すように、本発明の実施形態の一例であるステージ10において、昇降バー34は、その長手方向と直交する断面の形状が矩形となる棒状形状を有することができる。その場合、昇降バー34においては、載置する試料のサイズを考慮して、その長さを1310mmとすることができ、その矩形断面の高さ寸法(H)を10mm、幅寸法(W)を5mmとすることができる。   The raising / lowering bar 34 can be formed from an aluminum material, for example. And in the stage 10 which is an example of embodiment of this invention as shown in FIG. 7, the raising / lowering bar | burr 34 can have a rod-shaped shape from which the shape of the cross section orthogonal to the longitudinal direction becomes a rectangle. In that case, in the lifting bar 34, the length can be set to 1310 mm in consideration of the size of the sample to be placed, the height dimension (H) of the rectangular cross section is 10 mm, and the width dimension (W) is It can be 5 mm.

そして、図7に示すように、本発明の実施形態の一例であるステージ10では、昇降バー34が下降位置にあるとき、昇降バー34の上面34aをZ軸方向上方に向けながら、支持台26の保持面26aに形成された凹所32に収容される。   As shown in FIG. 7, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, when the lifting bar 34 is in the lowered position, the upper surface 34 a of the lifting bar 34 is directed upward in the Z-axis direction, and the support base 26. Is accommodated in a recess 32 formed in the holding surface 26a.

このとき仮に、上記の形状と寸法を備えた昇降バー34について、撓み変形が予め付与されていない真っすぐな直線状の形状を有する場合を想定する。その場合、図4に示すように、その両方の端部を支持機構36の支柱54で支持された状態で自重によって発生する最大の撓みは、図の下方側に向かって、約2mmとなる。したがって、そのような昇降バー34が支持機構36に支持された状態での撓み変形は、最大で、図の下方側に向かって、約2mmとなる。   At this time, it is assumed that the elevating bar 34 having the above shape and dimensions has a straight linear shape to which no bending deformation is previously applied. In that case, as shown in FIG. 4, the maximum deflection generated by its own weight in a state where both ends thereof are supported by the columns 54 of the support mechanism 36 is about 2 mm toward the lower side of the figure. Therefore, the maximum bending deformation in a state where such a lifting bar 34 is supported by the support mechanism 36 is about 2 mm toward the lower side of the figure.

それに対し、昇降バー34を用いて板状の試料の受け渡しを行うステージ10においては、昇降バー34の自重による最大の撓み変形は1.0mm以下とすることが好ましく、0.5mm以下とすることがより好ましい。すなわち、本発明の実施形態の一例であるステージ10において、支持機構36に取り付けられた状態の昇降バー34の撓み変形は、許容範囲が1.0mm以下、より好ましくは0.5mm以下である。   On the other hand, in the stage 10 that transfers the plate-shaped sample using the lifting bar 34, the maximum bending deformation due to the weight of the lifting bar 34 is preferably 1.0 mm or less, and 0.5 mm or less. Is more preferable. That is, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, the allowable deformation of the lifting bar 34 attached to the support mechanism 36 has an allowable range of 1.0 mm or less, more preferably 0.5 mm or less.

尚、昇降バー34の自重による撓み変形が0mmであるとき、支持機構36に取り付けられた状態の昇降バー34と支持台26の保持面26aとの間を、平行にすることができる。   When the bending deformation due to the weight of the lifting bar 34 is 0 mm, the space between the lifting bar 34 attached to the support mechanism 36 and the holding surface 26a of the support base 26 can be made parallel.

したがって、支持機構36に取り付けられる前の昇降バー34に予め付与される撓み変形は、昇降バー34の長さが1310mmである場合、1.0mm以上3.0mm以下であることが好ましい。すなわち、長さが1310mmの昇降バー34は、上面34a側が凸状に反るよう、1.0mm〜3.0mmの撓み変形が事前に付与された形状を有し、その凸状に反る上面34a側が上方側を向くように、支持機構36に取り付けられることが好ましい。このようにすることで、ステージ10においては、支持機構36で支持される昇降バー34の自重による最大の撓み変形を1.0mm以下、より好ましくは0.5mm以下とすることが可能となる。   Therefore, when the length of the lifting / lowering bar 34 is 1310 mm, the bending deformation previously applied to the lifting / lowering bar 34 before being attached to the support mechanism 36 is preferably 1.0 mm or more and 3.0 mm or less. That is, the elevating bar 34 having a length of 1310 mm has a shape to which bending deformation of 1.0 mm to 3.0 mm is applied in advance so that the upper surface 34 a side is warped in a convex shape, and the upper surface warping the convex shape. It is preferable to attach to the support mechanism 36 so that the 34a side faces the upper side. By doing in this way, in the stage 10, it becomes possible to make the largest bending deformation by the dead weight of the raising / lowering bar 34 supported by the support mechanism 36 into 1.0 mm or less, More preferably, 0.5 mm or less.

