JP2015537217A - ナノプロービング時の迅速で非破壊のサンプルのナビゲーションのためのサンプルの３次元事前特性評価における非接触顕微鏡検査のシステム及び方法 - Google Patents

Abstract

サンプルのプロービングをおこなうためのシステムであって、該システムは、少なくとも３つの基準マークに基づいたサンプルの３次元座標を受信し、ホルダに設置されたサンプルを受け取り、少なくとも３つの基準マーク及び３次元座標に基づいてサンプルにおける少なくとも１つの位置にナビゲートするように構成されたトポグラフィ顕微鏡を含む。【選択図】図２

Description

［関連出願の相互参照］
本願は、２０１２年１１月２０日に出願された、Ｖｌａｄｉｍｉｒ Ａ． Ｕｋｒａｉｎｔｓｅｖ等による「ナノプロービング時の迅速で非破壊のサンプルのナビゲーションのためのサンプルの３Ｄ事前特性評価における（非接触）顕微鏡検査の使用」という名称の米国仮出願第６１／７２８，７５９号の優先権を主張する、２０１３年１１月１８日に出願された、「ナノプロービング時の迅速で非破壊のサンプルのナビゲーションのためのサンプルの３次元事前特性評価における非接触顕微鏡検査のシステム及び方法」という名称の米国特許出願第１４／０８３，４３８号の優先権を主張する国際出願であり、各出願はその全体が参照文献として本願明細書に組み込まれる。

［技術分野］
本発明の実施形態はサンプルのプロービングに関する。特に、本発明の実施形態は、走査プローブ及び接触プローブを用いたナノプロービングのためのシステム及び方法に関する。

ナノプロービングは、ナノ物体についての種々のタイプの電気的、機械的、組成的、及び化学的な物理特性にわたる、分析科学における非常に広範な分野である。ナノ物体の例として、ナノ電子デバイス及びその部品が含まれる。ナノプロービングは走査及び接触プローブを含むがこれに制限されない。集積回路（「ＩＣ」）における単独のトランジスタ、メモリビットセル及び論理素子の電気プロービングは、新たに設計されたＩＣの性能をテストし、特定のＩＣの設計及び／又は全体的な技術の潜在的な問題を是正するために広く用いられている。

サンプル上に位置するナノ物体のナノプロービングには、対象のナノ物体を位置特定するためにサンプル表面に関してプローブを配置することが必要である。サンプル上のナノ物体をプロービングするために必要な時間に加えて、この処理は、プローブがサンプル上の適切な位置にあることを確実にするために時間を要する。さらに、既存のコンピュータ支援マップに関するサンプルの登録は、ＳＥＭ及び他のナノプロービング装置の視野が小さいために困難である。視野が小さいことから、サンプル上の対象の特性を発見することにより時間が必要とされ得る。

一部の場合においては、サンプル調製とナノプロービング装置との間で、サンプルを往復移動させることが必要であり、そのような例として多層ＩＣサンプルの故障解析がある。サンプルが新たな装置に移動させられる毎にサンプルの位置を合わせ、サンプル上の対象の特徴を位置特定するための時間が必要とされる。また、装置同士の不適切なアライメントによりサンプルは損傷を受け得る。サンプルの特性評価のための現在の装置及びシステムでは、サンプル上の対象の特徴をアライメントし、ナビゲートする迅速な方法は提供されない。

以下の概要は、本発明の一部の態様及び特性に対して基本的な理解をするために含まれる。この発明の概要は、本発明の広範な概要ではなく、また本発明のキーになる若しくは重要な要素を具体的に特定すること、又は本発明の範囲を示すこと、を意図するものではない。その唯一の目的は、以下に示されるより詳細な説明の前置きとして、本発明のいくつかのコンセプトを単純化した形態で示すことである。

サンプルのプロービングをおこなうシステムであり、該システムは、少なくとも３つの基準マークに基づいたサンプルの３次元座標を受信し、ホルダに設置されたサンプルを受け取り、少なくとも３つの基準マーク及び３次元座標に基づいてサンプルにおける少なくとも１つの位置にナビゲートするように構成されたトポグラフィ顕微鏡を含む。

