JP2007510894A - 対象液体を捕捉するための局在化区域を備える作業装置 - Google Patents
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Abstract
Description
先行の刊行物で、本発明の原理に関して報告しているものはない。しかしながら、検討された出願によると、本発明は、いくつかの特定の分野、小滴形成、微量体における操作、小滴又はスポットの高密度配列と類似する。
本発明は、操作装置であって、
対象液体に対して実質的に非湿潤性である活性表面を備える基板と、
上記活性表面上に形成され、上記対象液体の小滴の局在的な捕捉のための少なくとも1つの区域と、
上記小滴が上記捕捉区域によって捕捉される際に、操作区域が対象液体の小滴によって少なくとも部分的に覆われるように捕捉区域と共に配置される、少なくとも1つの操作区域と、
上記対象液体の小滴を上記捕捉区域上に残すことを可能とする、対象液体を供給する手段と
を備える操作装置を提供することによって、具体的には前述の要求、及び上記に説明される他の要求にも対応する。
対象液体を容器内へ導入し且つ対象液体をこの容器から取り出す手段を備える容器と、
上記容器内に設けられる本発明による操作装置又は本発明によるプレートと、
対象液体が容器内へ導入される際に、少なくとも1つの捕捉区域を覆い、その後対象液体が容器から取り出される際に、対象液体の小滴が上記捕捉区域により捕捉されたままとなるように配置される、対象液体を容器内へ導入し且つ対象液体を容器から取り出す手段と
を備える操作ボックスを提供することによっても前述の要求を満たす。
i)必須最終層であるAuを有する、Ti、Pt、Au、Pd、Ni、Al等から選択される1つ又は複数の金属層(支持体)の、気化又は噴霧による堆積。しかしながら、操作区域が電気化学マイクロセル(下記参照)であれば、このマイクロセルの電極が金から作成されることは好ましくない。
ii)捕捉区域を形成するための、フォトリソグラフィ及びその後の例えば化学エッチング浴槽中又はプラズマを含む気相中での金属のエッチングによる、金属層におけるユニットの確定。
iii)基板全体における絶縁材料(SiO2又はSi3N4)の堆積、並びにその後の、対象液体と接触すべき区域から絶縁材料を除去するための、フォトリソグラフィ及び化学エッチング浴槽中又はプラズマを含む気相中での局在的なエッチングによるユニットの確定。
iv)基板全体における、例えば基板を疎水性にするための、疎水性官能基を有するシラン、例えば1H,1H,2H,2H−ペルフルオロデシルトリクロロシランを用いたSiO2又はSi3N4のシラン処理による、対象液体に対して非湿潤性である活性表面の製造。次いで、得られた捕捉区域は、例えば、化学的に、例えばNaOH溶液で、電気化学的に、例えば1.2Vの電位を10秒間印加して、又は酸素プラズマによって洗浄される。操作区域が既に表面上に形成されていれば、必要に応じて、捕捉区域に使用されるのと同様の方法で続いて洗浄される。
v)例えば文献[10]に記載される方法でのチオールの物理吸着による、この装置が意図される対象液体に対して湿潤性である官能基を有する、ここでは金から作成される捕捉区域上の親水性障壁の製造。
x)基板全体における、例えば基板を疎水性とするための、疎水性官能基を有するシラン、例えば1H,1H,2H,2H−ペルフルオロデシルトリクロロシランを用いたSiO2又はSi3N4のシラン処理による、対象液体に対して非湿潤性である活性表面の製造。
y)捕捉区域(すなわち、湿潤性の帯(wetting band))が形成される区域を形成するための、フォトリソグラフィ及びその後の疎水性シランの化学的な、例えばNaOH溶液を用いた、又はプラズマを用いた分解による、ユニットの確定。
z)例えば、この装置が意図される対象液体に対して湿潤性である官能基を有するシラン、例えば上記の水溶液に対して湿潤性である官能基を有するシラン、例えばシランγ−アミノプロピルトリエトキシシランを用いたシラン処理による、捕捉区域の製造。文献[9]は、使用され得る方法を開示している。
α)最終層であるPt及びAuから選択される金属若しくは任意の他の貴金属、又はこれらの金属の合金から選択される金属を有する、上述の金属から選択される1つ又は複数の金属層(支持体)の気化又は噴霧による堆積。これはまた、カーボン、グラファイト、ITO等の堆積であってもよい。
β)1つ又は複数の電極及び1つ又は複数の電流インレット金属バンドを形成するための、例えば化学エッチング浴槽中又はプラズマを含むガス相中での金属のエッチングによる、金属層におけるユニットの確定。