ここで、本発明の実施形態の一例であるステージ10において、昇降バー34は、載置する試料のサイズに対応し、具体的には、保持面26aの長辺の寸法にしたがって、例えば、1m〜4mの長さで形成される。そして、昇降バー34は、その長手方向と直交する矩形の断面形状の高さ寸法(H)および幅寸法(W)が、昇降バー34の剛性を考慮したうえで、昇降バー34の長さ寸法にしたがって上述の値から若干増減された値が設定される。   Here, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, the lifting bar 34 corresponds to the size of the sample to be placed. Specifically, according to the long side dimension of the holding surface 26a, for example, 1 m It is formed with a length of ˜4 m. The height and height dimensions (H) and width (W) of the rectangular cross-section orthogonal to the longitudinal direction of the lift bar 34 are determined in consideration of the rigidity of the lift bar 34 and the length dimension of the lift bar 34. Accordingly, a value slightly increased or decreased from the above value is set.

しかしながら、ステージ10においては、支持機構36で支持される昇降バー34の自重による最大の撓み変形は、上述したように、例えば、1.0mm以下であることが好ましく、0.5mm以下であることがより好ましい。   However, in the stage 10, the maximum bending deformation due to the weight of the lifting bar 34 supported by the support mechanism 36 is preferably 1.0 mm or less, for example, 0.5 mm or less, as described above. Is more preferable.

したがって、昇降バー34の材質、長さ寸法、断面の形状、断面形状における高さ寸法(H)および幅寸法(W)を考慮し、昇降バー34が真っすぐに伸長する直線状の形状を有する場合を想定して、昇降バー34が両方の端部で支持された場合に生じる撓み変形の量をシミュレーションによって解析・計算し、または、実験・実測によって求めることが好ましい。そのうえで、昇降バー34に予め付与される撓み変形の量を決めることが好ましい。   Accordingly, in consideration of the material, length dimension, cross-sectional shape, height dimension (H) and width dimension (W) of the cross-sectional shape of the lift bar 34, the lift bar 34 has a linear shape that extends straight. Therefore, it is preferable to analyze / calculate the amount of bending deformation that occurs when the lifting bar 34 is supported at both ends, or to obtain it by experiment / measurement. In addition, it is preferable to determine the amount of flexural deformation previously applied to the lift bar 34.

その結果、本発明の実施形態の一例であるステージ10においては、昇降バー34が1m〜4mの長さを有するとともに、その上面34aの側が凸状に反るよう、1.0mm〜5.0mmの撓み変形が事前に付与された形状を有し、その上面34a側が上方側を向くように、支持機構36に取り付けられることが好ましい。こうすることで、ステージ10においては、多様なサイズの試料を保持するとともに、支持機構36で支持される昇降バー34の自重による最大の撓み変形を所望の許容範囲内にすることができ、例えば、1.0mm以下、より好ましくは0.5mm以下とすることができる。   As a result, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, the elevating bar 34 has a length of 1 m to 4 m, and 1.0 mm to 5.0 mm so that the upper surface 34a side is warped in a convex shape. It is preferable to attach to the support mechanism 36 so that the upper surface 34a side faces upward. In this way, the stage 10 can hold samples of various sizes, and can make the maximum bending deformation due to the weight of the elevating bar 34 supported by the support mechanism 36 within a desired tolerance range. 1.0 mm or less, more preferably 0.5 mm or less.

