JP2015517871A - Ｌｉｏｂベースの皮膚トリートメントシステム - Google Patents

Abstract

光ベースの皮膚トリートメント装置１０、２０、３０を有する、皮膚トリートメントシステムが提供される。装置１０、２０、３０は、毛又は皮膚組織を処置するためのトリートメント用光ビーム２１を供給するためのトリートメント用光源１８、トリートメント用光ビーム２１が装置１０、２０、３０を出ることを可能とするための透明な出射窓１４、及びトリートメント用光ビーム２１が出射窓１４を通る位置を制御するための出射位置制御ユニット１７、を有する。該システムは更に、検出用光ビームを供給するための検出用光源を有する。該皮膚トリートメントシステムは更に、出射窓１４を少なくとも１回少なくとも部分的に通過した後の検出用光ビーム２１を検出するための検出ユニット１５と、検出ユニット１５からの検出信号を解析して、出射窓１４の外側面における損傷した領域を見出し、トリートメント用光ビーム２１が該損傷した領域を通過することを回避するように、出射位置制御ユニット１７を制御するように構成された制御回路１６と、を有する。

Description

本発明は、光ベースの皮膚トリートメント装置であって、毛又は皮膚組織を処置するためのトリートメント用光ビームを供給するためのトリートメント用光源、及び前記トリートメント用光ビームが前記装置を出ることを可能とするための透明な出射窓を有する光ベースの皮膚トリートメント装置を有する、皮膚トリートメントシステムに関する。

本発明は更に、斯かるシステムにおける使用のためのドッキングステーションに関する。

斯かる光ベースの皮膚トリートメント装置は、例えばレーザ誘起光学破壊（ＬＩＯＢ）ベースのしわトリートメント又はシェービングのために利用されている。光ベースのしわトリートメントにおいては、該装置は、処置されるべき皮膚の真皮において焦点を生成する。レーザのパワーは、皮膚組織の再成長を促し、それによりしわを少なくするように、ＬＩＯＢが皮膚に影響を及ぼすように選択される。光ベースのシェーバにおいては、入射光ビームが毛の中で合焦させられ、ＬＩＯＢによって毛が切断される。

例えば、国際特許出願公開WO2005/011510として公開された国際特許出願は、所定のパルス時間の間にレーザビームを生成するためのレーザ光源と、レーザビームを焦点へと合焦させるための光学系と、目標位置に該焦点を位置決めするためのレーザビーム操作器と、を有する、毛を短くするための斯かる装置を記載している。該焦点の寸法、及び生成されるレーザビームのパワーは、該焦点において、レーザビームが、毛組織についての特徴的な閾値を超えるパワー密度を持つようなものとされ、該閾値の上では、所定のパルス時間の間、毛組織においてレーザ誘起光学破壊（ＬＩＯＢ）現象が生じる。

一般に、レーザ誘起光学破壊（ＬＩＯＢ）は、焦点におけるレーザビームのパワー密度が、特定の媒体に特徴的な閾値を超えたときに、パルス状の該レーザビームの波長に対して透明又は半透明な該媒体において生じる。該閾値の下では、当該媒体は、該レーザビームの波長に対して、比較的低い線形吸収特性を持つ。

該閾値の上では、該媒体は、該レーザビームの波長に対して、大きな非線形吸収特性を持ち、このことは該媒体のイオン化及びプラズマの形成の結果である。当該ＬＩＯＢ現象は、キャビテーションや衝撃波の生成といった幾つかの力学的な影響に帰着し、ＬＩＯＢ現象の位置の周囲において該媒体を損傷させてしまう。

実験により、ＬＩＯＢ現象は、皮膚から伸びる毛を破壊し短くするために利用され得ることが分かった。毛組織は、約５００ｎｍと２０００ｎｍとの間の波長に対し、透明又は半透明である。当該範囲内の波長の各値に対して、焦点におけるレーザビームのパワー密度が、毛組織について特徴的な閾値を超えたときに、焦点の位置において毛組織においてＬＩＯＢ現象が生じる。該閾値は、水性媒体及び組織について特徴的な閾値に近く、レーザビームのパルス時間に依存する。とりわけ、望ましいパワー密度（Ｗ／ｃｍ^２）の閾値は、パルス時間が増大すると減少する。有意な損傷即ち毛の初期破壊を引き起こすのに十分に効果的なＬＩＯＢ現象の結果としての力学的効果を達成するためには、例えば１０ｎｓといったオーダーのパルス時間が十分であると考えられる。このパルス時間の値のためには、焦点におけるレーザビームのパワー密度の閾値は、２×１０^１０Ｗ／ｃｍ^２のオーダーとなる。上述したパルス時間、及び例えばかなり大きな開口数を持つレンズによって得られるかなり小さな焦点サイズに対して、当該閾値は、数十ｍＪの総パルスエネルギーだけで得られることができる。