γ)絶縁材料(SiO2又はSi3N4)の堆積、並びにその後の、官能化されるべき又は対象液体と接触すべき区域から絶縁材料を除去するための、フォトリソグラフィ及びその後の化学エッチング浴槽中又はプラズマを含む気相中での局在的なエッチングによるユニットの確定による、電流インレット金属バンドの製造。
σ)基板全体における、例えば基板を疎水性にするための、疎水性官能基を有するシラン、例えば1H,1H,2H,2H−ペルフルオロデシルトリクロロシランを用いたSiO2又はSi3N4のシラン処理による、対象液体に対して非湿潤性である活性表面の製造。電極は次に、例えば、化学的に、例えばNaOH溶液で、電気化学的に、例えば1.2Vの電位を10秒間印加して、又はプラズマによって洗浄される。操作区域が既に表面上に形成されていれば、必要に応じて、例えば電極に使用されるのと同様の方法で続いて洗浄される。
ε)装置が意図される対象液体に対して湿潤性である官能基を有する導電性ポリマーの、定電位型、定電流型又は反復走査型(repeated scanning)の電解重合による、(操作区域が電気化学マイクロセルである場合に)本発明による1つの装置当たり複数の電極が存在するのであれば最も外側の、電極上の親水性障壁の製造。湿潤性ポリマー及び湿潤性官能基の例は上記に挙げられる。
活性表面となるように選択される表面を備える基板を準備する工程と、
操作区域を、基板の選択された表面上に形成するために、基板の選択された表面を構造化する工程と、
装置が意図される対象液体に対して実質的に非湿潤性とするために、選択された表面に処理を適用する工程と、
対象液体の小滴用の捕捉区域を形成するために、選択された表面を構造化する工程と
を含み、
操作区域を形成するために表面を構造化する工程、及び捕捉区域を形成するために表面を構造化する工程を実行して、その結果、操作区域は、捕捉区域が対象液体の小滴を捕捉する際、操作区域が上記小滴によって少なくとも部分的に覆われるように、捕捉区域と共に配置される、本発明の装置を製造する方法に関する。
捕捉区域を覆うための、容器、すなわち流体チャンバの、対象液体による完全又は部分的な充填、次いで
液体のチャンバからの取り出し、
で概略的に示され得る。
300nmの酸化ケイ素(SiO2)の上層を有するシリコン(Si)基板を疎水性シラン(1H,1H,2H,2H−ペルフルオロデシル−トリクロロシラン)で処理して、表面を疎水性とする。
300nmのSiO2層を有するSiの基板上で、マイクロエレクトロニクス分野の熟練者にとっては基本的な工程、
噴霧による白金(Pt)の300nmの堆積、
電流インレットバンドと連結する円形ユニットの穴形状(opening)を有する感光性樹脂を用いるフォトリソグラフィ、
プラズマリアクタにおける、樹脂の無い区域でのPtの完全なイオンエッチング、
硝酸浴中での樹脂の除去、
プラズマリアクタにおける、SiO2の500nmの化学蒸着、
円形ユニットの穴形状を有する感光性樹脂を用いるフォトリソグラフィ、
プラズマリアクタにおける、樹脂の無い区域でのSiO2の500nmの完全なイオンエッチング、及び
硝酸浴中での樹脂の除去
が実行される。
Siの基板上で、工程(これらの工程は全てマイクロエレクトロニクス分野の熟練者にとって既知である)、
リングの形をとるユニットの穴形状を有する感光性樹脂を用いるフォトリソグラフィ、
プラズマリアクタにおける、ブラックシリコンを形成するための、文献[11]に記載されるプロトコルによるシリコンの約3μmのイオン反応性エッチング、
Plassys MDS 150プラズマリアクタ(Plassis社、フランス)内の通過による、以下の条件、電力500W、反応時間4分、圧力21.33Pa(160mTorr)、酸素流速25cm3/min.、常温でのエッチングの最後における表面の洗浄、及び
硝酸浴中での樹脂の除去
が実行される。
4.1 捕捉電極の形態をとる捕捉区域:
300nmのSiO2層を有するSiの基板上で、以下の工程が実行される。
α)実施例2と同様の工程が実行され、電極(支持材料)を活性表面上に設ける。
β)対象液体に対して非湿潤性である活性表面が基板表面全体に亘って製造され、実施例1と同様に表面を疎水性とする。電極は続いて化学的に水酸化ナトリウム/水/エタノールの溶液によって洗浄される。これを行うために、3.5Mの水酸化ナトリウム/水/エタノールの混合物の小滴を電極上に2時間、常温で付着させる。電極は次に水によって洗浄され、その後乾燥される。
