JP2015517101A - 微粒子汚染測定方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本出願は、2012年4月2日出願の米国仮出願第61/619,209号の利益を主張し、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
但し、λは使用される放射の波長、NAはパターンを印刷するために使用される投影システムの開口数、k1はレイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、CDは印刷されるフィーチャのフィーチャサイズ(すなわちクリティカルディメンション)である。式(1)から、フィーチャの印刷可能な最小サイズの縮小は3つの方法で達成できることが分かる。すなわち、露光波長λの短縮によるもの、開口数NAの増加によるもの、又はk1の値の減少によるものである。
a)超清浄ポリウレタンエラストマー層を得るために、制御された条件下でポリウレタンエラストマーを清浄な基板上に調製するステップ、
b)清浄な基板から超清浄ポリウレタンエラストマー層を剥離するステップ、及び
c)このエラストマー層を担体に結合してサンプラを形成するステップ。
超清浄ポリウレタンエラストマー層を汚染から保護するため、サンプラ面の一方又は両方の少なくとも一部を取り外し可能な保護フォイルで覆ってもよい。
− 放射ビームB(例えばEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク又はレチクル)MAを支持するように構成され、パターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
1.ステップモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。
2.スキャンモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。支持構造(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって判定することができる。
3.別のモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させるごとに、又はスキャン中に連続する放射パルス間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用できる。
水 2E−10 mbar/1sec.*cm2
有機材料(MW44〜100) 2E−12 mbar/1sec.*cm2
有機材料(MW101〜200) 1.5E−13 mbar/1sec.*cm2
Claims (35)
- 担体によって担持されるポリウレタンエラストマー層を備え、
前記担体が、ポリウレタンエラストマーの測定面を、測定される表面に押圧し、次いで除去することが可能であるように構成される、
微粒子汚染測定装置。 - 前記ポリウレタンエラストマーの前記測定面が、超清浄である、請求項1に記載の装置。
- 前記ポリウレタンエラストマーの硬度が、80ショアA未満である、請求項1に記載の装置。
- 前記ポリウレタンエラストマーの硬度が、200ショアOO超、例えば20ショアA超である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ポリウレタンエラストマーの硬度が、38〜75ショアAの範囲にある、請求項1〜4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ポリウレタンエラストマーの前記測定面の粗度が、1ミクロンRa以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置。
- 前記担体が、穴を設けた基板であり、前記穴を通って前記ポリウレタンエラストマーの前記測定面にアクセス可能である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の装置。
- 前記基板が、可撓性である、請求項7に記載の装置。
- 前記担体が、クレジットカード素材の形状及びサイズを有する、請求項7又は8に記載の装置。
- 前記ポリウレタンエラストマーの前記穴とは反対側に可撓性シート材料が提供される、請求項7〜9のいずれか一項に記載の装置。
- 前記担体が、プローブであり、前記ポリウレタンエラストマーが前記プローブの一端に提供される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の装置。
- 可撓性材料の測定面が、汚染微粒子と金属面との間の接触面積よりも大きい前記汚染微粒子との接触面積を確立するように、前記金属面よりも可撓性が高い可撓性材料を備え、
前記可撓性材料は、残留物が超清浄である前記測定面から前記金属面に転移しないように十分に強力である、
微粒子汚染測定装置。 - 材料の測定面が前記汚染微粒子と固体表面との接触面積よりも大きい前記汚染微粒子との接触面積を確立するように、前記固体表面よりも可撓性が高い材料を備える微粒子汚染測定装置であって、
前記材料は、残留物が前記測定面から前記固体表面に転移ないように十分に強力であり、
前記測定面が超清浄である、装置。 - 除去可能な微粒子汚染を固体表面から捕捉するためのサンプラであって、
担体と、前記担体に結合された可撓性材料層と、を備え、
前記可撓性材料層が、内表面と、反対側の外表面と、を有し、
前記担体が、前記可撓性材料層を前記固体表面から剥離可能であるように配置され、
前記外表面が、接触すると、除去可能な微粒子汚染を前記固体表面から前記外表面に転移するように構成された微粒子収集面であり、
前記可撓性材料層が、前記固体表面に接触した後、残留ガス分析で判定して、44〜100g/molの範囲の重量平均分子量を有する2E−12mbar/1sec.*cm2未満の有機物質しか前記固体表面に残さない、サンプラ。 - 前記可撓性材料層が、前記固体表面に接触した後、残留ガス分析で判定して、101〜200g/molの範囲の重量平均分子量を有する1.5E−13mbar/sec.*cm2未満の有機物質しか前記固体表面に残さない、請求項14に記載のサンプラ。