国際特許出願公開WO2005/011510の装置を用いると、小型のガラス「刃」を通って該装置から出る、人間の毛を切断するのに十分なエネルギーを持つ入射ビームから、レーザ誘起光学破壊（ＬＩＯＢ）を生成することが可能であるが、ＬＩＯＢの副産物（衝撃波、プラズマ、高い照度）が、出射面に破壊的な損傷を引き起こし得る。損傷した刃は、望ましい位置においてしっかりとした焦点を提供する該装置の能力に悪影響を及ぼし、シェービング工程の有効性を損ない、及び／又は、皮膚の炎症といった不都合な副作用の出現を増加させ得る。ＬＩＯＢにより引き起こされる出射窓に対する損傷と同様の問題が、しわトリートメントのための光ベースのしわ処置用装置においても生じ得る。

本発明の目的は、ＬＩＯＢにより引き起こされる損傷が低減させられた、皮膚トリートメントシステムを提供することにある。

本発明の第１の態様によれば、本目的は、光ベースの皮膚トリートメント装置と、検出用光源と、検出ユニットと、制御回路と、を有する、皮膚トリートメントシステムを提供することにより達成される。前記光ベースの皮膚トリートメント装置は、毛又は皮膚組織を処置するためのトリートメント用光ビームを供給するためのトリートメント用光源、前記トリートメント用光ビームが前記装置を出ることを可能とするための透明な出射窓、及び前記トリートメント用光ビームが前記出射窓を通る位置を制御するための出射位置制御ユニット、を有する。前記検出用光源は、検出用光ビームを供給するために備えられる。前記検出ユニットは、前記出射窓を少なくとも１回少なくとも部分的に通過した後の前記検出用光ビームを検出するために備えられる。前記制御回路は、前記検出ユニットからの検出信号を解析して、前記出射窓の外側面における損傷した領域を見出し、前記トリートメント用光ビームが前記損傷した領域を通過することを回避するように、前記出射位置制御ユニットを制御するように構成される。

皮膚トリートメント装置が毛又は皮膚組織を処置するためにＬＩＯＢ現象を利用する場合、ＬＩＯＢ現象により損傷が引き起こされ得る。以下、ＬＩＯＢベースのトリートメント及びＬＩＯＢにより引き起こされる損傷を参照しながら、本発明が説明される。しかしながら、光ベースの皮膚トリートメントは、ＬＩＯＢを用いずに行うことも可能であり、他の原因によって損傷が引き起こされ得ることは、留意されるべきである。トリートメント用光ビームが出射窓の他の面の損傷した部分を通過することを防止することにより、出射窓の外側面における予測不可能な散乱事象が回避される。予測されない散乱挙動は、例えば望ましくない位置においてＬＩＯＢ現象が起こることに導き得るものであり、又は起こるべき位置にＬＩＯＢが生成することを妨げ得るものである。更に、外側部分の既に損傷した領域の近くで生じるＬＩＯＢは、影響を受けていない領域の近くで生じるよりも、破壊的となり得る。

トリートメント用光ビームと検出用光ビームとの両方を提供するために、１つの共通光源が用いられても良い。トリートメント用光ビームと検出用光ビームとは、好適には同様の又は同一の光学特性を持ち、同じ入射ビームがトリートメント用及び検出用に同時に利用されても良い。以下、他に言及がない限り、１つの光源を持ち、１つの入力光ビームを提供するシステムを想定する。しかしながら、検出用光ビームは、トリートメント用光ビームとは、異なる強度、波長又はパルスパターンを持っていても良い。

出射位置制御ユニットは、以下の方法のうち１つ以上により実現され得る。出射窓は、新しい位置へと移動させられ、光ビームが出射窓の異なる部分を通過するようにされても良い。同様の結果を得るため、トリートメント用光源自体が出射窓に対して変位させられても良い。代替としては、外側面の損傷した部分を光ビームが通過する必要がないように、トリートメント用光ビームの皮膚への経路を変化させるために、ミラー及び／又はレンズのような合焦要素が回転又は変位させられても良い。

