JP2016004042A - 測定セル用のレセプタクル装置を含む散乱光測定システムおよびその操作方法 - Google Patents
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Abstract
Description
12 ハウジング
13 回転軸
14 矢印、回転運動
15 支持体
16 レセプタクル装置
17 測定セル
18 キャビティ
19 ビーム経路
20 光源
21 集光レンズ
22 ビーム
23 集光光学系
24 中央ダイアフラム
25 散乱光
26 集光レンズ
27 光検出器
28 矢印
29 集光レンズ
30 焦点
31 矢印
32 昼光フィルタ
33 コンベアベルト
34 光線
35 ダイアフラム表面
36 経路
37 経路区域
38 ダイアフラム表面
Claims (10)
- ビーム(22)を生成するための少なくとも1つの光源(20)と、測定セル(17)用の少なくとも1つのレセプタクル装置(16)と、少なくとも1つの光検出器(27)とを含む散乱光測定システムであって、レセプタクル装置(16)および光検出器(27)が、光源(20)によって生成されるビーム(22)のビーム経路内に配置された、該散乱光測定システムであって、
レセプタクル装置(16)とビーム(22)が互いに対して可動であり、それにより、ビーム(22)が、所定の経路(36)上で動くとき、レセプタクル装置(16)内に配置された測定セルを通るビーム伝播に対して横方向に移動し、
ビーム(22)の非散乱光が当たる集光光学系(23)が、ビーム経路内でレセプタクル装置(16)の下流に配置され、集光光学系(23)が光学表面を提供し、該光学表面が、少なくとも経路(36)の方向でビーム(22)の非散乱光よりも大きい寸法を有し、
ビーム経路内で集光光学系の下流に中央ダイアフラム(24)が配置され、ビーム(22)の非散乱光が、経路(36)の特定の経路区域(37)内で、中央ダイアフラム(24)に当たる
ことを特徴とする前記散乱光測定システム。 - 中央ダイアフラム(24)は、集光光学系(23)の結像側の焦点に配置されることを特徴とする請求項1に記載の散乱光測定システム。
- 中央ダイアフラム(24)は、円形のダイアフラム表面(38)を有することを特徴とする請求項2に記載の散乱光測定システム。
- 中央ダイアフラム(24)は、集光光学系(23)の結像側の焦点の外に配置され、少なくとも経路(36)の方向で中央ダイアフラムの平面内のビームよりも大きい寸法を有することを特徴とする請求項1に記載の散乱光測定システム。
- 中央ダイアフラム(24)は、楕円形またはストリップ形状のダイアフラム表面(35)を有することを特徴とする請求項4に記載の散乱光測定システム。
- 複数のレセプタクル装置(16)は支持体(15)に配置されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の散乱光測定システム。
- ビーム経路はモジュール(11)内に延び、モジュール(11)は、支持体(15)上に位置するレセプタクル装置(16)に対して可動であることを特徴とする請求項6に記載の散乱光測定システム。
- 集光光学系(23)は、ビーム経路内に連続して配設された2つの集光レンズ(29)から形成されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の散乱光測定システム。
- レセプタクル装置(16)とビーム(22)は、経路(36)の特定の経路区域(37)で互いに対して一定の速度で動かされることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の散乱光測定システムを動作させるための方法。
- 複数のレセプタクル装置(16)は支持体(15)上に円形状に配置され、ビーム(22)とレセプタクル装置(16)との相対運動は、円の中心の周りでの回転運動によって生み出されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
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