JP2001253008A - 反射防止透明導電性積層フイルム及びこれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 優れた帯電防止性、電磁波遮蔽性、反射防止
性、機械特性、防汚性に優れた反射防止透明導電性積層
フイルム及びこれを用いた画像表示装置を提供する。 【解決手段】 透明支持体１上に少なくとも１種以上の
金属からなる微粒子を有する透明導電層３と、該透明導
電層の外層に形成され、この透明導電層の屈折率と異な
る屈折率を有する少なくとも１層の透明性反射防止層
４、防汚層５からなる反射防止透明導電性積層フイルム
の該透明支持体１を傷回復性を示す素材で構成した反射
防止透明導電性積層フイルム及びこれを用いた画像表示
装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた帯電防止効
果、電磁波遮蔽効果、反射防止効果、機械特性及び防汚
性に優れ、密着性の改良された反射防止透明導電性積層
フイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】ＴＶブラウン管やコンピュータディスプ
レイとして用いられている陰極線管やプラズマディスプ
レー等は、フェースパネル面に発生する静電気により埃
が付着して視認性が低下する他、電磁波を輻射して周囲
に悪影響を及ぼすなどの問題点を有している。 また陰
極線管のフラット化等により、反射防止機能が必要とな
っている。 またフェースパネル面は手が触れたり、汚
れを落とすことにより、擦り傷が発生しやすい問題があ
る。

【０００３】帯電防止、電磁波遮蔽および反射防止を目
的として、銀等の金属あるいはＩＴＯ等の導電性金属酸
化物を蒸着・スパッタ等で導電性層をフェースパネル面
に直接形成させる方法が提案されているが、膜形成には
真空処理や高温処理が必要であり、製造費が高価になっ
たり、生産性に問題があった。

【０００４】また、ゾル−ゲル法による塗布方式の導電
性薄膜の形成法も提案されているが（羽生等，Ｎａｔｉ
ｏｎａｌ Ｔｅｃｎｉｃａｌ Ｒｅｐｏｒｔ ４０，Ｎ
ｏ．１，（１９９４）９０）、高温処理が必要であり、
透明支持体であるプラスチックフイルム上やハードコー
ト上への積層は支持体の変質が起こることにより、支持
体として使用できる素材が限定されてしまう問題があっ
た。

【０００５】導電性酸化物微粒子やコロイドを分散させ
た透明導電性塗料も提案されているが（特開平６−３４
４４８９、特開平７−２６８２５１）、得られた透明導
電性層の導電性が低い問題があった。

【０００６】さらに、導電性をあげるため、金属微粒子
からなる透明導電膜が提案されるようになってきた（特
開昭６３−１６０１４０、特開平９−５５１７５）。
また、透明導電膜上にテトラエトキシシラン等の反射防
止塗料を塗布することにより低反射透明導電膜を形成す
る方法が提案されている（特開平１０−１４２４０
１）。 しかし透明支持体の上に金属微粒子を塗布した
だけでは機械強度が弱いという問題があり、テトラエト
キシシラン等の反射防止塗料と透明導電層の密着が発現
しないという問題があった。 そのため、ゾル−ゲル法
による反射防止層の積層は透明支持体の使用が限られて
しまう問題が生じてしまい、上記低反射透明導電膜の形
成方法ではガラスフェースパネルに直接塗布することし
かできないという問題があった。

【０００７】また、ガラスフェースパネルに銀微粒子を
直接スピンコート法により塗布し、１５０℃近辺で焼結
反応を起こすこと、表面のＡｇ２Ｏも分解反応を起こす
ことにより焼成することで導電性の改良が提案されてい
るが（特開平１０−６６８６１）、耐熱性のあるガラス
等の支持体にしか適応できない。

【０００８】そこで、設備投資が大きく、高温処理が必
要なフェースパネル前面に直接塗膜を形成させる方法に
対し、支持体に薄膜を形成したものを張り付ける方法も
提案されている（瀧等，Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｃｈｎ
ｉｃａｌ Ｒｅｐｏｒｔ，４２，Ｎｏ．３（１９９６）
２６４−２６８）。

【０００９】これらの薄膜の形成方法は、ＩＴＯ等の導
電性金属酸化物を蒸着・スパッタ等で導電性層を形成さ
せる方法であり、膜形成には真空処理が必要であり、製
造費が高価になったり、生産性に問題があった。