そして、本発明の実施形態の一例であるステージ10は、以上の構造の昇降バー34を有するとともに、支持台26の保持面26aに設けられる各凹所32が、図7に示したように、昇降バー34を収容可能な大きさを有する。すなわち、後に詳述するように、凹所32は、支持機構36に取り付けられた状態の昇降バー34を収容するに十分な幅寸法を有し、また収容された状態の昇降バー34の最も高い位置にある部分が保持面26aに一致する深さ寸法、または、保持面26aより低くなる位置になるような深さ寸法を有する。   And the stage 10 which is an example of embodiment of this invention has the raising / lowering bar 34 of the above structure, and each recessed part 32 provided in the holding surface 26a of the support stand 26 as shown in FIG. The lift bar 34 can be accommodated. That is, as will be described in detail later, the recess 32 has a width dimension sufficient to accommodate the lift bar 34 attached to the support mechanism 36 and is the highest of the lift bar 34 in the accommodated state. The portion at the position has a depth dimension that matches the holding surface 26a, or a depth dimension that results in a position that is lower than the holding surface 26a.

例えば、ステージ10において、昇降バー34は、図7に示したように、その長手方向と直交する断面の形状が矩形となる棒状形状を有し、保持面26aの凹所32は、昇降バー34の形状に対応して、凹所32の伸びる方向と直交する断面の形状が矩形となる形状を有することができる。その場合、凹所32は、上述したように、支持機構に取り付けられて支持された状態の昇降バー34を収容するに十分な幅寸法を有し、また収容された状態の昇降バー34の上面が保持面26aに一致する深さ寸法を有する。   For example, in the stage 10, as shown in FIG. 7, the lifting bar 34 has a rod-like shape in which the cross-sectional shape orthogonal to the longitudinal direction is a rectangle, and the recess 32 of the holding surface 26 a is formed by the lifting bar 34. The shape of the cross section orthogonal to the direction in which the recess 32 extends can have a shape corresponding to the shape of the rectangle. In that case, as described above, the recess 32 has a width dimension sufficient to accommodate the lift bar 34 attached to and supported by the support mechanism, and the upper surface of the lift bar 34 in the accommodated state. Has a depth dimension corresponding to the holding surface 26a.

このとき、従来技術のような、昇降バーに生じる撓みを考慮しない従来のステージでは、昇降バーの撓み変形に対応して、凹所をより大きく形成する必要がある。しかしながら、本発明の実施形態の一例であるステージ10では、昇降バー34において、自重による撓みの発生が考慮されて、予め昇降バー34にその撓みを相殺する撓み変形が付与されている。そのため、本発明の実施形態の一例であるステージ10においては、保持面26aの凹所32を小さく、特に深さを浅く形成することができる。その結果、ステージ10では、支持台26の剛性の低下を抑制することができる。   At this time, in the conventional stage that does not take into account the bending that occurs in the lifting bar as in the prior art, it is necessary to form a larger recess corresponding to the bending deformation of the lifting bar. However, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, in the lifting bar 34, the bending due to its own weight is taken into consideration, and the bending deformation that offsets the bending is given to the lifting bar 34 in advance. Therefore, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, the recess 32 of the holding surface 26a can be made small, and particularly the depth can be made shallow. As a result, the stage 10 can suppress a decrease in the rigidity of the support base 26.

本発明の実施形態の一例であるステージ10は、以上の予め撓み変形が付与された構造の昇降バー34を有し、支持台26に昇降バー34の収容スペースである凹所32を有するが、さらに、昇降バー34の昇降動作を制御するための昇降装置を有している。   The stage 10, which is an example of an embodiment of the present invention, has the lifting bar 34 having a structure to which bending deformation is applied in advance as described above, and the support base 26 has a recess 32 that is a storage space for the lifting bar 34. Furthermore, it has an elevating device for controlling the elevating operation of the elevating bar 34.

図8は、図3に示されたステージのV−V線に沿って得られた断面図である。   FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line VV of the stage shown in FIG.