出射位置制御ユニットが皮膚の領域に亘ってトリートメント用光ビームを走査するように構成される場合、このことは、トリートメント用光源を適宜起動及び停止することにより、出射窓の損傷した領域をトリートメント用光ビームが通過することを防止し得る。例えば、トリートメント用光源の起動が、トリートメント用光ビームが損傷した領域を通過させるように、出射位置制御ユニットが配置される場合には、トリートメント用光源が停止されても良い。

本発明によるシステムの一実施例においては、前記制御回路は、同じ又は略同じ位置において少なくとも２つの時点に前記出射窓を通る前記検出光ビームにより生成された、前記検出ユニットからの少なくとも２つの検出信号を解析し、前記少なくとも２つの検出信号が、前記外側面における前記検出用光ビームの類似する異常散乱プロファイルを呈する場合に、前記外側面における特定の領域を損傷した領域と決定するように構成される。

ここで異常とは、散乱プロファイルが、清浄で損傷していない出射窓面から予測される散乱プロファイルとは著しく異なることを意味する。外側面における損傷及び汚れは、散乱プロファイルの変化に導く。毛、皮膚、埃又はごみのような、出射窓の外側面に付着し得る汚れは、動的な性質を持ち、時間経過につれて一定にとどまらない。２つの測定の間、例えば皮膚表面上での皮膚トリートメント装置の移動、又はＬＩＯＢにより引き起こされる衝撃波が、外側面から望ましくない特性を取り除き得る。しかしながら、局所化された損傷は、異なる時刻を表す２つの検出信号を解析する場合に認識され得る、一定の特性を引き起こす。

検出信号は、出射窓から散乱される検出用光ビームの一部により生成される。典型的には、１つ以上の波長における当該散乱された光の強度が測定される。出射窓における「清浄な」スポットが、前もって決定された「未使用」状態における散乱信号に近い散乱信号に帰着する。時間経過に伴い、汚れ（一時的）又は損傷（永続的）という２つの効果が生じ得る。異なる時点における測定によって、損傷は汚れとは識別され得る。１つの選択肢は、洗浄サイクルの前と後とに又は別の日に測定を行うことである。このようにして、汚れが完全に又は部分的に取り除かれるであろう。それ故、散乱光の強度は、最初は「未使用」状態よりも低いものであったが、時間と共に変化して、一時的な汚れを示唆する。測定された散乱の強度が、元の「未使用」状態よりもかなり低く、且つ時間と共に変化しない（回復しない）場合には、出射窓の当該部分が損傷したことが結論され得る。この場合、対応する部分が、更なる使用から除外されても良い。代替としては、該システムは、全ての汚れが除かれるような洗浄ステップによって、出射窓を「未使用」状態に戻しても良い。次いで、単一の時点において散乱信号が測定される。該信号が予期される「未使用」状態の信号と著しく異なる場合、出射窓が損傷したと結論され得る。勿論、上述した方法の組み合わせ（洗浄ステップと、異なる時点における複数の測定と、の組み合わせ）が用いられても良い。

外側面の全体又は一部を走査するために、連続する線走査が為されても良い。線走査の間、光ビームが出射窓を通過する位置は、所定の線に沿って移動する。２つ以上の連続する線走査が、全く同一の軌道を辿っても良く、又は、例えば小さな距離だけが間にある２つの平行線をカバーしても良い。出射窓の外側面における２つの位置は、大きくても該外側面に対する小さな損傷の典型的なサイズの距離だけしか離れていない場合には、「略同じ位置にある」とみなされる。時間的な２つの対応する動きは、一時的な汚れが消えるのに十分に長く離されるべきである。外側面は好適には、２つの対応する動きの間に洗浄される。代替としては、外側面を皮膚に沿って外側面を引くことによって又はＬＩＯＢにより引き起こされる衝撃波によって、汚れが取り除かれる。

