JP2015531691A - マイクロキャリアの製造方法 - Google Patents

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Abstract

本発明は、以下の段階を含むマイクロキャリアの製造方法に関する:(a)底部層(7)、上部層(8)、及び、上記底部層(7)と上部層(8)との間に位置する絶縁層(9)を含むサンドイッチ構造を有するウエハー(6)を提供する段階、(b)上部層(8)をエッチング除去して、マイクロキャリアのボディ(11)の外側壁(12)を画定する段階、(c)ボディ(11)の少なくとも上面(14)上に第1の活性層(13)を堆積する段階、(d)第1の活性層(13)上に連続的なポリマー層(16)を適用する段階、(e)底部層(7)及び絶縁層(9)をエッチング除去する段階、(f)ポリマー層(16)を除去して、マイクロキャリアを解放する段階。

Description

本発明は、マイクロキャリアの製造方法、及びマイクロキャリアに関する。本発明は、研究所及び臨床検査室のための生物学的及び/又は化学的分析を実施するのに適した特定のマイクロキャリアに関する。
本発明の範疇内では、マイクロキャリア又は微小粒子は、典型的には最も大きな寸法が100nmから300μmまで、好ましくは1μmから200μmまでである、微小のサイズの、任意のタイプの粒子、それぞれ任意のタイプのキャリアを指す。
本発明によると、マイクロキャリアとの用語は、マイクロキャリアの表面に結合した、又はそのバルクに含浸された一以上のリガンド又は機能ユニットを含んでいる、又は含むように適合された、機能化された又は機能化されるように適合された微小粒子を指す。大きなスペクトルの化学的及び生物学的分子は、マイクロキャリアへのリガンドとして付着され得る。マイクロキャリアは多面的な機能及び/又はリガンドを有し得る。本明細書で用いられるように、機能ユニットとの用語は、上記マイクロキャリアの表面を、修正し、取り付けられ、追加し、被覆する、又は、共有結合した若しくは非共有結合した、又はそのバルクに含浸された、任意の種を定義することを意味する。これらの機能は、ハイスループットスクリーニング技術及び診断において通常用いられる全ての機能を含む。
ドラッグデリバリー又はスクリーニング及びDNAシークエンシングは一般的に非常に多量の化合物又は分子の分析を実施する段階を含む。これらの分析は典型的には、例えば、対象の化合物又は特定のターゲット分子に関して化学ライブラリーをスクリーニングする段階、又は分子間の対象とする化学的及び生物学的相互作用に関する試験段階を含む。それらの分析は、数千の個別の化学的及び/又は生物学的反応を実行することをしばしば要求する。
多数の実用上の問題が、このような多量の個別の反応の取扱いから生じる。最も重要な問題はおそらく、各々の個別の反応をラベル付して、追跡する必要性である。
反応の身元を追跡する一つの従来の方法は、マイクロタイタープレート(マイクロアレイ)に各反応を物理的に分けることによって達成される。しかしながら、マイクロタイタープレートの使用は、特に、用いられるマイクロタイタープレートのサイズに対する、そのためプレート上で実施され得る異なる反応の数に対する物理的な制限のようないくつかの不利な点を持ってくる。
マイクロアレイの使用における制限を考慮すると、それらは今や有利には、化学的及び/又は生物学的分析を実施するための機能性符号化微小粒子によって置き換えられる。各々の機能性符号化微小粒子は、その表面に結合した特定のリガンドを一意的に識別する符号を備えている。このような機能性符号化微小粒子の使用はランダム処理を可能にし、それは、数千の一意的機能性符号化微小粒子が全て混合されることがあり、且つ同時に分析を受けることがあることを意味する。機能性符号化微小粒子の例は、特許文献1において記載され、図1に示される。