γ)付加実験では、親水性障壁を電極上に、3位にアルコール官能基(水性の対象液体に対して湿潤性である官能基)を有するピロールの定電圧電解重合によって製造した。このポリピロールは100mMのピロール−3−エタノールと0.5Mの過塩素酸リチウム(LiClO4)との溶液から生成される。Ag/AgCl/Cl−の電位に対して1Vの電位が5秒間印加される。電極上の水で測定された接触角は53°である。
300nmのSiO2層を有するSiの基板上で、以下の工程が実行された。
α)対象液体に対して非湿潤性である活性表面が基板全体に亘って製造され、実施例1と同様に表面を疎水性とする。
β)捕捉区域(すなわち湿潤性の帯)を形成するための、リングの形をとるユニットの穴形状を有するネガ型感光性樹脂(参考品は供給者シップレー社(Shipley)のNFR−015)を用いるフォトリソグラフィ。
γ)Plassys MDS 150プラズマリアクタ(Plassys社、フランス)内の通過による、以下の条件、電力500W、反応時間4分、圧力21.33Pa(160mTorr)、酸素流速25cm3/min.、常温での感光性樹脂のオープンユニットにおける疎水性シランの分解。
δ)アミン官能基(対象液体に対して湿潤性である官能基)を有するシランを用いたシラン処理による捕捉区域の製造。基板は、エタノール中の体積比で10%のγ−アミノプロピルトリエトキシシランの溶液中に放置される。一晩常温で放置した後、基板をエタノールで洗浄し、最後にインキュベータ内に110℃、3時間放置した。
本実施例において、4つの電極を備えるチップが製造され、使用される。300nmのSiO2層を有するSi基板上に、マイクロエレクトロニクス分野の熟練者にとっては基本的な工程、
噴霧による白金(Pt)の300nmの堆積、
マイクロセル、捕捉電極及び電流インレットバンドのユニットの穴形状を有する感光性樹脂を用いるフォトリソグラフィ、
プラズマリアクタにおける、樹脂の無い区域でのPtの完全なイオンエッチング、
硝酸浴中での樹脂の除去、
プラズマリアクタにおける、SiO2の500nmの化学蒸着、
マイクロセルの電極及び捕捉電極のユニットの穴形状を有する感光性樹脂を用いるフォトリソグラフィ、
プラズマリアクタにおける、樹脂の無い区域でのSiO2の500nmの完全なイオンエッチング、及び
硝酸浴中での樹脂の除去
が実行される。
10mlの0.2MのAgNO3、2MのKcl、0.5mMのNa2S2O3を含有する溶液の調製、
飽和カロメル電極(SCE)の電位に対して−0.65Vの電位が、参照電極に(クロノアンペロメトリに従って)90秒間印加される。灰色/白の堆積物が得られる。操作区域は次いで水で洗浄され、且つ
事前に改質された電極を有する操作区域は0.1MのHCl溶液中に浸漬され、SCEの電位に対して0.5Vの電位を30秒間印加して、銀の堆積物を塩素化処理する。基板は続いて水で洗浄される。
左側には、装置が視覚化溶液によって覆われる前の、小滴を含まない本発明の装置が識別され、且つ
右側には、視覚化溶液が吸い出された後の、捕捉区域(親水性帯)によって視覚化溶液の小滴が捕捉された本発明の装置が識別される。
本実施例において、実施例5のように表面を疎水性とした4つの電極を有するシステムが利用される。親水性障壁及び生物学分子のグラフトが、以下のプロトコルによって製造される。
A)捕捉区域を構成する親水性障壁の製造。親水性障壁は実施例4.1のように製造される。
B)ピロール、オリゴヌクレオチドによって官能化されたピロール及び0.1MのLiClO4支持電解質を含有する電解液の構成部材上への導入。溶液が吸い出された後、操作区域(電気化学マイクロセル)上にうまく局在化された電解液の小滴が残り、図5の右側の写真に示されるのと同様の結果を与える。定電圧電解重合がその後、対電極(Ag/AgCl/Cl−に対して1V)上で2秒間行われる。オリゴヌクレオチドを有するポリピロールが次いで、操作区域上に排他的に堆積される。
7.1 ボックスの製造
ポリジメチルシロキサン(PDMS)の中空カバーが、1mmのオーバーフィット(overfit)を有する正方形ユニットのガラスの型上で成形によって製造される。
上記のボックスの操作が試験される。図7は、図8のボックスB1の操作を示す。対象液体Eは、開口の1つ(o)を介してボックス内へ注入されて(7a)ボックスを満たさし(7b)、その後他方の開口(s)を介して取り出される。用いられる注入手段は、シリンジであり、用いられる排出手段もシリンジである。
[1]国際公開第02/16023号パンフレット:プロトジーン・ラボラトリーズ・インコーポレーテッド(Protogene Laboratories Inc.)
