JP2015511770A - 投影露光装置のための照明光学ユニット - Google Patents

Abstract

投影露光装置のための照明光学ユニット（２５）は、リソグラフィマスク（７）を配置することができる照明視野（５）に向けて照明光（１６）を案内するように機能する。第１のファセットミラー（１９）は、照明光部分ビーム（１６i）を照明視野（５）に向けて案内するための照明チャネルを提供する複数の個々のミラー（２６）を有する。個々のミラー（２６）は、各々が多層反射コーティングを担持する。照明光（１６）のビーム経路内で第１のファセットミラー（１９）の下流には、第２のファセットミラー（２０）が配置される。第２のファセットミラー（２０）のそれぞれのファセット（３５）は、第１のファセットミラー（１９）の個々のミラー（２６）のうちの少なくとも１つと共に、照明光部分ビーム（１６i）を照明視野（５）に向けて案内するための照明チャネルを完成する。個々のミラー（２６）は、それぞれの照明光部分ビーム（１６i）が、個々のミラー（２６）上に入射角（Ｉ）で入射し、それによって入射平面が定められるように配置される。入射角（Ｉ）は、入射平面内で偏光された照明光（１６）に対する反射率Ｒｐと、入射平面と垂直に偏光された照明光（１６）に対する反射率Ｒｓとの間の比Ｒｐ／Ｒｓが０．８よりも小さいように予め定められる。これは、照明が、影露光中に最適な分解能性能を得るように適応可能である照明光学ユニットをもたらす。【選択図】図６

Description

ドイツ特許出願ＤＥ １０ ２０１２ ２０３ ９５０．３の内容が引用によって組み込まれている。

本発明は、リソグラフィマスクを配置することができる照明視野に向けて照明光を案内するための投影露光装置、特にＥＵＶ投影露光装置のための照明光学ユニットに関する。本発明は、更に、そのような照明光学ユニットを含む照明系、そのような照明系を含む投影露光装置、そのような投影露光装置を用いて微細又はナノ構造化構成要素を生成する方法、及び本方法によって生成される微細又はナノ構造化構成要素に関する。

ＥＵＶ投影露光装置のための照明光学ユニットは、取りわけＵＳ ２０１１／０００１９４７ Ａ１から公知である。

ＤＥ １０ ２０１２ ２０３ ９５０．３ ＵＳ ２０１１／０００１９４７ Ａ１ ＵＳ ２００６／０１３２７４７ Ａ１ ＵＳ ６，８５９，５１５ Ｂ２ ＥＰ １ ２２５ ４８１ Ａ

本発明の目的は、照明が、投影露光中に最適な分解能性能を得るように適応可能であるような冒頭に示したタイプの照明光学ユニットを開発することである。

この目的は、請求項１に指定された特徴を含む照明光学ユニットを用いて達成される。

本発明により、特に個々のミラーの多層反射コーティングに起因して、個々のミラーの反射幾何学形状を用いて照明光の偏光選択を行うことができることが認識されている。この偏光選択は、それぞれの個々のミラーにおける反射の入射平面と垂直に偏光された照明光が、この入射平面と平行に偏光された照明光に対して優先して反射されるということによって行われる。ファセットミラー装置上に実質的に非偏光方式で入射する照明光から、支配的方向に偏光された照明光部分ビームを有する照明光をこの手法で生成することができる。それによって特に照明角度に基づいて、厳しい分解能条件を満たすのに必要とされる偏光が各々目標を定めた方式に使用される照明視野の照明を可能にすることができる。比Ｒｐ／Ｒｓは、０．７よりも小さくすることができ、０．６よりも小さくすることができ、０．５よりも小さくすることができ、０．４よりも小さくすることができ、０．３よりも小さくすることができ、０．２よりも小さくすることができ、０．１よりも小さくすることができ、０．０５よりも小さくすることができ、０．０２よりも小さくすることができ、０．０１よりも小さくすることができ、１×１０^-3よりも小さくすることができ、１×１０^-4よりも小さくすることができ、１×１０^-5よりも小さくすることができる。特に、比Ｒｐ／Ｒｓは、正確に０とすることができ、従って、入射平面内で偏光されたそれぞれの照明光部分ビームをそれぞれの個々のミラーにおける反射によって完全に抑制することができる。一般的に、第２のファセットミラーのファセットは、第１のファセットミラーの個々のミラー群と合わさって、第２ファセットミラーのこのファセットと第１のファセットミラーの個々のミラー群とが属する群照明チャネルを完成する。そのような配置の原理は、ＵＳ ２０１１／０００１９４７ Ａ１から公知である。比Ｒｐ／Ｒｓは、個々のミラー上のそれぞれの照明光部分ビームの入射角を用いて予め定めることができ、多層反射コーティングの構造に基づいて、この入射角に鋭敏に依存する。