特許文献2は、複数の機能性符号化微小粒子又はマイクロキャリア1がパックされ得る(図1)反応チャンバーとしての役割を果たす少なくともマイクロ流体チャネルを有する分析装置を記載する。マイクロ流体チャネルは、内部のマイクロキャリア1をブロックしつつ、化学的及び/又は生物学的試薬を含む液体溶液を流すことを可能にするフィルターとして作用する停止手段を備えている。上記マイクロ流体チャネルの幾何学的高さ、及び上記マイクロキャリア1の寸法は、上記マイクロキャリア1が典型的には各マイクロ流体チャネルの内部で単層配置にて配されて、上記マイクロキャリア1が互いに重なることを防止するように選択される。
それらの付着したリガンドと、流れている化学的及び/又は生物学的試薬との間での対象の好ましい反応を示すそれらの機能性符号化マイクロキャリア1は、その後、それらの符号を読み取らせることがあり、それによって好ましい反応を引き起こしたリガンドの身元へとつながる。
符号は、複数のトラバース穴2の独特なパターンを含み得、また、例えば(図1に示されるような)L字型のサイン3等の非対称方向マーク又は三角形を含み得る。この非対称方向マークは、マイクロキャリア1の上面4と底面5との間の区別を可能にする。
マイクロ流体チャネルとの用語は、微小サイズの断面を有する、つまり、典型的には約1μmから約500μmまで、好ましくは約10μmから約200μmまでである最も小さい断面の寸法を有する、閉じられたチャネル、つまり流体のための細長い通路を指す。マイクロ流体チャネルは、必ずしも直線でない、流体がマイクロ流体チャネル内で向かう方向、つまり、好ましくは、層流領域を仮定すると流体の平均速度ベクトルに対応する方向に本質的に対応する縦方向を有する。
特許文献2に記載された分析装置によって、対象の反応の検出は、図2に示されるようなマイクロ流体チャネルに存在する各々の符号化マイクロキャリア1の蛍光強度の連続的読み出しに基づき得る。言い換えると、分析におけるターゲット分子の存在が所定の蛍光信号を引き起こすことになるであろう。しかしながら、所定の蛍光信号は、強い蛍光バックグラウンドの存在により、検出が非常に困難であり得る。
光学層によってマイクロキャリアを被覆することは、分析の間に放出される蛍光を検出可能なレベルへ増加させることが知られている。例えば、図2は、特許文献3に記載される方法によって得られる、被覆されたマイクロキャリア1のバッチを示し、光学層はマイクロキャリア1の上に堆積される。
しかしながら、図2に示される生物学的分析の結果は、被覆されたマイクロキャリア1から放出された蛍光信号の異なるパターンを示す。特に、いくつかのマイクロキャリア1aは、均一な且つ検出可能な蛍光信号を放出し、一方で他のマイクロキャリア1bは、部分的な又は非均一な蛍光信号を放出し、ほとんどの時間三日月の形状を有する(以後“シャドー効果”として呼ばれる)。さらに、いくつかのマイクロキャリアは、それらの表面上に光学層がないために、如何なる検出可能な蛍光を放出しない。
このような欠陥は、分析の間の正確な定量的情報の抽出を困難にさせる。
いくつかのマイクロキャリア1b上の光学層の欠如、又は部分的な堆積は、特許文献3に含まれるプロセスに由来する。実際、このプロセスは、光学層の堆積の前及び間で、いくつかのマイクロキャリア1の間の部分的な又は完全な重なりを避けることができない。このような重なりは図3に示され、マイクロキャリア1の上面4の領域Aは光学層によって被覆されることになるのに対して、他の一つのマイクロキャリア1’によって隠される上記マイクロキャリア1の上面4の領域Bは上記光学層によって被覆されないことになる。
さらに、特許文献3に記載されるプロセスの間、いくつかのマイクロキャリアはコーティングの前に裏返しになることがあるので、誤った表面上に被覆されることがある。
さらに、蛍光分析を実施する前に、部分的に被覆されたマイクロキャリア1b又は被覆されていないマイクロキャリアを、よく被覆されたマイクロキャリア1aから分離することは不可能である。実際、マイクロキャリア上の光学層の存在は、蛍光分析の間に放出される蛍光信号によってのみ区別可能である。
国際公開第00/63695号 国際公開第2010/072011号 国際公開第2011/044708号
本発明は、上述の不利な点の全て又は一部を改善することを目的とする。
この目的のために、本発明は、以下の段階を含むマイクロキャリアの製造方法を提案する:
(a)底部層、上部層、及び、上記底部層と上部層との間に位置する絶縁層を含むサンドイッチ構造を有するウエハーを提供する段階、
(b)上部層をエッチング除去して、マイクロキャリアのボディの外側壁を画定する段階、
(c)少なくともボディの上面上に第1の活性層を堆積する段階、
(d)第1の活性層上に連続的なポリマー層を適用する段階、
(e)底部層及び絶縁層をエッチング除去する段階、
(f)ポリマー層を除去して、マイクロキャリアを解放する段階。
そのため、本発明による方法において、第1の活性層の堆積は、上述の裏返し、又は重なり現象を防ぐために、マイクロキャリアがウエハーにまだ結合したまま達成される。第1の活性層は、分析の間に上述の“シャドー効果”を避けるために、ボディの全上面の上に均一に堆積される。その結果、マイクロチャネルを通って流れるターゲット分子及びリガンドに関する正確な定量的情報のためのデータの完全性が保たれる。
また、マイクロキャリアはそれらの解放まで一緒に結合されているので、例えばターボポンプにおけるような、それらの作製のために用いられる設備の繊細な部分においてマイクロキャリアが分散することを避ける。
必要に応じて、第1の活性層の堆積の段階(c)は、上述の段階(a)と(b)との間に為される。変形では、段階(a)から(f)は連続的に実施される。
実施形態によると、段階(e)は、絶縁層を保ちつつ底部層を選択的に底部層をエッチングするための第1のエッチングによって、例えばエッチング浴を用いることによって、且つ、絶縁層をエッチングするための第2のエッチングによって、例えばドライエッチングによって為される。
底部層が単結晶シリコンを含む場合、エッチング浴は水酸化カリウム浴であり得る。加えて、絶縁層が二酸化ケイ素を含む場合、ドライエッチングが、CHF(フルオロホルム)のプラズマエッチングによって、又はCFのプラズマエッチングによって為され得る。
また、ポリマー層は、ドライエッチングによって除去され得る。例えば、ポリマー層がパリレンを含む場合、それは、酸素プラズマによってエッチングされ得る。
さらに、独特のマーク、例えば符号が、例えば段階(b)と(c)との間で、マイクロキャリア上に刻まれ得る。
同一の独特のマークは、複数のマイクロキャリア、例えば同一のバッチに属している全てのマイクロキャリアに起因し得る。
そのため、分析の間、異なるタイプのマイクロキャリアが、同時に且つ一緒に混合されて用いられることがあり、各々のタイプはそれ自身の独特のマークを有し、一以上の特定のリガンドをサポートする。この場合、特定のマークが、分析の間に、各々のマイクロキャリアのタイプ、及びその付着したリガンドを識別することを可能にする。
独特のマークが第1の活性層の堆積(段階c)の前に刻まれるとき、上記層の厚さ、及び上記独特のマークのサイズは、独特のマークが第1の活性層を通して読み取り可能であるように選択される。
加えて、底部層及び/又は上部層は単結晶シリコンを含み得、絶縁層は二酸化ケイ素を含み得、ポリマー層はパリレンを含み得る。他の一つの実施形態によると、ポリマー層はサポートをウエハーに結合させる接着剤層である。
単結晶シリコン層は、選択的水酸化カリウム浴エッチング等の既知のエッチング法によって容易に且つ効率的にエッチングされ得る。
二酸化ケイ素を含む絶縁層は、エッチング浴を用いることによって底部層をエッチングしつつ、マイクロキャリアを保護することが可能である。
パリレン層は、解放前にマイクロキャリアを維持することが可能な高耐性層である。
ウエハーに結合したサポートの使用は、マイクロキャリアの製造の間に、ウエハーの取扱いを促進するための強化された機械特性を提供する。
本発明の実施形態によると、第2の活性層は、例えば段階(e)と(f)との間で、マイクロキャリアのボディの少なくとも底面上に堆積される。
このような方法によって製造されたマイクロキャリアは、二つの反対側の活性層を含み、それぞれボディの上面上の第1の活性層、及びボディの底面上の第2の活性層である。
第1の活性層及び/又は第2の活性層は、光学特性若しくは磁気特性を有する材料、多結晶シリコン及び/又はポリテトラフルオロエチレン、又は、高屈折率を有する金属層を含み得る。