【００１０】本発明者らは、少なくとも１種以上の金属
からなる微粒子を有する透明導電層と、該透明導電層の
外層に形成されこの透明導電層の屈折率と異なる屈折率
を有する少なくとも１層の透明被膜層を形成することに
より安価な塗布型で透明導電膜を形成できることを確認
した。しかしながら金属微粒子層の機械強度が弱いた
め、傷つきやすく実用に耐えるものではなかった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の課題
を解決するためになされたものであって、帯電防止性、
電磁波遮蔽性、反射防止性、防汚性、生産性、機械特性
に優れたフェースパネルに貼り付けることの可能な反射
防止透明導電性積層フイルム及びこれを用いた画像表示
装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者の鋭意検討の結
果、上記の課題は、透明支持体上に、少なくとも１種以
上の金属からなる微粒子を有する透明導電層と、該透明
導電層の外層に形成され、この透明導電層の屈折率と異
なる屈折率を有する少なくとも１層の透明性反射防止
層、防汚層からなる反射防止透明導電性積層フイルムに
おいて、該透明支持体が傷回復性を示す素材で構成され
ることを特徴とする反射防止導電性積層フイルムことに
より解決されることが解った。すなわち、透明支持体を
柔軟にして加傷時の圧力を和らげ、加傷後にはついた傷
が回復する支持体を選択することで本積層フィルムの耐
傷性が改良されることがわかり、本発明に至ったもので
ある。

【００１３】本発明の反射防止透明導電フイルムを、Ｔ
Ｖブラウン管やコンピュータディスプレイとして用いら
れている陰極線管やプラズマディスプレー等の表面に直
接ラミネートする事により、ＰＶＤ法やＣＶＤ法を用い
る従来の導電性被膜の形成技術やフェースパネル等に直
接導電性皮膜等を塗布する方法に比べ、設備も工程も格
段に簡易化することが出来、さらに、表面機械特性特に
鉛筆引っ掻き試験に対する耐性を向上させることが可能
となり、密着不良による膜の剥がれ等の問題も発生しな
い。また、本フィルムを液晶ディスプレイに直接貼合す
ることで、液晶ディスプレィの表面機械特性、反射特性
を改善することが可能である。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳し
く説明する。図１に、本発明の好ましい一実施形態であ
る反射防止透明導電性積層フイルムを示す。 傷回復性
支持体上に、金属微粒子からなる透明導電層と、その外
層に透明導電層と異なる屈折率を有する反射防止層が形
成され、最外層には防汚層から構成されている。前述の
通り反射防止層は防汚層と同一でもよい。

【００１５】本発明に用いられる透明支持体としては、
ポリウレタン樹脂、ポリシリコーン樹脂、イソプレン系
樹脂、ニトリルゴム系樹脂、エチレンプロピレンゴム系
樹脂、クロロプレン系樹脂、ポリエステルエラストマ
ー、エピクロヒルヒドリン系樹脂ポリウレタン系樹脂、
アクリル系透明ゴム状樹脂、シリコーン系ゴム状樹脂、
オレフィン系・スチレン系エラストマーあるいは、それ
らと他の樹脂とのブレンド品、ポリマーアロイ等の軟質
樹脂が使用可能である。透明性・自己修復性の観点か
ら、ポリシリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエス
テルエラストマーがより好ましく、ポリウレタン樹脂が
更に好ましい。。フィルムの厚さは、要求特性等によっ
て決定すればよく、特に制限はないが取り扱い性のしや
すさから１００μｍ乃至５００μｍの範囲にあることが
好ましい。

【００１６】該シリコーン系ゴム状樹脂の好適例として
は、ポリオルガノシロキサン、硬化剤、硬化促進剤等の
混合物を加熱硬化して得られたものが挙げられる。市販
されているものとしては、アルファゲル（シーゲル社
製）がある。

【００１７】次に使用できるポリウレタン樹脂の特徴に
ついて述べる。該ポリウレタン樹脂は、通常のポリオー
ルとポリイソシアネートとを常用の配合剤共存下に反応
させて得ることができる。なお、これらには、充填剤な
ど常用の配合剤を添加しておくとより優れた効果をもた
らすことができる。原料として使用できるポリイソシア
ネートは、得られるポリウレタン樹脂の耐久黄変性の点
で、無黄変性ポリイソシアネートが好ましい。無黄変性
ポリイソシアネートは芳香核に直接結合したイソシアネ
ート基を有しない非芳香族あるいは芳香族のポリイソシ
アネートである。脂肪族もしくは脂環族のジイソシアネ
ートまたは３価以上のポリイソシアネートが特に好まし
い。