検出用光源、検出ユニット及び制御回路の一部は、皮膚トリートメント装置自体に含まれても良いし、又は皮膚トリートメント装置を受容するための別個のドッキングステーションに含まれても良い。トリートメント用光源が検出目的のためにも利用される場合には、該ドッキングステーションは自身の光源を必要としない。別個の検出用光源が利用される場合には、該光源はトリートメント装置に含まれても良いし、又は該ドッキングステーションに含まれても良い。該ドッキングステーションは更に、皮膚トリートメント装置を充電するため及び／又は外側面を洗浄するための手段を有しても良い。該ドッキングステーションにおける検出ユニットは、光ビームが損傷した部分を通過する必要性を回避することを可能とするため、該トリートメント装置の制御ユニット及び出射位置制御ユニットに結合されるべきである。当該結合は、有線通信手段によって実現されても良いし、又は無線通信手段によって実現されても良い。該皮膚トリートメント装置が毛検出器を有する場合には、該検出器は、損傷した部分を検出するために利用される検出ユニットとしても利用されても良い。

本発明の更なる態様によれば、以上に説明されたシステムにおける使用のためのドッキングステーションが提供される。

本発明のこれらの及び他の態様は、以下に説明される実施例を参照しながら説明され明らかとなるであろう。

本発明によるレーザシェーバを模式的に示す。 本発明による皮膚活性化装置を模式的に示す。 本発明による皮膚活性化装置とドッキングステーションとの組み合わせを模式的に示す。

図１は、本発明によるレーザシェーバ１０を模式的に示す。レーザシェーバ１０は、皮膚トリートメントのためにレーザ誘起光学破壊（ＬＩＯＢ）を利用する、皮膚トリートメント装置の一例である。本例においては、皮膚トリートメントは、十分なパワーを持つレーザビーム２１を毛３１のなかで合焦させることにより光学的に毛３１を切断することから成る。レーザビーム２１は、レーザダイオードを有しても良いレーザ光源１８により提供される。毛２２のＬＩＯＢ切断のため、例えば１０６４ｎｍにおける発光を持つパルス状のＮｄ：ＹＡＧレーザ又は１６４５ｎｍにおける発光を持つＥｒ：ＹＡＧレーザが利用される。

光ビーム２１は、透明な出射窓を介して、レーザシェーバ１０から出る。当該レーザシェーバ１０においては、該出射窓は、（該装置が動作状態であるときに）皮膚３５に略平行な方向に光ビーム２１を向ける、光学刃１４として実施化される。プロセッサ（図示されていない）が備えられ、例えば光源１８及び合焦装置１７の動作を制御するため光源１８及び合焦装置１７に結合される。

レンズ１２、ミラー１１及び光学刃１４のような光学要素が、パルス状のレーザビーム２１を毛３１において合焦させるために備えられる。光学要素１１、１２、１４は、必要なときに焦点２２の正確な位置を適合させるための合焦装置１７（図示されていない）によって調節可能であっても良い。該合焦装置は、光学要素１１、１２を回転及び／又は変位させることにより、光ビーム２１の正確な軌道及び焦点の位置を調節しても良い。光ビーム２１の軌道を調節することにより、光ビーム２１が出射窓１４を出る正確な位置も変化する。光学要素１１、１２、１４を制御するための合焦装置１７は、出射位置制御ユニット１７とみなされることもできる。本例においては、１つの制御ユニットが、光学要素１１、１２、１４の全ての構成を操作する。勿論、別個の制御ユニットが、例えばレンズ１２の位置又はミラー１１の向きのみを制御するために備えられても良い。代替としては、合焦装置１７の機能は、装置１０の動作全体を制御するための中央処理ユニット（図示されていない）に統合される。光ビーム２１の軌道を制御する代わりに（又はこれに加えて）、装置１０の筐体に対して出射窓１４を動かすことも選択肢の１つである。

