JP2015513500A - 向上した酸素遮断性を有する食品容器及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
表面エネルギーが低く、多孔質のプラスチック材質の容器にプラズマ方式によって酸素遮断膜を破れずに蒸着することにより、酸素遮断性を大幅に高めることができる食品容器及びその製造方法を提供する。上記のような目的を達成するために、本発明の向上した酸素遮断性を有する食品容器は、プラスチック材質の容器１０と、容器１０の表面上に形成され、５ｎｍ乃至３０ｎｍの厚さを有する緩衝薄膜２０と、緩衝薄膜２０上に形成される酸素遮断膜３０と、を含む。
Description
本発明は、食品容器及びその製造方法に関し、より詳細には、表面エネルギーが低く、多孔質のプラスチック材質の容器にプラズマ方式により酸素遮断膜を破れずに蒸着することで、酸素遮断性を大幅に高めることができる食品容器及びその製造方法に関する。
腐りやすい食品を長く保管するために、食品容器に酸素遮断能力を持つことは、非常に重要なことである。プラスチック材質の食品容器は、低価格と大量生産の容易性という大きな長所を持っているが、同時にプラスチック特有の特徴である多孔質構造によって酸素遮断性が格段に落ちるという短所を持っている。
これを解決するために、プラズマ方式を利用して薄膜をプラスチック食品容器にコーティングする技術が研究されてきた。しかしながら、このような研究の成果は、ポリエチレンテレフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ＰＥＴのような比較的表面エネルギー（０．０３１〜０．０４７Ｎ／ｍ、Ａｃｃｕ ｄｙｎｅ ｔｅｓｔ）の高いプラスチックのみに限定されており、ポリプロピレン（Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ、ＰＰ）のように表面エネルギー（０．０２３〜０．０３８Ｎ／ｍ、Ａｃｃｕ ｄｙｎｅ ｔｅｓｔ）の低いプラスチックには効果が得られていない。
このようなことは、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴよりも多孔質であるポリプロピレンＰＰの特徴に起因したものと知られている。［参考文献：Ｎ．Ｉｎａｇａｋｉ，ｅｔａｌ．，Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ７８（２０００）２３８９−２３９７．］
結果として、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴでは、表面上に蒸着される薄膜の厚さを増加させるほど、酸素遮断性が増加する特徴を示すことに反して、ポリプロピレンＰＰでは、表面上に蒸着された薄膜の厚さを増加させても酸素遮断性が向上されない様子を示している。［参考文献：Ｄ．Ｓ．Ｆｉｎｃｈ，ｅｔ ａｌ．，Ｐａｃｋａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ａｎｄ Ｓｃｉｅｎｃｅ９（１９９６）７３−８５．］
これは、ポリプロピレンＰＰの表面に蒸着された薄膜がポリプロピレンＰＰの低い表面エネルギーと多孔質構造により、ポリプロピレンＰＰの表面によく付いておらず、剥がれたり、又は割れたりすることを意味する。
このような理由により、プラズマ方式によって薄膜をポリプロピレンＰＰにコーティングして酸素遮断性を付加した製品は出ることができなかった。しかし、ポリプロピレンＰＰは、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴなどのような他のプラスチック素材に比べて価格競争力、耐熱性、環境ホルモンに対する安定性などの長所を持つため、向上した酸素遮断性を備えて食品容器に応用された場合、大きな経済的価値が期待される素材である。
このような理由により、プラズマ方式によって薄膜をポリプロピレンＰＰにコーティングして酸素遮断性を付加した製品は出ることができなかった。しかし、ポリプロピレンＰＰは、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴなどのような他のプラスチック素材に比べて価格競争力、耐熱性、環境ホルモンに対する安定性などの長所を持つため、向上した酸素遮断性を備えて食品容器に応用された場合、大きな経済的価値が期待される素材である。