【００１８】具体的にはヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタ
ンジイソシアネートなどがある。特に３官能以上のポリ
イソシアネートあるいはそれとジイソシアネートの混合
物が好ましい。３官能以上のポリイソシアネートとして
はジイソシアネートのヌレート変性体、ビューレット変
性体、トリメチロールプロパンなどの３価アルコールで
変性したウレタン変性体が好ましい。

【００１９】透明支持体の光透過率は、８０％以上であ
ることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ま
しい。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であること
が好ましく、１．０％以下であることがさらに好まし
い。透明支持体の屈折率は、１．４乃至１．７であるこ
とが好ましい。

【００２０】この透明支持体フィルムは、所望により着
色又は蒸着されていてもよく、また紫外線吸収剤を含ん
でいてもよい。さらに、その表面に設けられる層との密
着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、
酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができ
る。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、グロ
ー放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処
理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられる。 更
に、一層以上の下塗り層、プライマー層を設けることが
できる。 下塗り層の素材としては塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、ブタジエン、（メタ）アクリル酸エステル、
ビニルエステル等の共重合体或いはラテックス、ゼラチ
ン等の水溶性ポリマーなどが挙げられるが特に限定はさ
れない。

【００２１】本発明の透明導電層は、基本的には少なく
とも１種以上の金属からなる微粒子を含有する層からな
る。 １種以上の金属からなる微粒子としては、金、
銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、パラジウム、プ
ラチナ等の金属あるいはこれらの合金が挙げられる。
特に銀が好ましく、さらに耐候性の観点からパラジウム
と銀の合金が好ましい。 パラジウムの含有量としては
５〜３０ｗｔ％が好ましく、パラジウムが少ないと耐候
性が悪く、パラジウムが多くなると導電性が低下する。
金属微粒子の作成方法としては、低真空蒸発法による
微粒子の作製方法や金属塩の水溶液を鉄（II）、ヒドラ
ジン、ボロンハイドライド、ヒドロキシエチルアミン等
のアミン等の還元剤で還元する金属コロイド作製方法が
挙げられる。

【００２２】これら金属微粒子の平均粒径は１〜１００
ｎｍが好ましい． １００ｎｍを越える場合には、金属
粒子による光の吸収が大きくなり、このために粒子層の
光透過率が低下すると同時にヘイズが大きくなり、ま
た、これら金属微粒子の平均粒径が１ｎｍ未満の場合に
は微粒子の分散が困難になること、微粒子層の表面抵抗
が急激に大きくなるため、本発明の目的を達成しうる程
度の低抵抗値を有する被膜を得ることができない。 透
明導電層は実質的に金属微粒子のみからなることが好ま
しく、バインダー等の非導電性のものを含有しないこと
が導電性の観点から好ましい。

【００２３】金属の微粒子層の形成は、金属微粒子を水
を主体とする溶液あるいは有機溶剤等に分散した塗料を
ハードコート上に塗布して作製する。 金属微粒子の分
散安定化のためには水を主体とする溶液が好ましく、水
と混合出来る溶剤としてはエチルアルコール、ｎ−プロ
ピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ブチルアル
コール、メチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のアル
コールが好ましい。金属の塗布量としては、５０〜１５
０ｍｇ／ ^m2が好ましく、塗布量が少ないと導電性が取
れず、塗布量が多いと透過性が劣る。

【００２４】透明導電層の表面抵抗率は、スウェーデン
中央労働者協議会が制定したＴＣＯガイドラインをクリ
アーするため１０００Ω／□以下が必要であり、透過性
は５０％以上が好ましい。

【００２５】透明導電性層の導電性や透過性の向上のた
め、熱処理や水処理することが出来る。 熱処理は、プ
ラスチックフイルムの耐熱性によるが、１５０℃以下が
好ましい。 １００℃から１５０℃が好ましい。 １５
０℃以上ではプラスチックフイルムの熱による変形が起
こりやすく、１００℃以下では熱処理の効果が出難く、
長時間の処理時間が必要になってしまう。