光学特性を有する材料を用いることは、マイクロキャリアの対応する表面から放出される蛍光信号を実質的に増加させるであろう。磁気特性を有する材料は、例えば、所望の方向にマイクロキャリアを配向させるために用いられ得る。多結晶シリコンの使用は、上記表面上に被覆されることになる有効面積を増加させるために、ボディの対応する表面の空隙率を増加させる。最後に、ポリテトラフルオロエチレンが、マイクロキャリアと、分析の間にそれが置かれる表面との間の摩擦を減少させるために用いられ得る。
第1の活性層及び/又は第2の活性層は、酸化物若しくは窒化物、例えば二酸化ケイ素、又は金属層を含み得る。
二酸化ケイ素は、ボディの対応する表面を滑らかにするために、及び上記表面上の非特定の分子の滑りを増加させるために用いられ得る。従って、上記表面に結合した分子によって放出される特定の信号は強化され、一方で非特定の分子から放出される干渉する信号は大幅に低減される。
また、本発明は、本発明による方法によって得られるマイクロキャリアに関するものであり、第1の活性層によって覆われた上面、及び第2の活性層によって覆われた底面を有するボディを含む。
ボディの上面及び底面の両方が、光学特性を有する材料(光学層)を含む活性層によって覆われるとき、マイクロキャリアの配向がどんなでも、信頼性のある分析が実施され得る。
本発明はより良く理解されることができ、本発明の他の詳細、特徴及び優位点は、添付の図面を参照して非制限的な実施例によって為された以下の説明を読むことで現れる。
従来技術によるマイクロキャリアの上面斜視図を示す。 分析の間に観察される、従来技術によるマイクロキャリア上の蛍光発光を示す。 従来技術による製造方法における、光学層の堆積前のマイクロキャリアのバッチの上面斜視図を示す。 本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。 本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。 本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。 本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。 本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。 本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。 本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。 本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。 本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。 本発明の他の一つの実施形態を示す。 本発明の他の一つの実施形態を示す。 本発明の他の一つの実施形態を示す。 本発明の他の一つの実施形態を示す。 本発明の他の一つの実施形態を示す。 分析の間に観察される、本発明によるマイクロキャリア上の蛍光発光を示す。
本発明によるマイクロキャリアの製造方法は、図6から17を参照して説明されるであろう。この方法は以下の連続的な段階を含む。
図4に示される第1の段階は、底部層7、上部層8、及び、上記底部層7と上部層8との間に位置する絶縁層9を含むサンドイッチ構造を有するウエハー6を提供する段階にある。
例えば、上記ウエハー6は、100mmの直径、380μmの厚さの底部層7、1μmの厚さの絶縁層9及び10μmの厚さの上部層8を有するSOI(シリコンオンインシュレータ―)ウエハーである。上部層8及び底部層7は単結晶シリコンで作製され、絶縁層9は二酸化ケイ素で作製される。