[2]米国特許第6,040,193号明細書:アフィメトリックス インコーポレイテッド(Affymetrix Inc.)
[3]国際公開第99/03684号パンフレット:イーペン・セイジ(Eapen Saji)他
[4]アゼック(Azek)他著、Analytical Biochemistry, 2000年, 284, 107〜113頁
[5]国際公開第00/36145号パンフレット:コミッサリア ア レネルジー アトミーク(Commissariat a l'Energie Atomique)[原子力委員会(Atomic Energy Commission)]
[6]国際公開第02/090573号パンフレット:インフィネオン(Infineon)
[7]ジョンフン・リー(Junghoon Lee)他著「マイクロスケール液体の取り扱いのためのエレクトロウェッティング及び誘電体上のエレクトロウェッティング(Electrowetting and Electrowetting-on-dielectric for microscale liquid handling)」、Sensor and Actuators A 95, 2002年, 259〜268頁
[8]J.クーパー(J. Cooper)他著、「サブナノリッタ容量での電気化学測定用マイクロマシニングセンサ(Micromachining Sensor for Electrochemical Measurement in Subnanoliter Volumes)」、Anal. Chem. 1997年, 69, 253〜258頁
[9]メングス・ヤン(Mengsu Yang)他著、「固相DNAハイブリダイゼーション及び増幅のための改質ガラス/シリコン表面上のオリゴヌクレオチドの共有結合固定(Covalent Immobilisation of Oligonucleotides on Modified Glass/Silicon Surfaces for Solid-Phase DNA Hybridization and Amplification)」、Chemistry Letters 1998年, 257〜258頁
[10]ミラ・ボンチェヴァ(Mila Boncheva)他著、「インターフェースにおけるヌクレオチド配列の設計(Design of Oligonucleotide Arrays at Interfaces)」、Langmuir 1999年, 15, 4317〜4320頁
[11]H.ヤンセン(H. Jansen)他著、「ブラックシリコン法:プロファイル制御によりディープシリコントレンチエッチングにおけるフッ素系反応性イオンエッチャーのパラメータ設定を確定する汎用法(The black silicon method: a universal method for determining the parameter setting of a fluorine-based reactive ion etcher in deep silicon trench etching with profile control)」、J. Micromech. Microeng. 5, 1995年, 115〜120頁
[12]仏国特許出願公開第2,818,662号明細書
[13]欧州特許第561,722号明細書
Claims (42)
- 操作装置であって、
対象液体に対して実質的に非湿潤性である活性表面(Sa)を備える基板と、
前記活性表面上に形成され、前記対象液体の小滴の局在的な捕捉のための少なくとも1つの区域(Zc)と、
前記捕捉区域と共に配置される少なくとも1つの操作区域(Zt)であって、前記小滴が該捕捉区域によって捕捉される際に、前記操作区域が前記対象液体の前記小滴によって少なくとも部分的に覆われるように、前記捕捉区域が前記操作区域を連続的又は不連続的に取り囲む、少なくとも1つの操作区域(Zt)と、
前記対象液体の小滴を前記捕捉区域上に残すことを可能とする、前記対象液体を供給する手段と
を備える操作装置。 - 少なくとも1つの捕捉区域が、環状形、星型、矩形、正方形、三角形、楕円形又は4〜20個の辺を有する多角形から選択される、開放形状又は閉形状を有し、且つ少なくとも1つの操作区域を取り囲む請求項1に記載の装置。
- 対象液体の小滴のための捕捉区域が、複数の操作区域を取り囲む請求項1に記載の装置。
- 前記捕捉区域が、対象液体の小滴の化学的、電気的又は物理的な捕捉のための区域である請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