【００２６】熱処理の方法は、ウェッブ状態で加熱ゾー
ンを通しながら処理することが均一な処理が出来て好ま
しい。 加熱ゾーンの長さと搬送速度で滞在時間を調節
することが出来る。 またロール状のフイルムを高温槽
中で加熱することも可能であるが、熱伝導のバラツキを
考慮した時間設定が必要になる。

【００２７】また、熱処理に先立ち、透明導電性層を水
洗等の水処理をする事で熱処理をさらに効率良くするこ
とが出来る。 水洗等の水処理は、通常の塗布方式によ
る水だけの塗布、具体的にはディップコート塗布、ワイ
ヤーバーによる水の塗布等があり、他にはスプレーやシ
ャワーで水を透明導電性層に掛ける方法がある。 透明
導電性層に水をかけた後、過剰の水は必要に応じて、ワ
イヤーバー、ロッドバーで掻き取ったり、エアーナイフ
で掻き取ることが出来る。

【００２８】これらの水処理により、熱処理後の透明導
電性槽の表面抵抗をさらに低下させることが出来、加え
て透過率の増加、透過スペクトルの平坦化、反射防止層
を積層した後の反射率の低下に対する効果が顕著にな
る。

【００２９】本発明の透明導電層の屈折率と異なる屈折
率を有する少なくとも１層の透明性反射防止層の屈折率
は、２よりも小さいことが好ましい。 好ましくは屈折
率と透明反射防止膜の厚み（ｎｍ）との積が１００〜２
００の範囲に入ることが好ましい。この透明反射防止層
については特に制限はないが、例えば例えばポリエステ
ル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、
ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、紫外線
硬化樹脂などの有機系合成樹脂、ケイ素などの金属アル
コキシドの加水分解物、またはシリコーンモノマー、シ
リコーンオリゴマーなどの有機・無機系化合物、シリ
カ、アルミナ、チタニア、ジルコニア或いはこれらの混
合物等のゾル・ゲル反応による透明酸化物被膜が挙げら
れる。透明性反射防止層をペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレートやジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート等の放射線硬化性樹脂あるいはこ
れらに微粒子のシリカやアルミナ等を添加したもので形
成することにより表面硬度を上げることで好ましい。ま
た、このようなアルキルシリケート部分加水分解重合
物、例えばオルトアルキルシリケートを加水分解してあ
る程度脱水縮重合を進行させた形のものなどを用いるこ
とも好ましい。オルトアルキルシリケートとしては、例
えばオルトメチルシリケートＳｉ（ＯＣＨ₃）₄、オルト
エチルシリケートＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）オルトプロピルシリ
ケートＳｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₄、オルトブチルシリケートＳ
ｉ（ＯＣ₄Ｈ₉）₄、などを使用することができ、また２
種以上のアルキル基を同一分子内に有するオルトアルキ
ルシリケートでも良い。また２種以上のアルキルオルト
シリケートを混合して使用しても差し支えない。また、
シリコン化合物、フッ化炭化水素基含有ポリマー、フッ
化炭化水素、シリコンを有するモノマーのグラフト、ブ
ロック共重合体等を用いることも好ましい。本素材が熱
架橋性であれば更に好ましい。

【００３０】最外層の防汚層としては、公知のフッ素を
含有する低表面エネルギーの化合物が好ましく、具体的
にはフッ化炭化水素基を含有するシリコン化合物、フッ
化炭化水素基含有ポリマー、フッ化炭化水素、シリコン
を有するモノマーのグラフト、ブロック共重合体等が挙
げられる。 これらは熱硬化性、放射線硬化基を含有す
る架橋性の樹脂が好ましい。 表面の水の接触角は８０
℃以上が好ましく、９０℃以上がより好ましい。

【００３１】本発明の積層フイルムの作製は、支持体フ
イルム上に各層の塗料をディッピング法、スピナー法、
スプレー法、ロールコーター法、グラビア法、ワイヤー
バー法等の公知の薄膜形成方法で各層を順次形成、乾燥
して作製することが出来る。

