JP2015513788A5 - - Google Patents

Claims (2)

1. ａ）基板に表面剤を塗布することにより、基板上に改質表面を形成し、前記改質表面は、第１表面エネルギーを特徴とするステップ；
   ｂ）前記改質表面にエネルギーを印加することにより、少なくともイメージ化部分と非イメージ化部分を有するイメージ化改質表面を形成し、前記イメージ化部分が、第２表面エネルギーを有する、ステップ；
   ｃ）前記イメージ化改質表面とブロックコポリマー組成物を接触させることにより、第１表面エネルギー及び第２表面エネルギーの少なくとも１つに基づいて選択されたパターンを形成するステップ
   を含む方法であって、
   前記ブロックコポリマーが、
   １）モノマー１
   

   

   （Ｘは、Ｈ又はメチルであり、Ｒは、任意選択でヒドロキシル若しくは保護ヒドロキシル基により置換され、また任意選択でエーテル結合を含む、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル及び部分的フッ素化アルキル基、並びにＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基からなる群から選択される）
   の重合から得られる第１ブロック；及び
   ２）第１ブロックに共有結合した第２ブロックであって、第２ブロックは、モノマー２
   

   

   （Ａｒは、ピリジル基、フェニル基、又はヒドロキシル、保護ヒドロキシル、アセトキシ、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、フェニル、置換フェニル、−ＳｉＲ’_３、及び−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ’からなる群から選択される置換基を含むフェニル基であり、ここで、Ｒ’は、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基からなる群から選択される）；
   の重合から得られる、第２ブロック
   を含み、
   −モノマー１及びモノマー２は、モノマー１のホモポリマーとモノマー２のホモポリマーの全表面エネルギー値同士の差が１０ダイン／ｃｍを超えるように選択され；
   −前記第１ブロックは、５〜９５質量％のブロックコポリマーを含み；
   −前記ブロックコポリマーの分子量は、５，０００〜２５０，０００であり；
   −前記組成物は、５質量％未満のモノマー１のホモポリマーと５質量％未満のモノマー２のホモポリマーを含む、方法。
2. ａ）基板上に１つ又は複数の誘導構造体を作製することにより、改質表面を形成するステップ、
   ｂ）前記表面誘導構造体をブロックコポリマーと接触させるステップ
   を含む方法であって、
   前記ブロックコポリマーが、
   １）モノマー１
   

   

   （Ｘは、Ｈ又はメチルであり、Ｒは、任意選択でヒドロキシル若しくは保護ヒドロキシル基により置換され、また任意選択でエーテル結合を含む、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル及び部分的フッ素化アルキル基、並びにＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基からなる群から選択される）
   の重合から得られる第１ブロック；及び
   ２）第１ブロックに共有結合した第２ブロックであって、モノマー２
   

   

   （Ａｒは、ピリジル基、フェニル基、又はヒドロキシル、保護ヒドロキシル、アセトキシ
   、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、フェニル、置換フェニル、−ＳｉＲ’_３、及び−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ’からなる群から選択される置換基を含むフェニル基であり、ここで、Ｒ’は、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基からなる群から選択される）；
   の重合から得られる、第２ブロック
   を含み、
   −モノマー１及びモノマー２は、モノマー１のホモポリマーとモノマー２のホモポリマーの全表面エネルギー値同士の差が１０ダイン／ｃｍを超えるように選択され；
   −前記第１ブロックは、前記ブロックコポリマーの５〜９５質量％を含み；
   −前記ブロックコポリマーの分子量は、５，０００〜２５０，０００であり；
   −前記組成物は、５質量％未満のモノマー１のホモポリマーと５質量％未満のモノマー２のホモポリマーを含む、方法。