本発明の実施形態のその他の特徴及び有利性は、添付の図面及び以下の発明を実施するための形態から明白になるであろう。

本明細書に包含され、その一部を構成する添付の図面は、本発明の実施形態を例示し、発明を実施するための形態と共に本発明の原理を説明し描出する役割を担う。図面は図によって例示の実施形態の主要な特徴を示すことが意図されている。また、図面では、実際の実施形態のすべての特徴や、描かれる要素の相対的なサイズが提示されることは意図されていない。そして、図面は正確な縮尺率ではない。

本発明の実施形態は例として記載され、参照記号が同様の要素を示す添付の図面の図における制限ではない。

図１Ａは、一実施形態においてサンプルマップを生成するように構成された光学顕微鏡の上面図のブロック図を示す。 図１Ｂは、一実施形態においてサンプルマップを生成するように構成された光学顕微鏡の側面図を示す。 図２は、一実施形態における事前特性評価装置と連結されたナノプローバを示す。 図３は、一実施形態においてプローブを登録することを含むサンプルの解析方法のフロー図を示す。

ナノプロービング時の迅速で非破壊のサンプルナビゲーションのためのサンプルの３次元特性評価のシステム及び方法の実施形態が記載される。記載される実施形態によると、システムは、例えば、トップダウン型走査電子顕微鏡（「ＳＥＭ」）、又は任意の他の２次元ナノプローブ装置においておこなわれるナノプロービングなどのナノプロービング時に、３次元（「３Ｄ」）における迅速で非破壊のサンプルナビゲーションのために使用される、連結された（情報の交換が可能）光学及び／又はトポグラフィ顕微鏡を含む。光学及び／又はトポグラフィ顕微鏡はナノプロービング装置に物理的に統合されることが可能であるか、及び／又はトポグラフィ顕微鏡は独立型機器として存在することが可能である。

一実施形態では、サンプルは、汎用サンプルホルダ及び基準マークを使用して装置から装置へと移送されてもよい。マークは、（例えば、レーザマーカを用いて）サンプルホルダの固定位置に予め作製されるか、及び／又はサンプルに作製されることも可能である。これは、（ａ）３Ｄ、つまりＺ（Ｘ，Ｙ）におけるサンプルの正確、迅速、そして非破壊（例えば非接触）であるトポグラフィマッピング、（ｂ）例えば集積回路（「ＩＣ」）などのサンプルのコンピュータ支援設計（「ＣＡＤ」）マップなどの既存のマップに関して、サンプルの迅速な２次元、つまり（Ｘ，Ｙ）における登録、（ｃ）ナノプローバとサンプル調製装置との間の迅速で容易なサンプル移送、を可能にする。サンプル調製装置の例は、集束イオンビーム（「ＦＩＢ」）、イオンミリング装置、並びに（ｄ）光学、走査プローブ、並びに、導電性、静電容量、磁気及びその他のプローブ顕微鏡、及びラマン及び蛍光分光法、及びその他のプローブ支援技術を用いる迅速な故障検索を含むが、これには限定されないその他の技術を用いるサンプルの特性評価を含むが、これに限定されない。この（例えば上述の副要素（ｄ）に言及される）プロービングの拡張性は、走査プローブ顕微鏡（「ＳＰＭ」）がサンプルのトポグラフィ特性評価に選択される場合に、当然のことである。

この新規の方法の主な有利性は、ナノプロービングのスループットの改善である（対象領域への迅速なナビゲーション、既知の高さへのプローブの降下、及び既知のサンプルトポグラフィを用いた領域から領域への迅速で非接触のプローブの移動）。これは、比較的安価、迅速で、好ましくは非接触の光学及び／又はトポグラフィ顕微鏡におけるサンプルの事前特性評価によって達成される。トポグラフィ顕微鏡はＳＰＭ及びＡＦＭを含むが、これらに限定されない。第２の有利性は、新規の特性評価、故障解析、サンプル調製及び回路編集技術の効果的な機器を迅速で容易に利用できることである。後者は、追加の迅速な故障検索の手段、プロービングされる装置数の削減、ナノプロービングのためのサンプル調製時間の改善、及び下記の物理的故障解析（例えば、透過電子顕微鏡（「ＴＥＭ」）、走査型透過電子顕微鏡（「ＳＴＥＭ」）、断面ＳＥＭなど）によって故障解析の結果における全体的な時間を削減する。