【００３２】

【実施例】以下、実施例によって本発明を更に具体的に
説明する。 （傷回復性支持体Ｂ−１の作成）水酸基価１９６のポリ
カプロラクトントリオール４９部、水酸基価５４０のポ
リカプロラクトントリオール３９部、水酸基価３８のポ
リカプロラクトントリオール１０部、有機変性ポリシロ
キサン（Ｂｙｋ−ｃｈｅｍｉｅ社製ＢＹＫ−３００）
０．６部、第四級アンモニウム塩系帯電防止剤（花王社
製ＫＳ−５５５）１０部、光安定剤（旭電化社製ＭＡＲ
Ｋ・ＬＡ−７Ｈ）０．３８部、紫外線吸収剤（チバガイ
ギー社製ＴＩＮＵＶＩＮ３２８）０．６部および酸化防
止剤（チバガイギー社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０）０．
４部を８０℃で５時間加熱溶融下に撹拌し、真空脱泡し
て均一なポリオールシステム液を調製した。さらに、Ｎ
ＣＯ含量（イソシアネート全体の分子量中のＮＣＯ基全
体の分子量の割合）２１重量％のヌレート変性ヘキサメ
チレンイソシアネート９０部、イソホロンジイソシアネ
ート５部、水添ＭＤＩ５部およびジブチル錫ジラウレー
ト０．０１部を８０℃で６時間加熱下に撹拌混合して均
一なイソシアネートシステム液を調製した。この両シス
テム液をポリオール／イソシアネート＝１００／９０の
重量比で連続的に吐出・撹拌混合しながらガラス板上に
均一に膜厚０．２ｍｍで塗工し流延した。この液膜をオ
ーブン中で１２０℃にて２０分加熱し重合を完結させ、
透明ポリウレタン樹脂を得た。

【００３３】（傷回復性支持体Ｂ−２の作成）イソフタ
ル酸ジメチル１７５部、セバシン酸ジメチル２３部、ヘ
キサメチレングリコール１４０部をジブチル錫ジアセテ
ート触媒でエステル交換反応後、減圧下に重縮合して、
ポリエステルを得た。このポリエステルに、別途同様に
重縮合して得た固有粘度０．９８のポリブチレンテレフ
タレートのチップを乾燥して、１０７部添加し、２４０
℃で更に６０分間反応させた。更に５分間反応させたの
ち、フェニルフォスフォン酸を０．１部添加して反応を
停止させチップ化して原料とした。得られたチップをＴ
ダイ付きの４０mm押出機より２３０℃で押出し、直ちに
表面に水を付けた冷却ドラムで冷却した後、離型紙を挟
み巻取り支持体を得た。

【００３４】（その他の支持体）ＴＤ８０ＵＦ（富士写
真フィルム（株）トリアセチルセルロース）、およびコ
スモシャインＡ−４３００（東洋紡績（株）下塗りＰＥ
Ｔ）を支持体Ｂ−３，Ｂ−４として用いた。

【００３５】（銀パラジウムコロイド分散液の 調製）
３０％硫酸鉄（II）ＦｅＳＯ₄・７Ｈ₂Ｏ、４０％のクエ
ン酸を 調製、混合し、２０℃に保持、攪拌しながらこ
れに１０％の硝酸銀と硝酸パラジウム（モル比９／１に
混合したもの）溶液を２００ｍｌ／ｍｉｎの速度で添加
混合し、その後生成した遠心分離により水洗を繰り返
し、最終的に３重量％になるように純水を加え、銀パラ
ジウムコロイド分散液を 調製した。 得られた銀コロ
イド粒子の粒径はＴＥＭ観察の結果、粒径は約９〜１２
ｎｍであった。 ＩＣＰによる測定の結果、銀とパラジ
ウムの比は９／１の仕込み比と同一であった。

【００３６】（銀コロイド塗布液の 調製）前記銀コロ
イド分散液１００ｇにｉ−プロピルアルコールを加え、
超音波分散し孔径１μｍのポリプロピレン製フィルター
で濾過して塗布液を 調製した。

【００３７】（反射防止層用塗布液Ｌ−１の 調製）ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、
日本化薬（株）製）２ｇと光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）８０ｍｇおよび光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３０ｍｇ
をメチルイソプロピルケトン３８ｇ、２−ブタノール３
８ｇ、メタノール１９ｇの混合液に加えて溶解した。混
合物を３０分間撹拌した後、孔径１μｍのポリプロピレ
ン製フィルターで濾過して低反射防止層用塗布液を調製
した