皮膚３５又は毛３１に到達する光２１の部分は、皮膚３５又は毛３１の組織において反射又は散乱させられ、出射窓１４を通って装置１０に再び入る。図１のレーザシェーバ１０は更に、光ビーム２１が皮膚３５又は毛３１の組織において反射、散乱又はその他相互作用させられた後に、該光ビーム２１を検出するための、検出ユニット１５を有する。検出ユニット１５は、１つ以上の光ダイオードを有しても良い。該検出ユニットは、所定の偏光方向を持つ光のみを検出するように構成されても良い。該検出ユニットはまた、異なる偏光成分を別個に測定するための複数のチャネルを有しても良い。斯かる検出ユニット１５は通常、毛検出を実行するためレーザシェーバ１０のなかに備えられる。本例においては、斯かる検出ユニット１５は更に、出射窓／光学刃１４の外側面における損傷の検出のために利用される。反射光は検出器１５により検出され、該検出された光を表す検出信号が制御回路１６に供給される。該制御回路は、装置１０の全体的な動作を制御するための中央処理ユニット（図示されていない）の内蔵部分であっても良い。制御回路１６は、該検出信号を解析して、出射窓１４の外側面に損傷した領域があるか否かを決定する。制御回路１６が出射窓１４の外側面に損傷した領域を見出した場合には、合焦装置１７が、該損傷した領域に当たることなく光ビーム２１が出射窓１４を通過することができるように、光学要素１１、１２、１４の１つ以上の構成を制御する。該制御回路は更に、合焦装置１７を制御して、光ビーム２１の軌道、及び光ビーム２１が出射窓１４の外側面を通過する位置を調節するため、光源１８の位置又は構成を調節するように構成されても良い。

検出工程の間、合焦装置１７は、光ビーム２１を用いて、該外側面の全体又は一部を走査するために利用されても良い。表面損傷が検出された位置は、データベースに保存されても良い。レーザシェーバ１０の使用の間、斯かるデータベースの内容が後に、光ビーム２１が斯かる損傷した領域を通過する必要があることを回避するために利用されても良い。表面損傷と除去可能な埃とを信頼性高く区別するため、該外側面の特定の領域は、２つの検出時の間に十分に長い時間間隔を伴って少なくとも２度、同じ位置に損傷が検出された場合にのみ、損傷領域であると決定されても良い。原則として、該外側面において検出された静的な特徴のみが、損傷として記録される。動的な性質を持つ検出される特徴はいずれも、ことによると汚れにより引き起こされたものである。

出射窓１４の外側面における損傷した領域の検出は、レーザシェーバ１０の通常の使用の間に実行されても良いし、又は通常の使用の前若しくは後に別個の工程として実行されても良い。損傷した領域を見出すための検出光ビームが、トリートメント用ビームと同じビームではない（一時的に分離されている及び／又は別個の光源に起因する）場合には、異なる波長、強度又はパルスパターンが利用されても良い。皮膚の一部、毛、水又はその他の埃若しくは液体が外側面に対する損傷として解釈されないようにするために、該出射窓が、検出工程を実行する前に洗浄されても良い。光ビーム２１を等しい面で反射させるように、出射窓１４の外側面に反射性シートが塗布されても良い。

図２は、本発明による皮膚活性化（rejuvenation）装置２０を模式的に示す。皮膚活性化装置２０は、多くの点において、図１のレーザシェーバ１０と類似している。ここでは、光学刃１４の代わりに、皮膚３５へと直接に光ビーム２１を向けるための出射窓２４が備えられる。人間又は動物の皮膚３５は、皮膚組織の複数の層３６、３７を有する。皮膚３５の外側面は、表皮３６と呼ばれる。表皮３６の下には、コラーゲンに富む真皮層３７が位置している。皮膚活性化装置２０は、小さな皮膚の損傷を形成するように真皮３７のコラーゲンのなかでＬＩＯＢ事象２２を生成して、それにより皮膚３５が新たな細胞を形成することによって自己治癒するように促すよう構成される。当該工程は、皮膚３５における皺の低減に導く。

皮膚活性化装置２０における検出ユニット１５は、図１のレーザシェーバ１０の検出ユニット１５と同じ態様で、装置２０に再び入る光を検出する。しかしながら、皮膚活性化装置２０は毛を検出する必要はないため、検出ユニット１５は毛を検出するようには構成されなくても良い。その代わり、該検出ユニットは更に、焦点深さにおける皮膚３５のコラーゲン含有量を検出するために利用されても良い。次いで、皮膚３５のなかの最適な深さにおいてＬＩＯＢ事象２２が生成されることを確実にするため、焦点深さが適合されても良い。制御回路１６及び合焦装置１７は、図１を参照しながら既に説明されたように動作する。