昇降装置38は、図2に示されているように、一対の梁部材40を垂直方向に昇降させる支持機構36の動作を制御するように、支持台26の両側に設けられている。昇降装置38は、図8に示す例では、支持台26に取付板50を介して固定されたシリンダ本体38aと、シリンダ本体38aから突出するピストンロッド38bとを備える流体シリンダ装置とすることができる。昇降装置38を構成する流体シリンダ装置は、空気圧あるいは油圧で作動する。昇降装置38は、その軸線を垂直方向に沿って配置されており、ピストンロッド38bの先端が梁部材40に固定された結合部材52に固定されている。   As shown in FIG. 2, the lifting device 38 is provided on both sides of the support base 26 so as to control the operation of the support mechanism 36 that lifts and lowers the pair of beam members 40 in the vertical direction. In the example shown in FIG. 8, the lifting device 38 can be a fluid cylinder device including a cylinder body 38 a fixed to the support base 26 via a mounting plate 50 and a piston rod 38 b protruding from the cylinder body 38 a. . The fluid cylinder device constituting the elevating device 38 is operated by air pressure or hydraulic pressure. The lifting and lowering device 38 is arranged with its axis line along the vertical direction, and the tip of the piston rod 38 b is fixed to a coupling member 52 fixed to the beam member 40.

したがって、ステージ10では、図3に示されるように、支持台26の両側に配置された一対の昇降装置38を同期的に作動させることにより、支持台26の両側で支持台26に沿って配置された一対の梁部材40を同期的に昇降させて、支持機構36の昇降動作を制御することができる。このとき、支持機構36は、上述したように、一対の梁部材40と複数の支柱54とからなる。そして、複数の支柱54はその上端部がそれぞれ、対応する昇降バー34に結合され、各昇降バー34をそれぞれ支持している。したがって、昇降装置38は、支持機構36の昇降動作を制御することで、複数の昇降バー34の昇降動作を一体的に制御することができる。   Therefore, in the stage 10, as shown in FIG. 3, the pair of lifting devices 38 disposed on both sides of the support base 26 are operated synchronously, so that the stage 10 is disposed along the support base 26 on both sides of the support base 26. The pair of beam members 40 can be moved up and down synchronously to control the lifting operation of the support mechanism 36. At this time, the support mechanism 36 includes the pair of beam members 40 and the plurality of columns 54 as described above. The upper ends of the plurality of columns 54 are respectively coupled to the corresponding lifting bars 34 to support the lifting bars 34. Therefore, the elevating device 38 can integrally control the elevating operation of the plurality of elevating bars 34 by controlling the elevating operation of the support mechanism 36.

図9は、昇降バーが上昇位置にある状態を示す本発明の実施形態の一例であるステージの要部の模式的な正面図である。   FIG. 9 is a schematic front view of a main part of a stage, which is an example of an embodiment of the present invention, showing a state in which the lifting bar is in the raised position.

図10は、昇降バーが下降位置にある状態を示す本発明の実施形態の一例であるステージの要部の模式的な正面図である。   FIG. 10 is a schematic front view of a main part of a stage, which is an example of an embodiment of the present invention, showing a state where the lifting bar is in the lowered position.

以上の構成を有する本発明の実施形態の一例であるステージ10では、昇降装置38(図9および図10中では図示されない)を用いることにより、図9に示す、すべての昇降バー34が支持台26の保持面26aの凹所32から突出して保持面26aの上方に位置する上昇位置と、図10に示す、昇降バー34が凹所32に収容されてその上面34aが支持台26の保持面26a以下にある下降位置との間で、すべての昇降バー34を同期的作動させるように同期して作動される。   In the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention having the above-described configuration, by using the lifting device 38 (not shown in FIGS. 9 and 10), all the lifting bars 34 shown in FIG. 26, a raised position that protrudes from the recess 32 of the holding surface 26a and is located above the holding surface 26a, and a lifting bar 34 shown in FIG. 10 is accommodated in the recess 32, and its upper surface 34a is the holding surface of the support base 26. It is operated synchronously so that all the lifting bars 34 are operated synchronously with the lowered position below 26a.

そして、本発明の実施形態の一例であるステージ10は、図1〜図3等を用いて説明したように、例えば、基板や液晶パネル等の試料12を検査するためのプローバ(図示されない)に組み込まれて、試料12の検査に使用することが可能である。   And the stage 10 which is an example of embodiment of this invention is a prober (not shown) for test | inspecting samples 12, such as a board | substrate and a liquid crystal panel, as demonstrated using FIGS. 1-3. It can be incorporated and used to inspect the sample 12.