図5に示される第2段階は、上部層8の上へ感光性レジスト層10を適用する段階にある。マイクロキャリアの表面レイアウトを画定するために、感光性レジスト層10は、クロム/ガラスマスク等のマスク(図示されない)を通してUV光が照射される。マイクロキャリアレイアウトに対応するマスクにおけるオープンパターンは、空間選択的なUV照射を提供する。光開始剤は反応し、レジスト層10の重合を開始し、レジストは空間選択的に照射される。その後、特定の化学が、暴露されていないレジスト及び反応していないレジストを除去するために用いられる。硬化したレジストの残りのパターンは、マイクロキャリアの外径形状を画定する。
本明細書での好ましい実施形態では、硬化したレジストの残りのパターンは、図1に示される穴2及び3と同様の、マイクロキャリアのボディ11における一連の通り穴から成るバイナリ―符号等の符号をさらに画定する。
感光性レジスト10は、ポジティブフォトレジスト、又はネガティブフォトレジストであり得る。ポジティブレジストに関する一実施例は、Shipley Companyによって供給されるMICROPOSIT S 1805 PHOTO RESISTであり、ネガティブフォトレジストに関する一実施例は、Gersteltec Engineering Solutionsによって供給されるようなGM1040 SU−8 PHOTO EPOXYである。感光性レジスト層10は、スプレーコーティング、又は好ましくはスピンコーティング等の従来技術において既知の異なる技術によってウエハー6上に適用され得る。
図6に示される第3の段階は、上部層8をエッチング除去して、マイクロキャリアのボディ11の外側壁12を画定することにある。これは、DRIE(Deep Reactive Ion Etching)に基づく深掘りシリコンエッチングに関するボッシュプロセス等の、深掘り反応性シリコンエッチング(DRIE)によって実施され得る。
ボッシュプロセスは、文献“J.K. Bhardwaj, H. Ashraf, Proc. SPIE, 2639, 224 (1995); A. Schilp, M. Hausner, M. Puech, N. Launay,H. Karagoezoglu, F. Laermer, Advanced etch tool for high etch rate deep reactive ion etching in silicon micromachining production environment, Proceeding MST 2001, Dusseldorf”において開示される。深掘り反応性イオンエッチングは、文献“Madou MJ, 2002, Fundamentals of microfabrication, CRC Press”において開示される。
図7に示される第4の段階において、感光性レジスト10は、湿式化学浴において除去される。そのため、それは、マイクロキャリアの設計に従ってパターニングされた一連のボディ11を画定するきれいな単結晶シリコン層のままである。
図8に示される第5の段階は、ボディ11の上面14上に第1の活性層13を堆積する段階にある。また、堆積の間、第1の活性層13は、外側壁12の間に形成されるリセス15の底に堆積される。
第1の活性層13は、二酸化ケイ素を含む酸化物層等の、光学特性を有する層である。第1の層13の厚さは、赤い蛍光ラベルと動作するとき、およそ90nmと120nmとの間である。窒化物等の任意の他の誘電材料、又は金属層もまた用いられ得る。
PECVD(プラズマ強化化学気相堆積)、蒸着、又はスパッタリング(Madou MJ, 2002, Fundamentals of microfabrication, CRC Press)等の異なるタイプの酸化物堆積法が用いられ得る。PECVD技術からの二酸化ケイ素の堆積に関して、ジクロロシラン又はシラン及び酸素等のガスの混合物が、典型的には数百ミリTorrから数Torrまでの圧力で用いられ得る。二酸化ケイ素の堆積は、室温から300℃までの範囲に含まれる温度によって実施される。