【００３８】（反射防止層用塗布液Ｌ―２の 調製）テ
トラメトキシシラン５０ｇに０．０１規定の硝酸１５ｇ
を３０分かけて滴下し、３時間激しく攪拌した。液が均
一になったことを確認後室温で１２時間放置しさらに３
０分間撹拌した。この液を孔径１μｍのポリプロピレン
製フィルターで濾過した後にメタノール４５０ｇで希釈
し低反射防止層用塗布液を調製した。

【００３９】（反射防止層用塗布液Ｌ―３の 調製）熱
架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２１４、日本合成ゴ
ム(株)製）にイソプロピルアルコールを加えて、０．５
重量％の粗分散液を調製した。粗分散液を、更に超音波
分散し、防汚層用塗布液を調製した。

【００４０】（防汚層用塗布液Ｏ−１の調製）熱架橋性
含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２１４、日本合成ゴム(株)
製）にイソプロピルアルコールを加えて、０．２重量％
の粗分散液を調製した。粗分散液を、更に超音波分散
し、防汚層用塗布液を調製した。

【００４１】［実施例および比較例］ （反射防止透明導電性積層の形成）表１に記載の傷回復
性支持体にコロナ処理を施した後、上記銀コロイド塗布
液をワイヤーバーで塗布量が７０ｍｇ／ｍ²になるよう
に塗布し、４０℃で乾燥した。 この銀コロイド塗布面
に、ポンプで送液した水をスプレーでかけ、エアーナイ
フで過剰の水を除去した後、１２０℃の加熱ゾーンで搬
送しながら、５分の処理を行った。 次いで、表１に記
載の反射防止層を膜厚８０ｎｍになるように塗布・乾燥
し、１２０℃で２時間熱処理した。 さらに、一部の実
施例においては防汚層用塗布液を同様にワイヤーバーで
５ｍｇ／ｍ²塗布し１２０℃で乾燥・熱処理を行った。
詳細条件は表１に記載した

【００４２】 （表１） 実験の種類 支持体 反射防止層 防汚層 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ Ｂ−１ Ｌ−１ Ｏ−１ 実施例２ Ｂ−１ Ｌ−２ Ｏ−１ 実施例３ Ｂ−１ Ｌ―３ なし 実施例４ Ｂ−２ Ｌ−３ なし 比較例１ Ｂ−３ Ｌ−１ Ｏ−１ 比較例２ Ｂ−４ Ｌ−３ なし −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００４３】作成した積層フイルムの特性を測定した結
果を表２に示す。 何れのフイルムの表面電気抵抗率は
２００Ω／□、平均反射率は０．８％であり、また、防
汚性も○であった。

【００４４】 （表２） 実験の種類 密着 鉛筆硬度 スチールウール試験 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ ○ ４Ｈ △ 実施例２ ○ ４Ｈ △ 実施例３ ○ ４Ｈ △ 実施例４ ○ ４Ｈ △ 比較例１ × Ｈ × 比較例２ △ Ｈ × −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００４５】各測定は以下に示す方法で行った。 （反射防止膜の評価） (1)表面抵抗率 ４端子法表面抵抗率計（三菱化学(株)製「ロレスタＧ
Ｐ」）による測定値 (2)反射率率 分光光度計（日本分光(株)製）を用いて、４５０〜６５
０ｎｍの波長領域における平均透過率。

【００４６】(3)防汚性 フイルム表面に指紋を付着させ、東レ(株)製トレシーを
用いてふき取った状態の評価（○は指紋が完全にふき取
れた状態、×は指紋の一部がふき取れずに残った状
態）。 (4)鉛筆引っ掻き試験の硬度 フイルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間
調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛
筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛筆硬度
評価方法に従い、１ｋｇの加重にて傷が全く認められな
い鉛筆の硬度の値。

【００４７】スチールウール試験 フイルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間
調湿した後、＃００００のスチールウールを接地面積１
ｃｍ²、加重２００ｇにて５０往復した後の傷で判定
（○は傷がなし、△は弱い傷が発生、×は傷が明らかに
認められるもの） 密着試験 フイルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間
調湿した後、カッターナイフで１０×１０の傷を入れ、
ポリエステルテープで剥離したあとを観察して判定（○
は剥離なし、△は端部がわずかに剥離、×は剥離が明ら
かに認められるもの）

【００４８】表１より、傷回復性透明支持体上に、透明
導電層、透明性反射防止層、防汚層を設けてなる反射防
止透明導電性積層フイルムにおいて耐傷性が向上した透
明導電膜の形成が可能であることがわかる。比較例のよ
うに反傷回復性のない支持体では十分な性能が得られな
い。