請求項２に記載の入射角は、入射平面と垂直に振動する偏光成分に優先度を与える比Ｒｐ／Ｒｓを予め定めるのに特に適している。ブリュースター角からの入射角のずれは、２０°よりも小さく、１０°よりも小さく、５°よりも小さく、３°よりも小さく、２°よりも小さく、又は１°よりも小さいとすることができる。特に、入射角は、ブリュースター角に正確に対応することができる。

請求項３及び請求項４に記載の回転対称に配置された担体は、平均入射角から僅かしかずれない入射角が使用されるファセットミラーにおいて、照明光部分ビームに対して可能な反射幾何学形状を可能にし、この場合に、平均入射角は、望ましい比Ｒｐ／Ｒｓを予め定めるのに使用されるものである。

請求項５に記載のリング形ファセット担体は、特に、照明視野の照明においてタンジェンシャル偏光を可能にし、この場合に、照明視野内の物体は、照明角度に関係なく物体上への照明光の入射平面と垂直に偏光される方式で照明することができる。

請求項６に記載の照明視野の区画毎の照明は、偏光事前定義を除いて、例えば、ＵＳ ２００６／０１３２７４７ Ａ１から公知のものである鏡面反射器の方式での照明光学ユニットの配置を可能にする。照明視野の照明区画は、全照明視野のうちの５０％よりも小さいか又は更に小さいもの、例えば、１／３、１／４、１／６とすることができ、又は全照明視野のうちの更に小さい割合を含むことができる。

請求項７に記載の照明系、請求項８に記載の投影露光装置、請求項９に記載の生成方法、及び請求項１０に記載の構成要素の利点は、本発明による照明光学ユニットを参照して上述したものに対応する。構成要素は、極めて高い構造分解能で生成することができる。一例として、このようにして極めて高い集積密度又は記憶密度を有する半導体チップを生成することができる。

図面を参照して本発明の例示的実施形態を以下により詳細に説明する。

本発明によらない照明光学ユニット内の照明光案内を略例示するＥＵＶ投影リソグラフィのための投影露光装置を通る略子午断面図である。 照明視野に向けて照明光学ユニットの２つのファセットミラーを経由する照明光のビーム案内領域内の照明光学ユニットの本発明による実施形態からの抜粋部を示す同様の子午断面図である。 図２の詳細領域ＩＩＩ内の抜粋拡大図である。 最初に入射平面と垂直に偏光された照明光（Ｓ）、更に入射平面と平行に偏光された照明光（Ｐ）に関する図２に記載の照明光学ユニットの第１のファセットミラーの個々のミラー上への入射角Ｉへの反射Ｒの依存性のグラフである。 照明光学ユニットの第２のファセットミラーのファセットを通して案内される照明光部分ビームが各々照明視野の区画を照明し、すなわち、全照明視野を照明するわけではない照明光学ユニットの更に別の実施形態を示す図２と類似の図である。 図２に記載の照明光学ユニットを示し、更に、照明角度に依存する照明視野の視野点の照明の偏光分布（タンジェンシャル偏光）を示す図である。 図６に記載の偏光分布の平面図である。