- 前記捕捉区域が、毛管力によって前記小滴を捕捉することを可能とする前記活性表面上の凹部又は凸部である請求項1に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの捕捉区域が、ウェッティングによる捕捉のための電極である請求項1に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの捕捉区域が、ブラックシリコンから成る請求項1に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの捕捉区域が、エレクトロウェッティングによる捕捉のための電極である請求項1に記載の装置。
- 前記ウェッティングによる捕捉のための電極は、貴金属、貴金属合金、カーボン、グラファイト及びITOから成る群より選択される材料から成り、該材料は前記対象液体に対して湿潤性である化学官能基が結合される導電性ポリマー材料上への電着によって湿潤性となる請求項6に記載の装置。
- 前記捕捉区域は、前記対象液体に対して湿潤性である化学官能基の材料上へのグラフト化より湿潤性となる材料から成る請求項1に記載の装置。
- 前記材料が、シリコン、酸化ケイ素、ガラス、窒化ケイ素及び有機ポリマー、並びに金属又は合金から成る群より選択される請求項10に記載の装置。
- 前記材料への前記グラフト化が、前記湿潤性化学官能基を有するシランによるシラン処理によって実行される請求項11に記載の装置。
- 前記ウェッティングによる捕捉のための電極が、前記対象液体に対して湿潤性である化学官能基が結合されるチオールの物理吸着によって湿潤性となる金電極である請求項6に記載の装置。
- 前記対象液体は水性であるため、該対象液体に対して湿潤性である前記化学官能基が、アルコール、アルコキシド、カルボン酸、カルボキシレート、スルホン酸、スルホネート、オキシアミン、ヒドラジン、アミン及びアンモニウム官能基から成る群より選択される請求項9〜13のいずれか1項に記載の装置。
- 前記対象液体は水性であるため、前記少なくとも1つの捕捉区域が親水性区域であり、且つ前記実質的に非湿潤性である活性表面が疎水性である請求項1に記載の装置。
- 前記捕捉区域及び該捕捉区域と共に配置される前記操作区域が、前記活性表面に対して凹部内又は凸部上に設けられ得る請求項1〜15のいずれか1項に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの操作区域が、前記対象液体の小滴との電気的相互作用及び/又は化学的相互作用を有する区域である請求項1〜16のいずれか1項に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの操作区域が、電気化学マイクロセルである請求項17に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの操作区域が、前記対象液体が捕捉される際に、該対象液体の小滴中に存在し得る少なくとも1つの化学種又は生物学種の検出のための区域である請求項1〜18のいずれか1項に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの操作区域が、前記対象液体が捕捉される際に、該対象液体の小滴中に存在し得る標的と相互作用するよう意図されるプローブによって官能化される区域である請求項1〜18のいずれか1項に記載の装置。
- 前記ウェッティングによる対象液体の小滴の捕捉のための電極が、前記操作区域である前記電気化学マイクロセルの操作のための電極としても使用される請求項6、9〜14のいずれか1項に基づく場合、請求項18に記載の装置。
- 前記ウェッティングによる対象液体の小滴の捕捉のための電極が、前記操作区域である前記電気化学マイクロセルの操作のための電極としても使用され、且つ前記電極が、前記対象液体の小滴中に存在し得る標的と相互作用するよう意図されるプローブによって官能化される請求項9に基づく場合、請求項17又は18に記載の装置。
- 前記プローブが、前記湿潤性官能基を有する導電性ポリマーと結合される請求項22に記載の装置。
- 前記導電性ポリマーが、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアズレン、ポリチオフェン、ポリインドール、ポリフラン及びポリフルオレンから成る群より選択される請求項9、22又は23に記載の装置。