すなわち、図1を参照しながら説明すると、図9に示した上昇位置で、搬送ロボット14のロボットアーム24上の試料12が昇降バー34上に移される。このとき、搬送ロボット14の軸部材22の収縮動作によるロボットアーム24の下降動作に伴って試料12の重量に応じた衝撃が昇降バー34に作用するが、上述した各昇降バー34と支柱54との間に衝撃緩和機構が設けられている場合、その弾性支持作用により、試料12が衝撃を受けることを回避することができる。   That is, with reference to FIG. 1, the sample 12 on the robot arm 24 of the transport robot 14 is moved onto the lift bar 34 at the raised position shown in FIG. 9. At this time, an impact corresponding to the weight of the sample 12 acts on the lifting bar 34 as the robot arm 24 descends due to the contraction operation of the shaft member 22 of the transfer robot 14. In the case where an impact relaxation mechanism is provided between the two, the sample 12 can be prevented from receiving an impact due to its elastic support action.

ロボットアーム24から各昇降バー34に試料12が移るとき、その試料12が、例えば、昇降バー34の長手方向に関して傾斜を生じても、各昇降バー34の両端部には、図5に示したように(図9および図10では図示省略)、肩部34bに近接して逃げ溝70を形成することができ、試料12の下方に傾く縁が昇降バー34の上面34aに当接することはない。これにより、試料12は昇降バー34との当接による損傷を受けることなく昇降バー34に移され、昇降バー34上に移された試料12は昇降バー34の肩部34bにより、昇降バー34からの脱落を確実に防止される。   When the sample 12 moves from the robot arm 24 to each lift bar 34, even if the sample 12 is inclined with respect to the longitudinal direction of the lift bar 34, for example, the both ends of each lift bar 34 are shown in FIG. 9 (not shown in FIGS. 9 and 10), the escape groove 70 can be formed close to the shoulder 34b, and the edge inclined downward of the sample 12 does not contact the upper surface 34a of the elevating bar 34. . As a result, the sample 12 is transferred to the lift bar 34 without being damaged by contact with the lift bar 34, and the sample 12 transferred onto the lift bar 34 is removed from the lift bar 34 by the shoulder 34 b of the lift bar 34. It is reliably prevented from falling off.

試料12が昇降バー34上に移され、ロボットアーム24が支持台26上から後退すると、一対の流体シリンダ装置である昇降装置38は、同期的に収縮動作し、これにより昇降バー34は、図10に示した下降位置に保持される。   When the sample 12 is moved onto the lift bar 34 and the robot arm 24 is retracted from the support base 26, the lift device 38, which is a pair of fluid cylinder devices, synchronously contracts. 10 is held in the lowered position.

昇降バー34が下降位置に移動すると、図2に示したように、吸着口30bに作用する負圧によって試料12が支持台26に吸着されて確実に保持され、試料12は、例えば電気的検査等の所定の検査を受けることができる。   When the elevating bar 34 moves to the lowered position, as shown in FIG. 2, the sample 12 is adsorbed to the support 26 by the negative pressure acting on the adsorbing port 30b and is securely held. Etc. can undergo a predetermined inspection.

試料12の、上述の検査が終了すると、一対の昇降装置38(図9および図10では図示省略)の作動により、昇降バー34が図9に示した上昇位置へ向けて移動する。この昇降装置38の制御に伴い、支持台26上の試料12が昇降バー34によって支持台26の保持面26aから浮上しようとするとき、図2に示した細溝30aの空気案内作用により、試料12での静電気の発生が抑制される。   When the above-described inspection of the sample 12 is completed, the lift bar 34 is moved toward the raised position shown in FIG. 9 by the operation of the pair of lift devices 38 (not shown in FIGS. 9 and 10). When the sample 12 on the support table 26 is about to float from the holding surface 26a of the support table 26 by the lifting bar 34 in accordance with the control of the lifting device 38, the sample is caused by the air guiding action of the narrow groove 30a shown in FIG. The generation of static electricity at 12 is suppressed.

上昇位置にある昇降バー34上の検査済の試料12は、搬送ロボット14のロボットアーム24が昇降バー34間に挿入された状態で軸部材22が伸長動作されることにより、ロボットアーム24に移され、その後、搬送ロボット14によって上述したカセットに戻される。   The inspected sample 12 on the lift bar 34 in the raised position is transferred to the robot arm 24 by the extension of the shaft member 22 with the robot arm 24 of the transfer robot 14 inserted between the lift bars 34. Thereafter, it is returned to the cassette described above by the transfer robot 14.