Ｎ．Ｉｎａｇａｋｉ，ｅｔａｌ．，Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ７８（２０００）２３８９−２３９７．
Ｄ．Ｓ．Ｆｉｎｃｈ，ｅｔ ａｌ．，Ｐａｃｋａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ａｎｄ Ｓｃｉｅｎｃｅ９（１９９６）７３−８５．
以上のように、本発明は、上述した問題を解決するために案出されたものであり、その目的は、表面エネルギーが低く、多孔質のプラスチック材質の容器にプラズマ方式によって酸素遮断膜を破れずに蒸着することにより、酸素遮断性を大幅に高めることができる食品容器及びその製造方法を提供することである。
上記のような目的を達成するための本発明の特徴によれば、本発明の向上した酸素遮断性を有する食品容器は、プラスチック材質の容器、前記容器の表面上に形成され、５ｎｍ乃至３０ｎｍの厚さを有する緩衝薄膜及び前記緩衝薄膜上に形成される酸素遮断膜を含む。
また、前記酸素遮断薄膜は、その厚さが２５ｎｍ乃至５０ｎｍであることを特徴とする。
また、前記容器の表面は、前記緩衝薄膜との付着力を向上させるためにプラズマ前処理されたことを特徴とする。
また、前記容器は、ポリプロピレンＰＰで形成されたことを特徴とする。
また、前記緩衝薄膜は、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯまたはシリコンＳｉで形成されたことを特徴とする。
また、前記酸素遮断薄膜は、酸化シリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｏｘｉｄｅ）で形成されたことを特徴とする。
また、前記酸素遮断薄膜上に形成される機能性薄膜をさらに含むことを特徴とする。
また、前記機能性薄膜は、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯまたはＦ−ＤＬＣ（Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ）で形成されたことを特徴とする。
さらに、本発明の向上した酸素遮断性を有する食品容器の製造方法は、（ａ）プラスチック材質の容器を準備する段階と、（ｂ）前記容器の表面を酸素プラズマ処理する段階と、（ｃ）前記容器の表面に５ｎｍ乃至３０ｎｍの厚さを有する緩衝薄膜を蒸着形成する段階と、（ｄ）前記緩衝薄膜上に酸素遮断膜を蒸着形成する段階と、を含む。
さらに、本発明の向上した酸素遮断性を有する食品容器の製造方法は、（ａ）プラスチック材質の容器を準備する段階と、（ｂ）前記容器の表面を酸素プラズマ処理する段階と、（ｃ）前記容器の表面に５ｎｍ乃至３０ｎｍの厚さを有する緩衝薄膜を蒸着形成する段階と、（ｄ）前記緩衝薄膜上に酸素遮断膜を蒸着形成する段階と、を含む。
また、前記酸素遮断薄膜は、その厚さが２５ｎｍ乃至５０ｎｍであることを特徴とする。
また、前記容器は、ポリプロピレンＰＰで形成されたことを特徴とする。
また、前記（ｃ）段階と、前記（ｄ）段階は、プラズマ化学気相蒸着法（ＰｌａＳｍａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ ＤｅｐｏＳｉｔｉｏｎ）によって進行することを特徴とする。
また、前記緩衝薄膜は、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯまたはシリコンＳｉで形成されたことを特徴とする。
また、前記酸素遮断薄膜は、酸化シリコンで形成されたことを特徴とする。
また、前記酸素遮断薄膜上に機能性薄膜を蒸着形成する（ｅ）段階をさらに含むことを特徴とする。
また、前記機能性薄膜は、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯまたはＦ−ＤＬＣ（Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ）で形成されたことを特徴とする。
以上説明したような本発明によると、表面エネルギーが低く、多孔質のプラスチック材質の容器にプラズマ方式により酸素遮断膜を破れずに蒸着することで、酸素遮断性を大幅に高めることができる食品容器及びその製造方法を提供することができる。