【００４９】

【発明の効果】本発明の反射防止透明導電性積層フイル
ムは、簡単な層構成により帯電防止性および電磁波遮蔽
性、表面反射が防止されているフイルムであり、特に表
面の機械強度に優れた高特性の反射防止透明導電性フイ
ルムを得ることが可能である。また、密着性も問題ない
レベルであり、従って、陰極線管やプラズマディスプレ
ー等の表面に積層することにより、電磁波遮蔽、反射防
止、表面の汚れ防止機能に加え優れた機械強度を付加で
きる反射防止透明導電性積層フイルムを供与出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止透明導電性積層フイルムの構
成の模式図である。

【符号の説明】

１ 透明支持体 ２ 下塗り層またはプライマー層（必要に応じて塗設） ３ 透明導電層 ４ 反射防止層 ５ 防汚層（反射防止層と兼用可能）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 5/64 ５４１ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｖ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｚ Ｆターム(参考） 2K009 AA04 BB11 BB24 BB25 CC09 CC14 CC26 DD17 EE03 EE05 4F100 AB01B AB24B AB31B AK17C AK17D AK27A AK27J AK28A AK28J AK41A AK51A AK51K AK52A AK64A AL09A AN02A AT00A BA04 BA07 BA10C BA10D DE01B EH17 EH46 GB41 JG01 JG01B JK09A JL06D JN01 JN01A JN01B JN01C JN06 JN06C JN18B JN18C YY00A YY00B 5C058 DA01 DA08 DA10 5E321 AA04 BB23 BB32 BB44 CC16 GG05 GH01 5G307 FA02 FB02 FC01 FC08

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持体上に、少なくとも１種以上の
   金属からなる微粒子を有する透明導電層と、該透明導電
   層の外層に形成され、この透明導電層の屈折率と異なる
   屈折率を有する少なくとも１層の透明性反射防止層、防
   汚層からなる反射防止透明導電性積層フイルムにおい
   て、該透明支持体が傷回復性を示す傷回復性透明支持体
   で構成されることを特徴とする反射防止導電性積層フイ
   ルム。
2. 【請求項２】 該傷回復性透明支持体を２５℃、６０％
   の相対湿度雰囲気下で先端径１５μｍのダイアモンド針
   で加傷した傷が消失しうる最大荷重が、ＨＥＩＤＯＮス
   クラッチテスターを用いて測定した際に１０ｇ以上であ
   る素材であることを特徴とする請求項１に記載の反射防
   止導電性積層フイルム。
3. 【請求項３】 該透明支持体がポリウレタン樹脂、ポリ
   シリコーン樹脂、イソプレン系樹脂、ニトリルゴム系樹
   脂、エチレンプロピレンゴム系樹脂、クロロプレン系樹
   脂、ポリエステルエラストマー、エピクロヒルヒドリン
   系樹脂のいずれかで構成されることを特徴とする請求項
   １又は２に記載の反射防止導電性積層フイルム。
4. 【請求項４】 該透明支持体が多官能性活性水素化合物
   （ポリオール類）と３官能以上のポリイソシアネートか
   らなる原料から得られるポリウレタン樹脂で構成される
   ことを特徴とする請求項１から３いずれか１項に記載の
   反射防止導電性積層フイルム。
5. 【請求項５】 透明支持体の厚みが１００μｍ乃至５０
   ０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１から４い
   ずれか１項に記載の反射防止導電性積層フイルム。
6. 【請求項６】 透明導電層に含まれる金属微粒子が銀あ
   るいは銀を主体とする合金であり、その粒子サイズが１
   〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項１から５い
   ずれか１項に記載の反射防止透明導電性積層フイルム。
7. 【請求項７】 該透明反射防止層がフッ素を含有するポ
   リマーよりなることを特徴とする請求項１から６いずれ
   か１項に記載の反射防止透明導電性積層フイルム。
8. 【請求項８】 該透明反射防止層がフッ素を含有するポ
   リマーよりなり、防汚層を兼ねることを特徴とする請求
   項１から７いずれか１項に記載の反射防止透明導電性積
   層フイルム。
9. 【請求項９】 画像表示面上に、請求項１から８いずれ
   か１項に記載の反射防止透明導電性積層フイルムを用い
   て反射防止膜を形成したことを特徴とする画像表示装
   置。