図３は、皮膚活性化装置３０とドッキングステーション４０との組み合わせを模式的に示す。図３の皮膚活性化装置３０は、図２の装置２０と類似している。しかしながら、皮膚活性化装置３０は、光検出ユニット１５を有さない。ドッキングステーション４０は、皮膚活性化装置３０が利用されていないときに、該皮膚活性化装置３０をなかに置くために備えられる。ドッキングステーション４０のなかに置かれると、装置３０の再充電可能なバッテリユニット１９が、送電網４３への接続を介して充電されても良い。当該接続は、それぞれドッキングステーション４０及び皮膚活性化装置３０に備えられた、２つの電気接点４２ａ、４２ｂによって提供され、これら接点４２ａ、４２ｂは、装置３０がドッキングステーション４０に配置されたときに、送電網４３にバッテリ１９を結合させるように構成される。

皮膚トリートメント装置自体における検出ユニット（図１及び２）の代わりに、ここでは検出ユニット１５はドッキングステーション４０に含まれる。検出ユニット１５は、皮膚活性化装置３０の出射窓２４を通過した後の光ビーム２１を受ける。該ドッキングステーションは、検出ユニット１５を損傷や汚れから保護するための入射窓４４を有しても良い。光ビーム２１を検出ユニット１５に合焦させるための更なる光学要素が、該ドッキングステーションに備えられても良い。検出ユニット１５及び制御回路１６は、出射窓２４の外側面が損傷しているか否かを決定するために利用される。損傷検出工程の結果は、電気接点４１ａ、４１ｂを介して又は無線通信を介して、皮膚活性化装置３０における合焦装置１７に供給される。代替としては、制御回路１６が皮膚活性化装置３０に含まれても良く、電気接点４１ａ、４１ｂを介して又は無線通信を介して、検出信号が制御回路１６に供給されても良い。また、例えば損傷した領域の決定のような、該制御回路のタスクの幾つかを、該ドッキングステーションにおいて実行し、例えば損傷した領域をどのように避けるかを決定することのような他のタスクを、該トリートメント装置において実行することも可能である。

トリートメント用光ビームと検出用光ビームとで別個の光源が用いられる場合には、検出用光ビームのための検出用光源は、トリートメント装置の代わりにドッキングステーション４０に備えられても良い。この場合には、ドッキングステーション４０における検出ユニット１５が、該トリートメント装置の出射窓２４における反射の後の検出用光ビームを検出しても良く、及び／又はトリートメント装置における検出ユニット１５が、出射窓２４を通過した後の検出用光ビームを検出しても良い。

該ドッキングステーションは更に、検出工程を実行する前に、出射窓２４の外側面を洗浄するための洗浄ユニット（図示されていない）を有しても良い。ドッキングステーション４０が入射窓４４を有する場合には、入射窓４４の洗浄も重要となり得る。入射窓４４は、検出された損傷が、実際に装置３０の出射窓２４の部分であり、ドッキングステーションの入射窓４４の部分ではないことを確実にするため、時々新しい又は異なるものと交換されても良い。代替としては、入射窓４４が、装置３０の出射窓２４における損傷を検出するための２回の試みの間に、位置を変更する。代替としては、２つの窓から到来する光学信号を区別するための感知技術（例えば距離感知）が利用されても良い。

図１のレーザシェーバ１０及び図２の皮膚活性化装置２０も、ドッキングステーションと組み合わせられるように構成されても良いことに留意されたい。

上述の実施例は本発明を限定するものではなく説明するものであって、当業者は添付する請求項の範囲から逸脱することなく多くの代替実施例を設計することが可能であろうことは留意されるべきである。請求項において、括弧に挟まれたいずれの参照記号も、請求の範囲を限定するものとして解釈されるべきではない。動詞「有する（comprise）」及びその語形変化の使用は、請求項に記載されたもの以外の要素又はステップの存在を除外するものではない。要素に先行する冠詞「１つの（a又はan）」は、複数の斯かる要素の存在を除外するものではない。本発明は、幾つかの別個の要素を有するハードウェアによって、及び適切にプログラムされたコンピュータによって実装されても良い。幾つかの手段を列記した装置請求項において、これら手段の幾つかは同一のハードウェアのアイテムによって実施化されても良い。特定の手段が相互に異なる従属請求項に列挙されているという単なる事実は、これら手段の組み合わせが有利に利用されることができないことを示すものではない。

Claims (15)