その他の実施例の具体的な事項は、詳細な説明及び図面に含まれている。本発明の利点及び特徴、そしてそれらを達成する方法は添付される図面と共に詳細に後述される実施例を参照すれば明確になるだろう。しかし、本発明は、以下に開示される実施例に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で具現することができ、単に本実施例は、本発明の開示が完全になるようにして、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、請求項の範囲によって定義されるだけである。明細書全体にわたって同一参照符号は同一の構成要素を指す。
以下、本発明の実施例及びこれを説明するための図面を参照して本発明の向上した酸素遮断性を有する食品容器及びその製造方法について説明する。
図１は、本発明の第１実施例による食品容器を示した図である。図１を参照すると、本発明の第１実施例による向上した酸素遮断性を有する食品容器１（以下、「食品容器」と言う）は、容器１０、緩衝薄膜２０、酸素遮断薄膜３０を含む。
容器１０は、内部に食品が盛り込まれる所定の収容空間を備えることができ、プラスチック材料で形成される。前記容器１０は、表面エネルギーが低く、多孔質のポリプロピレンＰＰと同じ素材で形成されるのが本発明の趣旨に合致することであるが、ポリプロピレンＰＰよりも表面エネルギーがさらに低いか、多孔質の他のプラスチック素材で形成されることもでき、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴのような表面エネルギーの高いプラスチック素材で形成されてもよい。
緩衝薄膜２０は、容器１０の表面１２上に形成され、最適の酸素遮断性を具現するために５ｎｍ乃至３０ｎｍの厚さを有することが望ましい。また、緩衝薄膜２０は、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯで形成されることが望ましいが、シリコンで形成することもできる。このとき、緩衝薄膜２０が形成される容器１０の表面１２は、緩衝薄膜２０との付着力を向上させるために、緩衝薄膜２０の形成前にプラズマ前処理されることが望ましい。
酸素遮断薄膜３０は、前記緩衝薄膜２０上に形成され、最適の酸素遮断性を具現するために、２５ｎｍ乃至５０ｎｍの厚さを有することが望ましい。
また、酸素遮断薄膜３０は、酸化シリコンで形成されることが望ましい。
図２は、図１に示された食品容器の製造方法を示した図である。図２を参照すると、本発明の第１実施例による食品容器１の製造方法は、容器の準備段階Ｓ１００、プラズマ前処理段階Ｓ２００、緩衝薄膜の蒸着段階Ｓ３００、酸素遮断薄膜の蒸着段階Ｓ４００を含む。
容器の準備段階Ｓ１００では、プラスチック材質の容器１０を準備する。このとき、容器１０は、表面エネルギーが低く、多孔質の特性が大きくて薄膜の付着が困難なポリプロピレンＰＰで形成されたことが望ましい。
プラズマ前処理段階Ｓ２００では、緩衝薄膜２０を蒸着する前に、容器１０の表面エネルギーを増加させるために容器１０の表面１２を酸素プラズマ処理する。具体的には、プラズマ前処理段階Ｓ２００を調べてみると、まず、ポリプロピレンＰＰ材質の容器１０をＲＦ−ＣＶＤ（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ−Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）装置（図示せず）のチャンバー内に位置させ、ポンプ等を通じてチャンバー内の真空状態を形成する。
その後、一定の流量で酸素ガスをチャンバー内に流入させ、ＲＦ−ｐｏｗｅｒを印加してプラズマ状態を発生させることで、プラズマ前処理工程を遂行する。プラズマ状態が形成されることにより、チャンバー内に自体的な電圧の差（Ｓｅｌｆ−ｂｉａｓ ｖｏｌｔａｇｅ）が発生することになり、このため、酸素の粒子がエネルギーを持って容器１０の表面１２と反応することになる。このような酸素と容器表面１２との化学反応によって容器１０の表面エネルギーが上昇することになる。したがって、その後の緩衝薄膜の蒸着段階Ｓ３００で形成される緩衝薄膜２０と容器１０との間の付着力が増加することができ、酸素遮断性も同様に増加されうる。
