JP2015515117A - 光学コンポーネント - Google Patents
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Abstract
Description
a.複数のミラー素子を有するミラーアレイであって、
i.各ミラー素子が変位の少なくとも1つの自由度を有し、
ii.各ミラー素子が変位のために少なくとも1つのアクチュエータに接続された
ミラーアレイと、
b.ミラーアレイに機械的に接続された担持体と、
c.ミラー素子の振動を減衰するための複数のローカル調整デバイスと
を備え、
d.それぞれの調整デバイスが、少なくとも1つの可動電極と担持体に対して固 定して配置された少なくとも1つの電極とを有する少なくとも1つの静電容量センサを備える
光学コンポーネントに関する。
電荷移動は、原理上、抵抗RSensを介在させた後、測定電圧として測定することができる。
Claims (16)
- 光学コンポーネント(40;40a)であって、
a.複数のミラー素子(23)を有するミラーアレイ(22)であって、該ミラー素子の各々が
i.変位の少なくとも1つの自由度を有し、
ii.変位のために少なくとも1つのアクチュエータ(131)に接続される
ミラーアレイと、
b.前記ミラーアレイ(22)と機械的に接続される担持体(43)と、
c.前記ミラー素子(23)の振動を減衰する複数のローカル調整デバイス(136)と
を備え、
d.前記ミラー素子(23)全体で前記ミラーアレイ(22)の全反射面の寄せ木張りを形成し、
e.前記ミラーアレイ (22)は表面法線(41)に垂直に延在する全表面を有し、
f.前記担持体(43)は前記ミラーアレイ(22)の前記全表面から前記表面法線(41)に垂直な方向に最大で5mm突出し、
g. 前記調整デバイス(136)の各々は、少なくとも1つの可動電極(38)と、前記担持体(43)に対して固定して配置された少なくとも1つの電極(158)とを有する、少なくとも1つの静電容量センサ(151)を備える光学コンポーネント。 - 請求項1に記載のコンポーネント(40;40a)において、前記センサ(151)が、前記関連するミラー素子(23)の変位の自由度の各々に対し、前記担持体(43)に対して固定して配置された少なくとも1つの電極(158)を有することを特徴とするコンポーネント。
- 請求項1又は2に記載のコンポーネント(40;40a)において、前記少なくとも1つの固定して配置された電極(158)が、前記センサ(151)が所定の形状特徴を有するように具現化された所定の形状を有するコンポーネント。
- 請求項1〜3の何れか一項に記載のコンポーネント(40;40a)において、前記少なくとも1つの固定電極(158)が、特定用途向け集積回路(ASIC)(52;52a)に組み込まれることを特徴とするコンポーネント。
- 請求項1〜4の何れか一項に記載のコンポーネント(40;40a)において、前記少なくとも1つの可動電極(38)が、前記関連するミラー素子(23)を駆動させる前記アクチュエータ(131)の構成部品を形成することを特徴とするコンポーネント。
- 請求項1〜5の何れか一項に記載のコンポーネント(40;40a)において、前記少なくとも1つの可動電極(38)が、前記関連するミラー素子(23)から電気的に分離されることを特徴とするコンポーネント。
- 請求項1〜6の何れか一項に記載のコンポーネント(40;40a)において、前記ローカル調整デバイス(136)が電子回路(137)を有することを特徴とするコンポーネント。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載のコンポーネント(40;40a)を製造する方法であって、前記固定電極(158)を形成するためのリソグラフィステップが設けられる方法。
- ミラー系(157)であって、
a.請求項1〜7の何れか一項に記載の少なくとも1つのコンポーネント(40:40a)と、
b.前記ミラー素子(23)を変位させるグローバル制御/調整デバイス(134)と
を備えるミラー系。 - ミラー系(157)の複数のミラー素子(23)の位置決め方法であって、
・請求項9に記載のミラー系(157)を提供するステップと、
・前記グローバル制御/調整デバイス(134)によって、前記ミラー素子(23)の各々の位置決めのための位置データを予め定めるステップと、
・前記ローカル調整デバイス(136)によって、前記ミラー素子(23)の前記位置決めの外乱を減衰するステップと
を含む位置決め方法。 - 光学アセンブリ(65)であって、
a.光学コンポーネント(40:40a)を配置するベースプレート(59)と、
b.請求項1〜7の何れか一項に記載の少なくとも1つの光学コンポーネント(40:40a)とを備え、
c.前記少なくとも1つの光学コンポーネント(40:40a)が固定デバイス(66)によって前記ベースプレートに固定される光学アセンブリ。 - 請求項9に記載のミラー系(157)を備える投影露光装置(1)用の光学ユニット(4、7)。
- EUV投影露光装置(1)用の照明系であって、
a.請求項12に記載の光学ユニット(4)と、
b.EUV放射線源(3)と
を備える照明系。 - 請求項12に記載の光学ユニット(4、7)を備えるEUVマイクロリソグラフィ用の投影露光装置(1)。
- 微細構造又はナノ構造コンポーネントを製造する方法であって、
・感光材料からなる層が少なくとも部分的に塗布された基板を提供するステップと、
・結像構造を有するレチクル(24)を提供するステップと、
・請求項14に記載の投影露光装置(1)を提供するステップと、
・前記投影露光装置(1)を用いて、前記レチクル(24)の少なくとも一部を、前記基板の前記感光層の領域に投影するステップと
を含む方法。 - 請求項15に記載の方法によって製造されるコンポーネント。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015515116A (ja) * | 2012-02-17 | 2015-05-21 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学コンポーネント |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011006100A1 (de) * | 2011-03-25 | 2012-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel-Array |
DE102013219057A1 (de) * | 2013-09-23 | 2015-03-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Facettenspiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage |
DE102013224607B4 (de) | 2013-11-29 | 2024-06-06 | Robert Bosch Gmbh | Mikro-elektromechanische Anordnung und Verfahren zum Aufbau einer mikro-elektromechanischen Anordnung |
DE102014207866A1 (de) * | 2014-04-25 | 2015-10-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Regelung der Positionierung einer Vielzahl von verstellbaren Spiegel-Elementen einer Vielspiegel-Anordnung |