図１Ａ及び図１Ｂは、一実施形態におけるサンプルマップを生成するように構成された光学顕微鏡を示す。光学顕微鏡によって、基準マークに関するサンプルの迅速で非破壊のＺ（Ｘ、Ｙ）３Ｄマッピングが可能になる。サンプルマップ一式又はサンプルにおける特定のいくつかの対象位置（例えば、Ｚ１（Ｘ１、Ｙ１）及びＺ２（Ｘ２、Ｙ２））は事前に特性評価されることが可能である。具体的に、図１Ａは、ホルダ１０４に設置されたＩＣなどのサンプル１０２を示す。ホルダ１０４は、サンプル調製装置、ナノプロービング装置、回路編集装置、及びサンプルの解析、特性評価、又は調製に使用されるその他の装置を含むが、これらに限定されない、複数の装置において使用されることの可能な汎用ホルダあってよい。光学顕微鏡は、３つ以上の基準マーク１０６に基づいたサンプル１０２の３次元座標を生成するように構成される。基準マーク１０６はホルダ１０４及び／又はサンプル１０２上にあってよい。基準マーク１０６は、ホルダ１０４上の固定位置に予め作製されるか、及び／又はサンプル１０２上に作製されることが可能である（例えば、レーザマーカを用いる）。

図１Ａに示されるように、光学顕微鏡は、一実施形態において、３つ以上の基準マーク１０６に関して、Ｘ軸１０８及びＹ軸１１０におけるサンプル１０２の１つ又は複数の位置などの座標を生成するように構成される。座標は３つ以上の基準マーク１０６に参照されるので、３つ以上の基準マーク１０６に参照され生成された座標を用いる同一の装置又は他の装置は、サンプル１０２をアライメントし、生成された座標に基づいた位置にプローブ又は他の装置を登録することが可能である。

図１Ｂは、一実施形態においてサンプルマップを生成するように構成された光学顕微鏡の側面図を示す。光学顕微鏡は、３つ以上の基準マーク１０６に基づいてサンプル１０２をマッピングするための３次元座標を生成するように構成される。光学顕微鏡は、Ｘ・Ｙモニタ１１６が当該技術において既知の技術を含む技術を用いて３つ以上の基準マーク１０６に関してサンプル１０２のＸ及びＹ位置を登録するときにＸ軸１０８及びＹ軸１１０に沿ってサンプル１０２を移動させるように構成された、Ｘ・Ｙ位置決め装置１２０を含む。また、光学顕微鏡は、Ｚ軸に沿ってサンプル１０２を移動させるように構成されたＺ位置決め装置１２２を含む。さらに光学顕微鏡は、レーザ１１４と共にレーザ反射システムを形成するＺモニタ１１８を含む。レーザ反射システムは、当該技術において既知の技術を含む技術を用いて、３つ以上の基準マーク１０６に関してＺ軸１１２に沿ってサンプルのＺ位置を登録するように構成される。

必要なマッピングの空間分解能に応じて、種々の非接触の方法（例えば、エアゲージ及び非接触原子間力顕微鏡（「ＡＦＭ」））及び接触の方法（例えば、表面粗さ計及び接触ＡＦＭ）、又はそれらの組合せが、光学顕微鏡の代わりに、基準マークに登録されたサンプルの３次元座標を生成することによるサンプルの事前特性評価に使用されることが可能である。サンプル、Ｚ（Ｘ，Ｙ）マップの３次元座標情報は、サンプルホルダ又はサンプル上に配置される３つ以上の基準マークに関して取得されるということが重要である。故に、３つ以上の基準マークに基づいたサンプルの３次元座標は、基準マークの３次元座標、即ちＸＹＺ位置を読み取り又は取得可能である任意の他の装置において容易に読み出されることができる。装置におけるすべてのプローブのＸＹＺ座標が既知であることを考えると、プローブの迅速で確実な設置、及び領域から領域への移動をおこなうことが可能である。