プラズマ処理を遂行していない試験片（ＨＭＤＳＯ（１００ｎｍ）／ＳｉＯｘ（５０ｎｍ）とプラズマ前処理を遂行した試験片（Ｏ２／ＨＭＤＳＯ（１００ｎｍ）／ＳｉＯｘ（５０ｎｍ））の酸素遮断性とを比較した図３を参照すると、プラズマ前処理を遂行した試験片の酸素遮断性がそうでない試験片よりも高いということが分かる（プラズマ前処理を遂行した試験片の酸素透過度（Ｏｘｙｇｅｎ Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｒａｔｅ、ＯＴＲ）がそうでない試験片よりも低い）。これは、容器の表面１２に対するプラズマ前処理を行っていない場合、その後の薄膜がよく蒸着されないため、薄膜の質が悪くなり、酸素遮断性が落ちるからである。
緩衝薄膜の蒸着段階Ｓ３００では、プラズマ処理された容器１０の表面１２上に緩衝薄膜２０を蒸着形成する。緩衝薄膜２０は、プラスチック容器１０の機械的変形を前記緩衝薄膜２０上に蒸着される酸素遮断薄膜３０に直接伝達せずに、吸収する役目をする。緩衝薄膜２０は、ヤング率（Ｙｏｕｎｇ’ｓ ｍｏｄｕｌｕｓ）が低くて、相対的に変形しやすい薄膜であり、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯまたはシリコンＳｉのような物質で形成することができる。
具体的に緩衝薄膜の蒸着段階Ｓ３００を調べてみると、プラズマ前処理段階Ｓ２００の進行後、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯ気体をＲＦ−ＣＶＤ装備のチャンバー内に投入させてプラズマ状態を形成する。ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯ気体のプラズマ反応により、容器１０の表面１２上には、プラズマ重合されたヘキサメチルジシロキサン（ｐｌａｓｍａ ｐｏｌｙｍｅｒｉｚｅｄ ＨＭＤＳＯ、ｐｐ−ＨＭＤＳＯ）材質の緩衝薄膜２０が形成されることができる。
図４は、緩衝薄膜及び酸素遮断薄膜の厚さを変化させることによって変化する酸素遮断性を示すグラフであり、優れた酸素遮断性を得るための緩衝薄膜２０及び酸素遮断薄膜３０の「最適の厚さ」が存在することを示している。特に、図４のグラフは、プラズマ重合されたヘキサメチルジシロキサンｐｐ−ＨＭＤＳＯ材質の緩衝薄膜２０と酸化シリコンＳｉＯｘ材質の酸素遮断薄膜３０を形成して試験した結果を示した。
図４を参照すると、本発明の緩衝薄膜２０は、５ｎｍ乃至３０ｎｍの厚さを有することが望ましい。緩衝薄膜２０をあまり薄い厚さで形成する場合、緩衝の役目を十分に行うことができず、緩衝薄膜２０をあまり厚い厚さで形成する場合、緩衝薄膜２０の圧縮エネルギーによって酸素遮断薄膜３０の割れを招くことになって、酸素遮断性が阻害される可能性があるからである。また、図４に示したように、緩衝薄膜２０が５ｎｍ乃至３０ｎｍの厚さで形成された場合、それ以外の厚さに比べて優れた酸素遮断性を有することが分かる。
特に、酸化シリコンＳｉＯｘ材質の酸素遮断薄膜３０が３０ｎｍの厚さで形成された場合、緩衝薄膜２０が８ｎｍ乃至１０ｎｍ程度の厚さで形成されれば、０．０３ｃｃ／ｐｋｇの著しく低い酸素透過度を有するようになって高い酸素遮断性を具現することができる。また、酸化シリコンＳｉＯｘ材質の酸素遮断薄膜３０が５０ｎｍの厚さで形成された場合にも、緩衝薄膜２０が８ｎｍ乃至１０ｎｍ程度の厚さで形成されれば、０．０７ ｃｃ／ｐｋｇの低い酸素透過度を有するようになって高い酸素遮断性を具現することができる。
図５は、図４の試験結果のうち、酸素遮断薄膜の厚さが３０ｎｍである場合について、緩衝薄膜の厚さを増加させながら変化する食品容器の表面形状を走査電子顕微鏡ＳＥＭで撮影したイメージを示した図である。
図５を参照すると、プラズマ重合されたヘキサメチルジシロキサンｐｐ−ＨＭＤＳＯ材質の緩衝薄膜２０が８ｎｍ乃至１０ｎｍである場合には、酸素遮断薄膜３０の亀裂が最小化され、最も優れた酸素遮断性を示しており、緩衝薄膜２０の厚さを３０ｎｍに増加させた場合には、酸素遮断薄膜３０に微々たる亀裂が発生して酸素遮断性が多少落ちるような現象を示した。しかし、緩衝薄膜２０の厚さを５０ｎｍに増加させた場合には、緩衝薄膜２０の圧縮エネルギーによって酸素遮断薄膜３０が亀裂がひどくなり、そのため酸素遮断性が急激に減少するような現象を示した。