FI126791B (en) * | 2014-12-29 | 2017-05-31 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy | Mirror disk for an optical interferometer, method for manufacturing a mirror disk and optical interferometer |
DE102015216811B4 (de) | 2015-09-02 | 2023-06-29 | Robert Bosch Gmbh | Schwenkvorrichtung für einen Mikrospiegel |
CN106931878A (zh) * | 2015-12-31 | 2017-07-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种干涉仪测量装置及其控制方法 |
DE102016212260A1 (de) * | 2016-07-05 | 2017-06-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung zur Messung einer Ausrichtung eines Moduls |
DE102016213026A1 (de) | 2016-07-18 | 2018-01-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Sensor-Einrichtung |
JP6880979B2 (ja) | 2016-11-30 | 2021-06-02 | 株式会社リコー | 振動抑制装置および電子機器 |
US10845706B2 (en) | 2017-04-12 | 2020-11-24 | Asml Netherlands B.V. | Mirror array |
DE102021208879A1 (de) * | 2021-08-13 | 2023-02-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches element, projektionsoptik und projektionsbelichtungsanlage |
DE102022209402A1 (de) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mikroelektromechanische Vorrichtung |
DE102023200234A1 (de) | 2023-01-12 | 2024-07-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum herstellen eines optischen systems |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030174376A1 (en) * | 2002-03-12 | 2003-09-18 | Corning Incorporated | Pointing angle control of electrostatic micro mirrors with modified sliding mode control algorithm for precision control |
JP2005099682A (ja) * | 2003-09-03 | 2005-04-14 | Fujitsu Ltd | 光スイッチ制御装置および移動体制御装置 |
JP2009075557A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-04-09 | Carl Zeiss Smt Ag | リソグラフィのための複数のアクチュエータおよび照明装置を制御する方法および装置 |
JP2009111369A (ja) * | 2007-10-12 | 2009-05-21 | Nikon Corp | 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
WO2010049076A2 (de) * | 2008-10-20 | 2010-05-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische baugruppe zur führung eines strahlungsbündels |
JP2010518595A (ja) * | 2007-02-06 | 2010-05-27 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系のマルチミラーアレイを監視するための方法および装置 |
JP2011180528A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Toshiba Corp | Memsミラー制御装置 |
JP2015515116A (ja) * | 2012-02-17 | 2015-05-21 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学コンポーネント |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5110195A (en) | 1990-03-14 | 1992-05-05 | Massachusetts Institute Of Technology | High bandwidth steering mirror |
US6384952B1 (en) * | 1997-03-27 | 2002-05-07 | Mems Optical Inc. | Vertical comb drive actuated deformable mirror device and method |
DE10138313A1 (de) | 2001-01-23 | 2002-07-25 | Zeiss Carl | Kollektor für Beleuchtugnssysteme mit einer Wellenlänge < 193 nm |
US6538802B2 (en) * | 2001-07-31 | 2003-03-25 | Axsun Technologies, Inc | System and method for tilt mirror calibration due to capacitive sensor drift |
US20030174374A1 (en) | 2001-12-11 | 2003-09-18 | Pentax Corporation | Scanning optical system |
US7075699B2 (en) | 2003-09-29 | 2006-07-11 | The Regents Of The University Of California | Double hidden flexure microactuator for phase mirror array |
US7145269B2 (en) | 2004-03-10 | 2006-12-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, Lorentz actuator, and device manufacturing method |