図9に示される第6の段階は、第1の活性層13の上に、ポリマー層16、例えば、Brewer Science、Microchemical社及びAllresist社によってそれぞれ提供される、ProTEK、AZ PC 520D又はSX AR−PC 5000/40の参照下で知られる材料で作製される層、又はパリレン層を適用する段階にある。上記ポリマー層16の厚さは、1μmから100μmまでの間であり得る。このポリマー層は、例えば化学気相堆積(CVD)によって、又はスピンコーティングによって適用される。図10に示される第7の段階は、底部層7及び絶縁層9をエッチング除去する段階にある。
底部層7のエッチング除去は、底部層7の大部分をグラインディングすること、及び、SOIウエハーを水酸化カリウム浴内へディッピングすることにある浴エッチングによって底部層7の残りをエッチングすることによって実施される。その後、絶縁層9は、CHF(フルオロホルム)のプラズマエッチングによって、又はCFのプラズマエッチングによって、完全にエッチング除去される。絶縁層のエッチング速度は制御される。2層のマイクロキャリアを製造するために、本発明の第1実施形態による方法は、マイクロキャリアのボディ11の底面18上へ第2の活性層17を堆積することにある、図11に示される第8の段階を含む。また、二酸化ケイ素を含む酸化物層等の第2の活性層17は、光学特性を有する。第2の層17の厚さは、赤い蛍光ラベルと動作するとき、およそ90nmと120nmとの間である。窒化物等の任意の他の誘電材料、又は金属層もまた、用いられ得る。
第2の活性層17は、第1の活性層13の堆積に関して用いられた同一の方法によって堆積され得る。
その後、ポリマー層16は、例えば酸素プラズマによって、図12aに示されるように、2層のマイクロキャリア19を分離して、解放するために、エッチング除去される。エッチング速度は制御される。このような方法によって得られたマイクロキャリア19は各々、その上面14上の第1の活性層13、及びその底面18上の第2の活性層17を有するボディ11を含む。各々の活性層13、17は、ボディ11の対応する表面14、18を均一に、且つ連続的に覆う。
図13から17は、本発明による方法の他の一つの実施形態を示す。
この実施形態では、図8に示されるウエハー6は、同一の5つの段階によって得られる。
その後、第6の段階において(図13)、サポート21は、接着剤22の層によって覆われる。サポート21は例えばシリコン、石英又はガラスで作製されるウエハーであり、約300μmから700μmまでの厚さを有する。接着剤は例えば、WaferBOND HT10.10又はCR200と呼ばれる樹脂であり、Brewer Science社によって提供される。接着剤層22の厚さは約10μmから100μmであり、好ましくは約50μmである。
図14に示される第7の段階では、サポート21は、第1の活性層13に接触して付着する接着剤層22を通してウエハー6に結合される。このような結合は、好ましくはウエハー6、サポート21及び接着剤層22を圧縮し加熱することによって為される。
変形では、接着剤層22は、第1の活性層13上に直接適用され、サポート21は、接着剤層22の上へ適用される。
図15に示される第8の段階は、底部層7及び絶縁層9をエッチング除去することにある。このエッチング段階は、図10において実施されるものと同様である。
その後、第2の活性層17が、マイクロキャリアのボディ11の底面18上へ堆積され得る(図16)。
その後、サポート21は、接着剤層22を除去することによって、ウエハー6から分離される。このような除去は、接着剤層22を加熱することによって、又は溶媒を用いることによって為され得る。そのため、2層のマイクロキャリア19は、図17に示されるように、分離され、解放される。
サポート21は、マイクロキャリアの製造の間の、ウエハー6の取扱いを促進するために、強化された機械特性を提供する。
図13に示されるように、分析の間、各マイクロキャリア19の機能化された表面は、上述の“シャドー効果”が避けられるように、均一な蛍光信号を放出することになる。そのため、このようなマイクロキャリア19の使用は、分析の間の正確な定量的情報を提供する。
2層のマイクロキャリア19の使用は、分析の間にマイクロキャリアの配向を制御することが困難であるときに便利である。
逆に、マイクロキャリアの配向が制御され得る場合、ボディ11の上面14のみが活性層13によって覆われ得る。