本発明の実施形態の一例であるステージ10によれば、支持機構36に取り付けられた状態の昇降バー34において、図4に示したように、撓み変形が低減されており、板状の試料12に生じる歪力を低減しながら、保持面26aと離間したその上方で、板状の試料12の受け取りや引き渡しを行うことができる。   According to the stage 10 as an example of the embodiment of the present invention, the bending deformation is reduced in the lifting bar 34 attached to the support mechanism 36 as shown in FIG. The plate-like sample 12 can be received and delivered on the upper side of the holding surface 26a while reducing the distortion force generated in the plate.

また、本発明の実施形態の一例であるステージ10によれば、下降位置にある昇降バー34を収容するための凹所32を、支持台26により小さなサイズで形成することができ、支持台26の剛性、ひいてはステージ10の剛性の低下を低減することができる。   Moreover, according to the stage 10 which is an example of embodiment of this invention, the recessed part 32 for accommodating the raising / lowering bar 34 in a descent | fall position can be formed in a small size by the support stand 26, and the support stand 26 Can be reduced, and consequently, the rigidity of the stage 10 can be reduced.

そして、本発明の実施形態の一例であるステージ10によれば、昇降バー34を支持台26の側方に設けられた昇降装置38で昇降させることができる。したがって、ステージ10の構成の複雑化を招くことなく、試料12の受け渡しや吸着保持を行うことができるステージ10を比較的安価に提供することができる。   And according to the stage 10 which is an example of embodiment of this invention, the raising / lowering bar 34 can be raised / lowered with the raising / lowering apparatus 38 provided in the side of the support stand 26. FIG. Therefore, it is possible to provide the stage 10 that can deliver and hold the sample 12 relatively inexpensively without complicating the configuration of the stage 10.

尚、上述した本発明の実施形態の一例であるステージ10では、凹所32を保持26aの長辺に平行に形成した例を示したが、これに代えて、凹所32が保持面26aの長辺と角度的に伸長するように、複数の凹所32を並行に形成することができる。そして、そのような凹所32の配置構造に対応するように、予め撓み変形の付与された昇降バー34を配置することができる。   In addition, in the stage 10 which is an example of embodiment of this invention mentioned above, although the example which formed the recessed part 32 in parallel with the long side of the holding | maintenance 26a was shown, it replaces with this and the recessed part 32 is the holding surface 26a. The plurality of recesses 32 can be formed in parallel so as to extend angularly with the long side. And the raising / lowering bar | burr 34 to which bending deformation | transformation was previously provided can be arrange | positioned so as to correspond to the arrangement structure of such a recess 32. FIG.

また、昇降装置38には、上述した流体シリンダ装置に代えて、電動モータおよびラックピニオンあるいはリニアモータ等の種々の昇降装置を適宜用いることができる。   In addition, as the lifting device 38, various lifting devices such as an electric motor, a rack and pinion, or a linear motor can be appropriately used instead of the above-described fluid cylinder device.

さらに、本発明の実施形態の一例であるステージ10では、支持台26の両側の側方において、昇降バー34の両方の端部を対応する各支持機構36に取り付けているが、そのような取り付け構造のみに限られるわけではない。例えば、支柱54と梁部材40を含む支持機構36の梁部材40を支持台26の下方側に設け、支持台26に貫通孔を設け、梁部材40に結合する支柱54をその貫通孔を通すように設けることも可能である。その場合、支持台26下方の梁部材40に結合する支柱54は、支持台26の貫通孔を通ってその支持台26を貫通し、支持台26の上方側となる保持面26aの側で、そこに配置された各昇降バー34を支持するように構成することができる。そして、ステージ10は、支持台26を貫通する支柱54を備えた支持機構36を介し、昇降装置38の制御によって、昇降バー34の昇降動作を制御することができる。   Furthermore, in the stage 10 which is an example of the embodiment of the present invention, both ends of the elevating bar 34 are attached to the corresponding support mechanisms 36 on both sides of the support base 26. It is not limited to the structure. For example, the beam member 40 of the support mechanism 36 including the column 54 and the beam member 40 is provided below the support base 26, a through hole is provided in the support base 26, and the column 54 coupled to the beam member 40 is passed through the through hole. It is also possible to provide it. In that case, the column 54 coupled to the beam member 40 below the support base 26 passes through the support base 26 through the through hole of the support base 26, and on the holding surface 26 a side which is the upper side of the support base 26, It can comprise so that each raising / lowering bar 34 arrange | positioned there may be supported. The stage 10 can control the lifting / lowering operation of the lifting / lowering bar 34 by the control of the lifting / lowering device 38 via the support mechanism 36 including the support 54 penetrating the support base 26.

尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々変形して実施することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

例えば、本発明の実施形態であるステージについて、上述したように、液晶パネル等の板状の試料の検査に利用する例を説明したが、本発明の実施形態であるステージは、試料の検査にのみ使用されるものではない。検査の他、基板の加工や液晶パネルや有機ELパネルの製造のためにも使用することが可能である。   For example, as described above, an example in which the stage according to the embodiment of the present invention is used for inspecting a plate-like sample such as a liquid crystal panel has been described. However, the stage according to the embodiment of the present invention is used for inspecting a sample. Not only used. In addition to inspection, it can also be used for processing substrates and manufacturing liquid crystal panels and organic EL panels.

10 ステージ
12 試料
14 搬送ロボット
16 ベース
18 可動台
20,54 支柱
22 軸部材
24 ロボットアーム
26 支持台
26a 保持面
28 XYZθ移動スタンド
30a 細溝
30b 吸着口
32 凹所
34 昇降バー
34a 上面
34b 肩部
36 支持機構
38 昇降装置
38a シリンダ本体
38b ピストンロッド
40 梁部材
50 取付板
52 結合部材
70 逃げ溝
72 高さ調整機構
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Stage 12 Sample 14 Transfer robot 16 Base 18 Movable base 20, 54 Post 22 Axis member 24 Robot arm 26 Support base 26a Holding surface 28 XYZθ moving stand 30a Narrow groove 30b Suction port 32 Recess 34 Elevating bar 34a Upper surface 34b Shoulder 36 Support mechanism 38 Lifting device 38a Cylinder body 38b Piston rod 40 Beam member 50 Mounting plate 52 Coupling member 70 Escape groove 72 Height adjustment mechanism

Claims (6)

板状の試料を保持するステージであって、
前記試料を載置する保持面を備える支持台と、
前記保持面を横切って配置される複数の昇降バーと、
前記昇降バーを前記支持台内に収容するよう前記保持面に互いに並行して伸びるように設けられる複数の凹所と、
前記昇降バーを昇降可能に支持する支持機構と、
前記昇降バーを前記凹所から突出する上昇位置と、前記凹所に収容される下降位置との間で昇降するよう前記支持機構の動作を制御する昇降装置とを含み、
前記昇降バーは、前記支持機構の支持によって生じる撓みを相殺するように、予め撓み変形が付与された形状を有することを特徴とするステージ。
A stage for holding a plate-shaped sample,
A support with a holding surface for placing the sample;
A plurality of elevating bars disposed across the holding surface;
A plurality of recesses provided to extend parallel to each other on the holding surface so as to accommodate the lifting bar in the support base;
A support mechanism for supporting the elevating bar so as to be movable up and down;
An elevating device that controls the operation of the support mechanism to elevate between the raised position where the elevating bar protrudes from the recess and the lowered position accommodated in the recess;
The stage, wherein the elevating bar has a shape to which bending deformation is applied in advance so as to cancel the bending caused by the support of the support mechanism.
前記支持台は、前記保持面に吸着口を有し、前記試料を吸着させて保持することを特徴とする請求項1に記載のステージ。   The stage according to claim 1, wherein the support base has an adsorption port on the holding surface, and adsorbs and holds the sample. 前記凹所は、前記下降位置にある前記昇降バーが前記保持面から突出することなく前記支持台内に収容される大きさを有することを特徴とする請求項1または2に記載のステージ。   3. The stage according to claim 1, wherein the recess has a size such that the elevating bar at the lowered position is accommodated in the support base without protruding from the holding surface. 4. 前記昇降バーは、その長手方向と直交する断面の形状が矩形となる棒状形状を有し、前記凹所は、該凹所が伸びる方向と直交する断面の形状が矩形となる形状を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のステージ。   The elevating bar has a bar shape in which the shape of the cross section orthogonal to the longitudinal direction is a rectangle, and the recess has a shape in which the shape of the cross section orthogonal to the direction in which the recess extends is a rectangle. The stage according to any one of claims 1 to 3, characterized in that: 板状の試料を保持するステージであって、
前記被検査試料を載置する保持面を備える支持台と、
前記保持面を横切って配置される複数の昇降バーと、
前記昇降バーを前記保持面から突出することなく前記支持台内に収容するよう前記保持面に互いに並行して伸びるように設けられる複数の凹所と、
前記昇降バーが取り付けられて該昇降バーを昇降可能に支持する支持機構と、
前記昇降バーを前記凹所から突出する上昇位置と、前記凹所に収容される下降位置との間で昇降するように前記支持機構の動作を制御する昇降装置とを含み、
前記昇降バーは、予め上面側が凸状に反るよう撓み変形が付与された形状を有し、該凸状に反る上面側が上方側を向くように、前記支持機構に取り付けられることを特徴とするステージ。
A stage for holding a plate-shaped sample,
A support with a holding surface for placing the sample to be inspected;
A plurality of elevating bars disposed across the holding surface;
A plurality of recesses provided to extend parallel to each other on the holding surface so as to be accommodated in the support base without protruding from the holding surface,
A support mechanism to which the elevating bar is attached and supports the elevating bar so as to be movable up and down;
An elevating device that controls the operation of the support mechanism so as to elevate between the ascending position where the elevating bar protrudes from the recess and the descending position accommodated in the recess;
The elevating bar has a shape that is deformed in advance so that the upper surface side warps in a convex shape, and is attached to the support mechanism so that the upper surface side that warps in the convex shape faces upward. Stage to do.
前記支持台は、前記保持面に吸着口を有し、前記試料を吸着させて保持することを特徴とする請求項5に記載のステージ。   The stage according to claim 5, wherein the support base has an adsorption port on the holding surface, and adsorbs and holds the sample.
JP2014234794A 2014-11-19 2014-11-19 stage Active JP6339002B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014234794A JP6339002B2 (en) 2014-11-19 2014-11-19 stage