酸素遮断薄膜の蒸着段階Ｓ４００では、緩衝薄膜２０上に酸素遮断薄膜３０を蒸着形成する。酸素遮断薄膜３０は、密度の高い薄膜で酸素分子が食品容器１に出入りできないようにする役目を遂行する。一般に、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴなどのようなプラスチック素材上では、酸素遮断薄膜３０の厚さが増加するほど、酸素遮断性が向上すると知られているが、ポリプロピレンＰＰのような素材の上ではそうではない。その理由は、酸素遮断薄膜３０があまり厚くてポリプロピレンＰＰ上で蒸着される場合、接着性に優れていないため、割れ現象が発生するからである。また、酸素遮断薄膜３０があまり薄い厚さで形成される場合には、十分な酸素遮断性を具現できなくなる。
上記のような条件を満足するためには、図４に示されたように、酸素遮断薄膜３０の厚さを２５ｎｍ乃至５０ｎｍで設定することが望ましい。つまり、酸素遮断薄膜３０の厚さを２５ｎｍ乃至５０ｎｍで設定した場合に、０．１ｃｃ／ｐｋｇ以下の酸素透過度を達成することができるからである。０．１ｃｃ／ｐｋｇ以下の酸素透過度は、ポリプロピレンＰＰ自体の酸素透過度に比べて１０倍程度縮減されたものであり、十分に容器１０の内部に盛り込まれた食品の長期保存を可能にすることができる酸素遮断性を示す。
特に、図４に示されたように、最低の酸素透過度を達成するために、酸素遮断薄膜３０の厚さが３０ｎｍ程度、好ましくは２５ｎｍ乃至３５ｎｍでも設定することができる。酸素遮断薄膜３０に使用することができる素材としては、酸化シリコンＳｉＯｘが望ましい。具体的には、酸素遮断薄膜の蒸着段階Ｓ４００を調べてみると、緩衝薄膜の蒸着段階Ｓ３００の進行後、少量の酸素気体と多量のヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯガスをＲＦ−ＣＶＤ装備のチャンバー内に投入し、プラズマ反応を進めて緩衝薄膜２０上に酸化シリコンＳｉＯｘ材質の酸素遮断薄膜３０を形成することができる。
従来は高価のエチレンビニルアルコール（Ｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｖｉｎｙｌ Ａｌｃｏｈｏｌ、ＥＶＯＨ）をポリプロピレンＰＰに混合または接着することにより、酸素遮断性を高める方式を使用したが、上述した本発明では、エチレンビニルアルコールＥＶＯＨを使用しないことにより、コストを削減し、価格競争力を確保することができる。また、エチレンビニルアルコールＥＶＯＨを利用する方式では、食品容器にポリプロピレンＰＰ以外の物質が多量に含まれており、リサイクルに困難さがあるが、プラズマ方式を活用した本発明は、リサイクルが容易であるという長所がある。
図６は、本発明の第２実施例による食品容器を示した図である。図６を参照すると、本発明の第２実施例による食品容器１’は、本発明の第１実施例による食品容器１に比べて機能性薄膜４０をさらに含む。
機能性薄膜４０は、酸素遮断薄膜３０上に所望の表面特性を付加するためのものであり、酸素遮断薄膜３０上に形成されることができる。ここで、機能性薄膜４０は、疎水性、低摩擦特性などの表面特性を持つことができ、機能性薄膜４０も同様に圧縮エネルギーが含まれているので、最適の厚さで形成されることが望ましい。疎水性を有する機能性薄膜４０としては、表面エネルギーの低いヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯまたはＦ−ＤＬＣ（Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ）等が利用されることができる。
図７は、図６に示されている食品容器の製造方法を示した図である。図７を参照すると、本発明の第２実施例による食品容器１’の製造方法は、本発明の第１実施例による食品容器１の製造方法に比べて機能性薄膜蒸着段階Ｓ５００をさらに含む。
機能性薄膜蒸着段階Ｓ５００は、酸素遮断薄膜の蒸着段階Ｓ４００以後に進行され、機能性薄膜蒸着段階Ｓ５００では、酸素遮断薄膜３０上に機能性薄膜４０を蒸着形成する。
機能性薄膜４０の蒸着形成は、緩衝薄膜の蒸着段階Ｓ３００及び酸素遮断薄膜の蒸着段階Ｓ４００と同様に、プラズマ化学気相蒸着法（Ｐｌａｓｍａ ＣＶＤ）により行うことができる。したがって、ＲＦ−ＣＶＤ装備のチャンバー内にヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯ気体を投入してプラズマ状態を形成する場合には、プラズマ重合されたヘキサメチルジシロキサンｐｐ−ＨＭＤＳＯ材質の機能性薄膜４０が酸素遮断薄膜３０上に形成されることができる。