1. 光ベースの皮膚トリートメント装置であって、毛又は皮膚組織を処置するためのトリートメント用光ビームを供給するためのトリートメント用光源、前記トリートメント用光ビームが前記装置を出ることを可能とするための透明な出射窓、及び前記トリートメント用光ビームが前記出射窓を通る位置を制御するための出射位置制御ユニット、を有する光ベースの皮膚トリートメント装置と、
   検出用光ビームを供給するための検出用光源と、
   前記出射窓を少なくとも１回少なくとも部分的に通過した後の前記検出用光ビームを検出するための検出ユニットと、
   前記検出ユニットからの検出信号を解析して、前記出射窓の外側面における損傷した領域を見出し、前記トリートメント用光ビームが前記損傷した領域を通過することを回避するように、前記出射位置制御ユニットを制御するように構成された制御回路と、
   を有する、皮膚トリートメントシステム。
2. 前記トリートメント用光源と前記検出用光源とは同一の光源である、請求項１に記載の皮膚トリートメントシステム。
3. 前記トリートメント用光ビームと前記検出用光ビームとは同一の入射光ビームである、請求項２に記載の皮膚トリートメントシステム。
4. 前記出射位置制御ユニットは、前記トリートメント用光源を動かすための手段を有する、請求項１に記載の皮膚トリートメントシステム。
5. 前記光ベースの皮膚トリートメント装置は、前記装置の外において且つ前記毛又は皮膚組織のなかにおいて前記トリートメント用光ビームを合焦させるための光学要素を有し、前記出射位置制御ユニットは、前記光学要素の少なくとも１つの位置及び／又は向きを制御するための手段を有する、請求項１に記載の皮膚トリートメントシステム。
6. 前記出射位置制御ユニットは、皮膚の領域に亘って前記トリートメント用光ビームを走査させ、前記トリートメント用光源の作動が前記トリートメント用光ビームに前記損傷した領域を通過させるように前記出射位置制御ユニットが設定された場合に、前記トリートメント用光源を停止させるように構成された、請求項１に記載の皮膚トリートメントシステム。
7. 前記制御回路は、同じ又は略同じ位置において少なくとも２つの時点に前記出射窓を通る前記検出光ビームにより生成された、前記検出ユニットからの少なくとも２つの検出信号を解析し、前記少なくとも２つの検出信号が、前記外側面における前記検出用光ビームの類似する異常散乱プロファイルを呈する場合に、前記外側面における特定の領域を損傷した領域と決定するように構成された、請求項１に記載の皮膚トリートメントシステム。
8. 前記検出用光源、前記検出ユニット及び前記制御回路は、前記光ベースの皮膚トリートメント装置のなかに含まれ、前記検出ユニットは、前記毛又は皮膚の組織と相互作用した後の前記検出用光ビームを検出するように構成された、請求項１に記載の皮膚トリートメントシステム。
9. 前記光ベースの皮膚トリートメント装置を受容するためのドッキングステーションを更に有し、前記ドッキングステーションは前記検出ユニットを有し、前記ドッキングステーションは、少なくとも前記光ベースの皮膚トリートメント装置が前記ドッキングステーションに受容されたときに、前記検出ユニットと前記制御ユニットとの間の結合を提供するように動作可能である、請求項１に記載の皮膚トリートメントシステム。
10. 前記ドッキングステーションは、前記検出用光源を更に有する、請求項９に記載の皮膚トリートメントシステム。
11. 前記ドッキングステーションは、前記出射窓の前記外側面を洗浄するための洗浄ユニットを更に有する、請求項９に記載の皮膚トリートメントシステム。
12. 前記トリートメント用光ビームは、毛又は皮膚組織のレーザ誘起光学破壊により皮膚を処置するように供給される、請求項１に記載の皮膚トリートメントシステム。
13. 前記トリートメント用光ビームは、レーザ誘起光学破壊により引き起こされる毛の切断のために供給される、請求項１２に記載の皮膚トリートメントシステム。
14. 前記トリートメント用光ビームは、レーザ誘起光学破壊により引き起こされる皮膚の活性化のために供給される、請求項１２に記載の皮膚トリートメントシステム。
15. 請求項１に記載のシステムにおける使用のための、前記光ベースの皮膚トリートメント装置を受容するように構成されたドッキングステーションであって、前記ドッキングステーションは、前記検出ユニットを有し、少なくとも前記光ベースの皮膚トリートメント装置が前記ドッキングステーションに受容されたときに、前記検出ユニットと前記制御ユニットとの間の結合を提供するように動作可能である、ドッキングステーション。

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