本発明の実施形態は、複雑なパターンを有するサンプルにおける（例えばＩＣなど）ナノプローバの自動ナビゲーションのために、本明細書に記載されるような光学顕微鏡を使用することを含む。ＩＣのコンピュータ支援設計マップは、例えばＸ及びＹ座標、即ち（Ｘｉ、Ｙｉ）などの対象の所望の特徴への自動ナビゲーションのために、登録され、使用されることが可能である。そして、特徴のＺ座標、（Ｚｉ）は、本明細書に記載されるような、３次元（例えば光学の）顕微鏡を用いて決定されることができる。対象の特徴の３つ以上の基準マークに関する３次元座標、つまりＺｉ（Ｘｉ，Ｙｉ）が取得されると、ナノプローバがそのスポットに移動され、さらに高解像度のナビゲーションがＳＥＭ又は他の技術を用いておこなわれることが可能である。高解像顕微鏡（例えばＳＥＭ、ＡＦＭなど）を用いる大きく複雑なＩＣにおけるナビゲーションは困難であり、時間を要し得る。

汎用ホルダは、該ホルダを次の装置に配置するときに、数十ミクロン内の精密性に限定される。一実施形態では、光学顕微鏡及び／又はナノプローバは、サンプルの（Ｘ，Ｙ）登録、またサンプル上の対象の位置検索において、例えばオペレータによる任意の手動調整をさらに最少化するために、当該技術において既知であるものを含む技術を用いて、パターン自動認識を使用するように構成され得る。

３次元、つまりＺ（Ｘ，Ｙ）の、好ましくは非接触であるサンプル特性評価を追加することは、ＳＥＭを利用した及び他のナノプロービング方法にとって有益である。これは、プローブ及び／又はサンプルになんら損傷なく、プローブが迅速そして確実にサンプル表面上に設置される必要があるためである。本明細書に記載されるような、同一の（又は同様の、同等の、若しくは事前に特性づけた）ホルダにおける様々なサンプルの設置では、３次元事前特性評価によって、種々のサンプル上に迅速に先端の設置がおこなわれる。基準マークに関して３次元でサンプル表面を事前特性評価するための迅速で非破壊（好ましくは非接触）の方法（例えば光学）の使用により、ナノプロービング時の３次元における迅速で確実なサンプルナビゲーション能が提供される。

本明細書に記載されるような、３つ以上の基準マークに関する、ホルダにおけるサンプルの３次元事前特性評価により、サンプルを他の装置に移送し、基準マークに基づいた３次元座標を用いてサンプルをアライメントすることができる。これにより、装置同士の間の迅速で容易なサンプルの移送が可能になる。装置同士の間におけるサンプルの移送は手動でおこなわれるか、又は当該技術において既知のものを含む技術を用いて自動化されてもよい。そのような技術は、相互接続の様々なレベルにおいておこなわれる複数の連続したナノプロービングのセッションを必要とし得る多層ＩＣサンプルの故障解析に使用されてもよい。そのような例において、サンプルはサンプル調製とナノプロービング装置との間で往復移動する。ＳＥＭ及び光学顕微鏡において汎用ホルダ及び基準マークを可視化すること（例えば、予め決められた位置に配置して）は、基準マークに基づいた３次元座標の生成により、サンプル調製装置（例えば「ＦＩＢ」）におけるサンプルのアライメントとナノプローバに戻った後の変化したサンプルのアライメントとを簡易化する。このように、装置において、対象の特徴などのサンプルにおける位置を特定するために基準マークに関する３次元座標が使用されることが可能である。

サンプルの事前特性評価により有利になるその他の例は、サンプルの重要な領域にわたって配置されるＩＣにおけるいくつかの疑わしいデバイスなど、ＩＣの故障についてしばしば複数の状態を示す、ＩＣの電気的機能テストを含む。基準マークに基づいた３次元座標を生成するために、本明細書に記載される技術を使用してホルダ内のサンプルを事前に特性評価することにより、正常ではないデバイスを特定するため迅速に故障の検索をすることができるので、ナノプロ―ビングをされるデバイスの数が削減され得る。また、基準マークに基づいた３次元座標を用いて、装置においてサンプルをアライメントし、サンプル上の位置にナビゲートする時間により、装置を設定するために必要とされる時間が削減されるので、装置同士の間で迅速に移動することが可能である。