以上説明したように、本発明の最も好ましい実施例について説明したが、本発明は、上記記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載され、又は明細書に開示された発明の要旨に基づき、当業者において様々な変形や変更が可能なのはもちろんであり、斯かる変形や変更が、本発明の範囲に含まれることは言うまでもない。
１、１’ 食品容器、
１０ 容器、
２０ 緩衝薄膜、
３０ 酸素遮断薄膜、
４０ 機能性薄膜
１０ 容器、
２０ 緩衝薄膜、
３０ 酸素遮断薄膜、
４０ 機能性薄膜
Claims (16)
- プラスチック材質の容器と、
前記容器の表面上に形成され、５ｎｍ乃至３０ｎｍの厚さを有する緩衝薄膜と、
前記緩衝薄膜上に形成される酸素遮断膜と、
を含む向上した酸素遮断性を有することを特徴とする食品容器。 - 前記酸素遮断薄膜は、その厚さが２５ｎｍ乃至５０ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の食品容器。
- 前記容器の表面は、前記緩衝薄膜との付着力を向上させるためにプラズマ前処理されたことを特徴とする請求項１に記載の食品容器。
- 前記容器は、ポリプロピレンＰＰで形成されたことを特徴とする請求項１に記載の食品容器。
- 前記緩衝薄膜は、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯまたはシリコンＳｉで形成されたことを特徴とする請求項１に記載の向上した酸素遮断性を有する食品容器。
- 前記酸素遮断薄膜は、酸化シリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｏｘｉｄｅ）で形成されたことを特徴とする向上した酸素遮断性を有する請求項１に記載の食品容器。
- 前記酸素遮断薄膜上に形成される機能性薄膜をさらに含むことを特徴とする向上した酸素遮断性を有する請求項１に記載の食品容器。
- 前記機能性薄膜は、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯまたはＦ−ＤＬＣ（Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ）で形成されたことを特徴とする向上した酸素遮断性を有する請求項７に記載の食品容器。
- （ａ）プラスチック材質の容器を準備する段階と、
（ｂ）前記容器の表面を酸素プラズマ処理する段階と、
（ｃ）前記容器の表面に５ｎｍ乃至３０ｎｍの厚さを有する緩衝薄膜を蒸着形成する段階と、
（ｄ）前記緩衝薄膜上に酸素遮断膜を蒸着形成する段階と、
を含むことを特徴とする向上した酸素遮断性を有する食品容器の製造方法。 - 前記酸素遮断薄膜は、その厚さが２５ｎｍ乃至５０ｎｍであることを特徴とする 請求項９に記載の向上した酸素遮断性を有する食品容器の製造方法。
- 前記容器は、ポリプロピレンＰＰで形成されたことを特徴とする請求項９に記載の向上した酸素遮断性を有する食品容器の製造方法。
- 前記（ｃ）段階と、前記（ｄ）段階は、プラズマ化学気相蒸着法（ＰｌａＳｍａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ ＤｅｐｏＳｉｔｉｏｎ）によって進行されることを特徴とする 請求項９に記載の向上した酸素遮断性を有する食品容器の製造方法。
- 前記緩衝薄膜は、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯまたはシリコンＳｉで形成されたことを特徴とする請求項９に記載の向上した酸素遮断性を有する食品容器の製造方法。
- 前記酸素遮断薄膜は、酸化シリコンで形成されたことを特徴とする請求項９に記載の向上した酸素遮断性を有する食品容器の製造方法。
- 前記酸素遮断薄膜上に機能性薄膜を蒸着形成する（ｅ）段階をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の向上した酸素遮断性を有する食品容器の製造方法。
- 前記機能性薄膜は、ヘキサメチルジシロキサンＨＭＤＳＯまたはＦ−ＤＬＣ（Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ）で形成されたことを特徴とする請求項１５に記載の向上した酸素遮断性を有する食品容器の製造方法。
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