- 前記可撓性材料層が、前記固体表面に接触した後、XPSで判定して、原子百分率0.1%未満のPb、Zn、Sn、In及びSiしか残留物として前記固体表面上に及び対応する環境に残さない、請求項14又は15に記載のサンプラ。
- 前記可撓性材料層が、前記固体表面に接触した後、XPSで判定して、原子百分率0.5%未満のPb、Zn、Sn、In及びSi以外の元素しか残留物として前記固体表面上に及び対応する環境に残さない、請求項14〜16のいずれか一項に記載のサンプラ。
- 前記可撓性材料層の硬度が、ASTM D2240方法で判定して、20〜80ショアAの範囲内である、請求項14〜17のいずれか一項に記載のサンプラ。
- 除去可能な微粒子汚染を固体表面から捕捉するためのサンプラであって、
i)担体と、
ii)前記担体に結合され、硬度が20〜80ショアAの範囲内であるポリウレタンエラストマー層と、を備え、
前記ポリウレタンエラストマー層が、内表面と、反対側の外表面と、を有し、
前記担体が、前記ポリウレタンエラストマーを前記固体表面から剥離可能であるように配置され、
前記ポリウレタンエラストマーの前記外表面が、接触すると、除去可能な微粒子汚染を前記第1の表面から前記外表面に転移するように構成された微粒子収集面であり、
前記サンプラを、以下のステップ、
a)超清浄ポリウレタンエラストマー層を得るために、制御された条件下で前記ポリウレタンエラストマーを清浄な基板上に調製するステップと、
b)前記清浄な基板から前記超清浄ポリウレタンエラストマー層を剥離するステップと、
c)前記超清浄ポリウレタンエラストマー層を前記担体に結合して前記サンプラを形成するステップと、
を含むプロセスによって得ることができる、サンプラ。 - 前記超清浄ポリウレタンエラストマー層を汚染から保護するため、前記サンプラ表面の一方又は両方の少なくとも一部が取り外し可能な保護フォイルで覆われる、請求項19に記載のサンプラ。
- 前記微粒子収集面である前記ポリウレタンエラストマー層の前記外表面の粗度は、前記平均微粒子サイズの約10分の1未満でよい、請求項19又は20に記載のサンプラ。
- ポリウレタンエラストマーの測定面を、測定される表面に押圧するステップと、
前記表面から前記ポリウレタンエラストマーを除去するステップと、
光学装置を使用して、前記ポリウレタンエラストマーによって除去され前記ポリウレタンエラストマーに付着した微粒子を検出するステップと、を含む、
微粒子汚染測定方法。 - 前記ポリウレタンエラストマーの硬度が、80ショアA未満である、請求項22に記載の方法。
- 前記ポリウレタンエラストマーの硬度が、20ショアOO超、例えば20ショアA超である、請求項22又は23に記載の方法。
- 前記ポリウレタンエラストマーの前記測定面の粗度が、1ミクロンRa以下である、請求項22〜24のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ポリウレタンエラストマーが、担体によって担持される、請求項22〜25のいずれか一項に記載の方法。
- 前記担体が、穴を設けた基板であり、前記穴を通って前記ポリウレタンエラストマーの前記測定面にアクセス可能である、請求項26に記載の方法。
- 前記基板が、可撓性である、請求項27に記載の測定方法。
- 前記担体が、プローブであり、前記ポリウレタンエラストマーが前記プローブの一端に提供される、請求項26に記載の方法。
- 残留物が、前記ポリウレタンエラストマーから測定される前記表面に転移されない、請求項22〜29のいずれか一項に記載の方法。
- 測定される金属面に可撓性材料を押圧するステップであって、前記可撓性材料は前記金属面よりも軟質であるため、前記可撓性材料は前記汚染微粒子と前記金属面との間の接触面積よりも大きい汚染微粒子を有する接触面積を確立し、したがって前記汚染微粒子が前記可撓性材料に付着し、前記可撓性材料は前記金属面上に残留物を残さないように十分に強力である、ステップと、
前記材料を前記金属面から除去するステップと、
光学装置を使用して、前記材料に付着した汚染微粒子を検出するステップと、を含む、
微粒子汚染測定方法。 - 除去可能な微粒子汚染を固体表面から捕捉するためのサンプラを製造する方法であって、前記サンプラが、
i)担体と、
ii)前記担体に結合され、硬度が20〜80ショアAの範囲内であるポリウレタンエラストマー層と、を備え、
前記ポリウレタンエラストマー層が、内表面と、反対側の外表面と、を有し、
前記担体が、前記ポリウレタンエラストマーを前記固体表面から剥離可能であるように配置され、
前記ポリウレタンエラストマー層の前記外表面が、接触すると、除去可能な微粒子汚染を前記第1の表面から前記外表面に転移するように構成された微粒子収集面であり、
前記サンプラが、以下のステップ、
a)超清浄ポリウレタンエラストマー層を得るために、制御された条件下で前記ポリウレタンエラストマーを清浄な基板上に調製するステップと、
b)前記清浄な基板から前記超清浄ポリウレタンエラストマー層を剥離するステップと、
c)前記超清浄エラストマー層を前記担体に結合して前記サンプラを形成するステップと、
を含むプロセスによって製造される、方法。 - 前記超清浄ポリウレタンエラストマー層を汚染から保護するため、前記サンプラの一方又は両方の少なくとも一部を取り外し可能な保護フォイルで覆うステップをさらに含む、請求項32に記載の方法。
- 前記ポリウレタンエラストマーが、前記担体に自己接着するように配置される、請求項1〜11のいずれか1項に記載の微粒子汚染測定装置。
- 前記可撓性材料層が、前記担体に自己接着するように配置される、請求項14〜21のいずれか1項に記載のサンプラ。
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