例えば、ＳＰＭ（例として導電性ＡＦＭ又は走査静電容量顕微鏡（「ＳＣＭ」））は、故障の高いリスクを有する正常でないデバイスの分離を支援し、これによりスループット及びナノプロービングの成功率を増加させることができ得る。ナノプロービングを使用して不具合のあるデバイスが検出されると、電気的故障の正確な物理的原因を突き止めるために、通常は物理的故障解析に送られる。この解析には高解像度透過電子顕微鏡（「ＴＥＭ」）若しくは走査型ＴＥＭ、又はその他の断面技術（例えば断面ＳＥＭ（「ＸＳＥＭ」）、ＳＣＭなど）がしばしば使用される。２０〜５０ナノメータ（「ｎｍ」）の薄板又は断面は、ナノメータの精度をしばしば備える位置でＦＩＢを使用して調製される必要がある。また、ＦＩＢ装置において汎用ホルダ、基準マークを可視化させること、及び基準マークに関して欠陥デバイスの３次元座標を取得することは、装置のホルダにおけるサンプルのアライメント、欠陥デバイスへのナビゲーション及び欠陥デバイスの検索、並びにさらなる物理的故障解析のための他の装置における任意のサンプル調製を簡易化する。基準マークに基づく３次元座標により、さらに例えば２０〜５０ｎｍまでの欠陥の位置特定をするための装置同士の間の迅速で容易なサンプルの移送が可能になるため、ＴＥＭ又は物理的故障解析の他の装置を使用して欠陥を捕捉する機会が増加するので、本明細書に記載されるようなホルダにおける事前に特性評価されたサンプルの使用により、サンプルのさらなる特性評価の技術（例えば、走査静電容量又は磁気力顕微鏡）の利用が容易になる。

図２は、一実施形態における３次元事前特性評価装置と連結されたナノプローバを示す。本明細書に記載されるような光学顕微鏡などの３次元事前特性評価装置２０２は、通信リンク２０８を介してナノプローバ２０３などの他の装置と連結又は結合される。通信リンク２０８はシリアルリンク、パラレルリンク、無線リンク、イーサネット（登録商標）リンク、又は当該技術において既知であるものを含む他の通信リンクであってよい。本明細書に記載のものを含む３次元事前特性評価装置は、本明細書に記載のものを含む技術を用いて、３つ以上の基準マークに基づいて生成された座標をナノプローバ２０３に伝達するように構成される。ナノプローバ２０３は、本明細書に記載のものを含む技術を用いて、座標を使用してサンプルにおける対象の１つ以上の位置にナビゲートするように構成される。

一実施形態において、ナノプローバ２０３はコントローラ回路２０２及びプローブ２０４を含む。コントローラ回路２０２はプローブ２０４と結合される。コントローラ回路２０２は３つ以上の基準マークに基づいた３次元座標を受信するように構成される。またコントローラ回路２０２は、サンプル及び／又はホルダにおける３つ以上の基準マークに関する３次元座標を用いて、ホルダにおけるサンプル２０６をアライメントするように構成される。さらに、当該技術において既知のものを含む技術を用いてサンプルの特性評価をおこなうためにサンプル２０６がアライメントされると、コントローラ回路２０２は、サンプル２０６における対象の１つ以上の位置にプローブ２０４を登録するように構成される。一実施形態によると、コントローラ回路２０２は、当該技術において既知のものを含む技術を用いてプローブ２０４を動作又はそうでなければプローブ２０４の動作を制御するために使用されるモータ、アクチュエータ、ギア、センサ、及びその他の機械及び／又は電子デバイスを介してプローブ２０４に結合される。

コントローラ回路２０２は、１つ以上の任意のマイクロプロセッサ、マイクロコントローラ、メモリ、フィードバックループ、センサ、検出器、又は、単独か、若しくは当該技術において既知のもののような部品を含むプローブ２０４の動作を制御するための他の部品を備えるその他の部品を含むが、これらには限定されない１つ以上の部品を含んでもよい。特定の実施形態では、プローブ２０４は、事前特性評価装置から受信される３次元座標に基づいて集積回路を走査し、サンプリングするように構成される。