JP2006053396A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-02-23 | Tohoku Univ | 駆動機構、および該機構を備えたマイクロミラー装置 |
US7548302B2 (en) * | 2005-03-29 | 2009-06-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE102006023652B4 (de) | 2006-05-18 | 2008-10-30 | Esa Patentverwertungsagentur Sachsen-Anhalt Gmbh | Elektromotorische Einrichtung zur Betätigung von Gaswechselventilen |
WO2008131930A1 (en) | 2007-04-25 | 2008-11-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Mirror matrix for a microlithographic projection exposure apparatus |
EP2179329A1 (en) | 2007-10-16 | 2010-04-28 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
DE102008050446B4 (de) | 2008-10-08 | 2011-07-28 | Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 | Verfahren und Vorrichtungen zur Ansteuerung von Mikrospiegeln |
DE102009009372A1 (de) | 2009-02-18 | 2010-08-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Monitoring von kippbaren Spiegeln |
JP4816762B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2011-11-16 | オムロン株式会社 | バネの構造および当該バネを用いたアクチュエータ |
US20110027542A1 (en) | 2009-07-28 | 2011-02-03 | Nsk Ltd. | Exposure apparatus and exposure method |
DE102010001388A1 (de) | 2010-01-29 | 2011-08-04 | Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 | Facettenspiegel zum Einsatz in der Mikrolithografie |
JP2011192991A (ja) | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置および方法 |
-
2013
- 2013-01-30 DE DE102013201506A patent/DE102013201506A1/de not_active Withdrawn
- 2013-02-14 EP EP13705754.3A patent/EP2815278B1/en active Active
- 2013-02-14 WO PCT/EP2013/052925 patent/WO2013120927A2/en active Application Filing
- 2013-02-14 JP JP2014557031A patent/JP6207530B2/ja active Active
-
2014
- 2014-07-17 US US14/334,107 patent/US9804501B2/en active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030174376A1 (en) * | 2002-03-12 | 2003-09-18 | Corning Incorporated | Pointing angle control of electrostatic micro mirrors with modified sliding mode control algorithm for precision control |
JP2005099682A (ja) * | 2003-09-03 | 2005-04-14 | Fujitsu Ltd | 光スイッチ制御装置および移動体制御装置 |
JP2010518595A (ja) * | 2007-02-06 | 2010-05-27 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系のマルチミラーアレイを監視するための方法および装置 |
JP2009075557A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-04-09 | Carl Zeiss Smt Ag | リソグラフィのための複数のアクチュエータおよび照明装置を制御する方法および装置 |
JP2009111369A (ja) * | 2007-10-12 | 2009-05-21 | Nikon Corp | 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
WO2010049076A2 (de) * | 2008-10-20 | 2010-05-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische baugruppe zur führung eines strahlungsbündels |
JP2011180528A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Toshiba Corp | Memsミラー制御装置 |
JP2015515116A (ja) * | 2012-02-17 | 2015-05-21 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学コンポーネント |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015515116A (ja) * | 2012-02-17 | 2015-05-21 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学コンポーネント |
US10078271B2 (en) | 2012-02-17 | 2018-09-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical component |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9804501B2 (en) | 2017-10-31 |
DE102013201506A1 (de) | 2013-08-22 |
WO2013120927A3 (en) | 2013-10-10 |
WO2013120927A2 (en) | 2013-08-22 |
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