- 前記プローブが、酵素、酵素基質、オリゴヌクレオチド、オリゴヌクレオシド、タンパク質、真核細胞又は原核細胞の膜受容体、抗体、抗原、ホルモン、生体の代謝物、生体の毒、ポリヌクレオチド、ポリヌクレオシド及び相補的DNAから成る群より選択される請求項20、22〜24のいずれか1項に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの操作区域が、光学センサ、電気センサ、磁気センサ、静電気センサ、機械センサ、熱センサ及び化学センサから成る群より選択されるセンサである請求項1〜16のいずれか1項に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの操作区域が、光学アクチュエータ、電気アクチュエータ、磁気アクチュエータ、静電気アクチュエータ、機械アクチュエータ、熱アクチュエータ及び化学アクチュエータから成る群より選択されるアクチュエータである請求項1〜16のいずれか1項に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの操作区域が、前記対象液体に対して実質的に非湿潤性である区域である請求項1に記載の装置。
- 前記活性表面が、シリコン、酸化ケイ素、ガラス、窒化ケイ素、有機ポリマー、金属又は合金から成る群より選択される材料から成る表面である請求項1〜28のいずれか1項に記載の装置。
- 請求項1〜29のいずれか1項に記載の、複数の同一又は異なる操作装置を備える操作プレート。
- 前記操作装置が配列を形成する請求項30に記載の操作プレート。
- 前記局在的な捕捉区域上に対象液体の小滴を残す前記手段が、捕捉区域当たり対象液体一滴とするディスペンサである請求項1〜29のいずれか1項に記載の装置、又は請求項30又は31に記載のプレート。
- 操作ボックスであって、
対象液体を容器内へ導入し且つ対象液体を該容器から取り出す手段を備える容器と、
前記容器内に設けられる請求項1に記載の操作装置、又は請求項30又は31に記載のプレートと、
前記象液体が前記容器内へ導入される際に、該対象液体が前記少なくとも1つの捕捉区域を覆い、その後前記対象液体が該容器から取り出される際に、対象液体の小滴が前記捕捉区域により捕捉されたままとなるように配置される、前記対象液体を前記容器内へ導入し且つ該対象液体を該容器から取り出す手段と
を備える操作ボックス。 - 前記対象液体を前記容器から取り出す前記手段が、注入口を介してガス流体を注入して、それによって前記対象液体を排出口を介して前記容器から追い出すことによって取り出すポンプから成る請求項33に記載の操作ボックス。
- 前記容器の前記注入口を介して前記ガス流体を注入するための前記ポンプが、注入される前記ガス流体を前記対象液体の蒸気で飽和させる機器を備える請求項34に記載の操作ボックス。
- 前記対象液体を前記容器から取り出す前記手段が、該対象液体を吸引することによって該容器から取り出すように設けられる吸引ポンプから成る請求項33に記載の操作ボックス。
- 請求項1〜29のいずれか1項に記載の1つ以上の操作装置、又は請求項30又は31に記載のプレートを備えるシステム。
- 請求項33〜36のいずれか1項に記載の操作ボックスを備えるシステム。
- 請求項1〜29のいずれか1項に記載の操作装置、又は請求項30又は31に記載のプレートを備える生物学的チップ。
- 前記チップが、核酸チップ、抗体チップ、抗原チップ、タンパク質チップ及び細胞チップから成る群より選択される請求項39に記載の生物学的チップ。
- 請求項39又は40に記載の生物学的チップを備えるボックス。
- 請求項1に記載の装置を製造する方法であって、
前記活性表面となるように選択される表面を備える基板を準備する工程と、
操作区域を、前記基板の選択された表面上に形成するために、前記基板の選択された表面を構造化する工程と、
前記装置が意図される前記対象液体に対して実質的に非湿潤性とするために、前記選択された表面に処理を適用する工程と、
対象液体の小滴のための捕捉区域を形成するために、前記選択された表面を構造化する工程と
を含み、
前記操作区域を形成するために前記表面を構造化する工程及び前記捕捉区域を形成するために前記表面を構造化する工程を実行し、その結果、該捕捉区域が対象液体の小滴を捕捉する際に、該操作区域が該小滴によって少なくとも部分的に覆われるように、該捕捉区域が該操作区域を連続的又は不連続的に取り囲むように該操作区域を該捕捉区域と共に配置する、装置を製造する方法。
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