一実施形態によると、プローブ２０４の動作の制御は、受信した３次元座標に加えて使用されるＣＡＤマップに基づく。ＣＡＤマップはサンプル２０６上の部品、デバイス、回路、対象領域、又はそれらの部分の位置を示してもよい。例えば、システムにおいて、集積回路などのサンプル２０６上の部品又はデバイスの位置を特定するために、回路配置図を表し、回路上の部品又はデバイスがどのように接続されているかを示すＣＡＤマップが使用されてもよい。ＣＡＤマップによって決定される位置は、例えば、サンプルにおける部品又はデバイス、又はそれらの部分の位置であってよい。

一実施形態によると、コントローラ回路２０２は、サンプル２０６におけるプローブ２０４の力及び受信した３次元座標に加えてＣＡＤマップに基づくプローブ２０４の動作を調整するように構成されてもよい。例えば、プローバとは関連しないが、テストされるサンプルの作製のためのＣＡＤ設計データが保存されているＣＡＤデータベース２２０が、プローバ用のナビゲーションデータを得るためのトポグラフィ及び設計データを取得するために用いられることが可能である。一実施例において、データベース２２０から物理的及び論理的設計データを直接的に読み取ってクロスマッピングを作成することによってプローバ用にＣＡＤマップを提供するために、ＤＣＧシステムズ社（カリフォルニア州、フレモント）から入手可能であるＮＥＸＳソフトウェア群が使用される。ＮＥＸＳ群は、例えば物理的回路配置のためのＧＤＳ２及び論理的回路のためのネットリストなど、集積回路（「ＩＣ」）設計のＬＥＦ（ライブラリ交換フォーマット）及びＤＥＦ（設計交換フォーマット）ファイルを読み取り、ＣＡＤマップを生成するために相互相関させる。

一実施形態では、事前特性評価装置２０２をナノプローバ２０３に連結する通信リンク２０８に追加して又はその代わりにデータベース通信リンク２１０を介して、事前特性評価装置２０２が選択的にＣＡＤデータベース２２０に連結されていてもよい。データベース通信リンク２１０は本明細書に記載されるものを含む任意のタイプの通信リンクであってよい。そのような実施形態では、事前特性評価装置は、生成された３次元座標をＣＡＤデータベース２２０に伝送するように構成される。さらに、ナノプローバ２０３は、１つ以上の基準マークに基づいた３次元座標をＣＡＤデータベース２２０から利用するか、又は受信するように構成されてもよい。

図３は、一実施形態において、プローブを登録することを含むサンプルを解析する方法のフロー図を示す。一実施形態では、本明細書に記載されるものを含むシステムはプローブを登録することを含むサンプルを解析する方法をおこなうように構成される。本方法は、本明細書に記載されるものを含む技術を使用して、図３の３０２部に提示されるような、少なくとも３つの基準マークに基づいた３次元座標を生成するためのサンプルの特性評価を含む。３０４部に示されるように、本システムにおいて、３次元座標及び少なくとも３つの基準マークに基づいてサンプルがアライメントされる。また本方法は、３０６部に示されるように、３次元座標及び少なくとも３つの基準マークに基づいてサンプル上の位置にナビゲートすることも含む。３０８部では、本方法は、本明細書に記載されるものを含む技術を使用して、生成された３次元座標及び少なくとも３つの基準マークに基づいた１つ以上の位置にナビゲートするように構成された調製装置にサンプルを移送することを選択的に含む。３１０部に示されるように、本方法は、本明細書に記載されるものを含む技術を使用して、生成された３次元座標及び少なくとも３つの基準マークに基づいた１つ以上の位置にナビゲートするように構成された特性評価装置にサンプルを移送することを選択的に含んでもよい。

上述の明細書において、本発明における特定の例示的実施形態が記述された。しかしながら、様々な変形及び変更がそれらに対しておこなわれ得るということは明白であろう。つまり、本明細書及び図面は制限というよりも説明的な目的で考慮される。