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014234794A JP6339002B2 (en) 2014-11-19 2014-11-19 stage

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016100411A JP2016100411A (en) 2016-05-30
JP6339002B2 true JP6339002B2 (en) 2018-06-06

Family

ID=56078022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014234794A Active JP6339002B2 (en) 2014-11-19 2014-11-19 stage

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6339002B2 (en)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011029240A (en) * 2009-07-21 2011-02-10 Nikon Corp Substrate carrier and substrate laminating device
JP6006538B2 (en) * 2012-06-04 2016-10-12 株式会社日本マイクロニクス Suction table

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016100411A (en) 2016-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5952645B2 (en) Wafer inspection interface and wafer inspection apparatus
JP6516664B2 (en) Substrate holding apparatus, coating apparatus, substrate holding method
KR20080108904A (en) Substrate adsorption device, substrate transportation device and external inspection equipment
TWI743614B (en) Substrate processing device and substrate processing method
JP2013175572A (en) Probe device and parallelism adjustment mechanism of probe card
US20170062246A1 (en) Wafer leveling device
KR101479937B1 (en) Align equipment of glass and mask
JP5047859B2 (en) Lift pin unit and XY stage apparatus having the same
JP5956877B2 (en) Suction table
KR20130071284A (en) Device for transferring supporting substrate
JP6339002B2 (en) stage
JP6006538B2 (en) Suction table
JP2012023104A (en) Substrate-setting device
KR100847627B1 (en) Device for carrying in and out boards
KR102336820B1 (en) Substrate holding apparatus, substrate processing apparatus, and substrate holding method
KR20080110466A (en) Lifting apparatus with lift pin
JP3897469B2 (en) Inspection apparatus and inspection method for flat object
KR20190014262A (en) Apparatus for Bending Flexible Substrate
JP2008251944A (en) Exposure apparatus
JP2014041873A (en) Board support device and method thereof, mounting apparatus and method thereof
KR102501619B1 (en) A bending test apparatus for pcb
KR101386297B1 (en) Substrate processing system and substrate transferring method
KR102274314B1 (en) The apparatus for separating the thin plates
KR102274315B1 (en) The apparatus for separating the thin plates
JP6499756B2 (en) Substrate holding device

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20160727

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20161011

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170913

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180419

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180424

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180509

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6339002

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250