この目的のために、本発明による方法の他の一つの実施形態は、図10に示される第7の段階の後にポリマー層16を直接エッチングすること、又は、図15に示される段階によって(avec)直接(ウエハー6からサポート21を分離するために)接着剤層22を除去することを提案する。
図12bに示されるようなこの実施形態では、活性層13を一つだけ有するマイクロキャリア20が解放される。この実施形態は、あまり複雑でない方法を含み、あまり高価でないマイクロキャリア20の製造を可能にする。
各実施形態において、解放されたマイクロキャリア19、20は、分析における使用まで、液体容器又は器において懸濁液にて保存され得る。各マイクロキャリア19、20は好ましくは、ディスクの形状に成形され、1μmと200μmとの間、例えば40μmの直径を有する。
本発明の他の実施形態は、本明細書の考察、及び本明細書で開示される発明の実施から当業者に明らかになるであろう。明細書及び実施例は単に例示的なものとして考えられ、本発明の真の範疇及び精神は以下の特許請求の範囲によって示されることが意図される。

Claims (12)

  1. (a)底部層(7)、上部層(8)、及び、前記底部層(7)と上部層(8)との間に位置する絶縁層(9)を含むサンドイッチ構造を有するウエハー(6)を提供する段階、
    (b)上部層(8)をエッチング除去して、マイクロキャリア(19、20)のボディ(11)の外側壁(12)を画定する段階、
    (c)ボディ(11)の少なくとも上面(14)上に第1の活性層(13)を堆積する段階、
    (d)第1の活性層(13)上に連続的なポリマー層(16、22)を適用する段階、
    (e)底部層(7)及び絶縁層(9)をエッチング除去する段階、
    (f)ポリマー層(16、22)を除去して、マイクロキャリア(19、20)を解放する段階、
    を含むマイクロキャリア(19、20)の製造方法。
  2. 段階(e)が、底部層(7)を選択的にエッチングするための第1のエッチングによって、例えばエッチング浴を用いることによって、且つ、絶縁層(9)を選択的にエッチングするための第2のエッチングによって、例えばドライエッチングによって為される、請求項1に記載の方法。
  3. ポリマー層(16)が、ドライエッチングによって除去される、請求項1又は2に記載の方法。
  4. 独特のマーク、例えば符号(2、3)が、例えば段階(b)と(c)との間で、マイクロキャリア(19、20)上に刻まれる、請求項1から3の何れか一項に記載の方法。
  5. 底部層(7)及び/又は上部層(8)が単結晶シリコンを含む、請求項1から4の何れか一項に記載の方法。
  6. 絶縁層(9)が二酸化ケイ素を含む、請求項1から5の何れか一項に記載の方法。
  7. ポリマー層(16)がパリレンを含む、請求項1から6の何れか一項に記載の方法。
  8. ポリマー層は、サポート(21)、例えばシリコン、石英又はガラスで作製されたウエハーを、ウエハー(6)へ結合させる接着剤層(22)である、請求項1、2及び4から6の何れか一項に記載の方法。
  9. 第2の活性層(17)が、例えば段階(e)と(f)との間で、マイクロキャリア(19)のボディ(11)の少なくとも底面(18)上に堆積される、請求項1から8の何れか一項に記載の方法。
  10. 第1の活性層(13)及び/又は第2の活性層(17)が、光学特性若しくは磁気特性を有する材料、多結晶シリコン及び/又はポリテトラフルオロエチレン、又は、高屈折率を有する金属層を含む、請求項1から9の何れか一項に記載の方法。
  11. 第1の活性層(13)及び/又は第2の活性層(17)が、酸化物、又は窒化物、例えば二酸化ケイ素、又は金属層を含む、請求項1から10の何れか一項に記載の方法。
  12. 第1の活性層(13)によって覆われた上面(14)、及び、第2の活性層(17)によって覆われた底面(18)を有するボディ(11)を含む、請求項9に記載の方法によって得られたマイクロキャリア(19)。
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