Claims (20)

1. 少なくとも３つの基準マークに基づいたサンプルの３次元座標を受信し、
   ホルダに設置された前記サンプルを受け取り、
   前記少なくとも３つの基準マーク及び前記３次元座標に基づいて前記サンプルにおける少なくとも１つの位置にナビゲートするように構成されたトポグラフィ顕微鏡を含む、
   サンプルのプロービングをおこなうためのシステム。
2. 前記少なくとも３つの基準マークに基づいた前記サンプルの３次元座標を生成するように構成された３次元顕微鏡をさらに含む、請求項１に記載のシステム。
3. 前記３次元顕微鏡は光学顕微鏡である、請求項２に記載のシステム。
4. 前記トポグラフィ顕微鏡は走査プローブ顕微鏡である、請求項１に記載のシステム。
5. 前記トポグラフィ顕微鏡は原子間力顕微鏡である、請求項１に記載のシステム。
6. 前記基準マークは前記ホルダに配置される、請求項１に記載のシステム。
7. 前記基準マークは前記サンプルに配置される、請求項１に記載のシステム。
8. 前記ホルダに設置された前記サンプルを受け取るように構成され、前記少なくとも３つの基準マーク及び前記３次元座標に基づいて前記サンプルにおける前記少なくとも１つの位置にナビゲートするように構成された調製装置をさらに含む、請求項１に記載のシステム。
9. 前記トポグラフィ顕微鏡は、コンピュータ支援設計マップに基づいて前記サンプルにおける前記少なくとも１つの位置にナビゲートするようにさらに構成される、請求項１に記載のシステム。
10. 少なくとも３つの基準マークに基づいた３次元座標を生成するためにサンプルの特性評価をおこない、
    前記サンプルを前記少なくとも３つの基準マークに基づいてアライメントし、
    前記３次元座標及び前記少なくとも３つの基準マークに基づいて前記サンプルにおける位置にナビゲートすることを含む、サンプルのプロービングをおこなう方法。
11. 前記少なくとも３つの基準マークに基づいた３次元座標を生成するために前記サンプルの特性評価をおこなうことは、３次元光学顕微鏡を使用しておこなわれる、請求項１０に記載の方法。
12. 前記３次元座標に基づいて走査プローブ顕微鏡を使用して前記サンプルの特性評価をおこなうことをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
13. 前記サンプルはホルダに設置される、請求項１２に記載の方法。
14. 前記サンプルを前記３次元座標及び前記少なくとも３つの基準マークに基づいて前記サンプルにおける少なくとも前記位置にナビゲートするように構成された特性評価装置に移送することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
15. 前記サンプルの前記アライメントは、さらにコンピュータ支援設計マップに基づく、請求項１０に記載の方法。
16. 前記サンプルを前記３次元座標及び前記少なくとも３つの基準マークに基づいて前記サンプルにおける少なくとも前記位置にナビゲートするように構成された調製装置に移送することをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
17. 前記少なくとも３つの基準マークは前記ホルダに配置される、請求項１６に記載の方法。
18. 前記アライメント及び前記ナビゲートは、接触原子間力顕微鏡、走査静電容量顕微鏡、及び磁気イメージング装置からなる群より選択される特性評価装置を使用しておこなわれる、請求項１０に記載の方法。
19. 少なくとも３つの基準マークに基づいたサンプルの３次元座標を生成するように構成された３次元顕微鏡と、
    前記少なくとも３つの基準マークに基づいた前記サンプルの前記３次元座標を受信し、
    ホルダに設置された前記サンプルを受け取り、
    前記少なくとも３つの基準マーク及び前記３次元座標に基づいて前記サンプルにおける少なくとも１つの位置にナビゲートするように構成されたトポグラフィ顕微鏡とを含む、サンプルのプロービングをおこなうためのシステム。
20. 前記ホルダに設置された前記サンプルを受け取るように構成され、前記少なくとも３つの基準マーク及び前記３次元座標に基づいて前記サンプルにおける少なくとも前記位置にナビゲートするように構成された調製装置をさらに含む、請求項１９に記載のシステム。