図１は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置１を子午断面に略示している。投影露光装置１は、光源２又は放射線源２を含む。投影露光装置１の照明系３は、物体平面６の物体視野５と一致する照明視野を露光するための照明光学ユニット４を有する。照明視野は、物体視野５よりも大きいとすることができる。この場合に、物体視野５に配置され、物体ホルダ又はレチクルホルダ８によって保持されるレチクル７の形態にある物体が露光される。レチクル７をリソグラフィマスクとも表している。物体ホルダ８は、物体変位ドライブ９を用いて変位方向に沿って変位可能である。投影光学ユニット１０は、物体視野５を像平面１２の像視野１１に結像するように機能する。レチクル７上の構造は、像平面１２の像視野１１の領域に配置されたウェーハ１３の感光層上に結像される。ウェーハ１３は、ウェーハホルダ１４によって保持される。ウェーハホルダ１４もまた、ウェーハ変位ドライブ１５を用いて物体ホルダ８と同期する方式で変位方向に沿って変位可能である。

放射線源２は、５ｎｍと３０ｎｍの間の範囲の放出使用放射線を有するＥＵＶ放射線源である。ＥＵＶ放射線源は、プラズマ光源、例えば、ＧＤＰＰ光源（ガス放電生成プラズマ）又はＬＰＰ光源（レーザ生成プラズマ）を含むことができる。シンクロトロン又は自由電子レーザ（ＦＥＬ）に基づく放射線源を放射線源２に対して使用することができる。当業者は、そのような放射線源に関する情報を例えばＵＳ ６，８５９，５１５ Ｂ２から求めることができるであろう。放射線源２から射出するＥＵＶ放射線１６は、コレクター１７によって集光される。対応するコレクターは、ＥＰ １ ２２５ ４８１ Ａから公知である。コレクター１７の下流において、ＥＵＶ放射線１６は、中間焦点面１８を通って伝播し、その後に、視野ファセットミラー１９上に入射する。視野ファセットミラー１９は、照明光学ユニット４の第１のファセットミラーである。視野ファセットミラー１９は、複数の個々のミラー（図１には例示していない）を有する。視野ファセットミラー１９は、物体平面６に対して光学的に共役である照明光学ユニット４の平面に配置される。

以下では、ＥＵＶ放射線１６を照明光又は結像光とも表している。照明光１６は、第１のファセットミラー１９上に非偏光方式で、すなわち、均一に配分された偏光を有して入射する。従って、視野ファセットミラー１９の上流では、照明光１６の偏光ベクトルは、入射軸ｋと垂直にｘｙ平面と平行な全ての方向に均一に配分された方式で振動する。

視野ファセットミラー１９の下流において、ＥＵＶ放射線１６は、瞳ファセットミラー２０によって反射される。瞳ファセットミラー２０は、照明光学ユニット４の第２のファセットミラーである。瞳ファセットミラー２０は、中間焦点面１８及び投影光学ユニット１０の瞳平面に対して光学的に共役であり、又はこの瞳平面と一致する照明光学ユニット４の瞳平面に配置される。瞳ファセットミラー２０は、複数の瞳ファセット（図１には例示してない）を有する。瞳ファセットミラー２０の瞳ファセットと、ビーム経路の順序で表記しているミラー２２、２３、及び２４を有する転送光学ユニット２１の形態にある下流結像光学アセンブリとを用いて、視野ファセットミラー１９の個々のミラー群が物体視野５に結像される。転送光学ユニット２１の最後のミラー２４は、かすめ入射のためのミラーである（「かすめ入射ミラー」）。

位置関係の説明を容易にするために、図１は、物体平面６と像平面１２の間にある投影露光装置１の構成要素の位置関係を説明するための広域座標系として直交ｘｙｚ座標系を示している。図１では、ｘ軸は、作図面と垂直に作図面に向けて延びている。図１では、ｙ軸は、右に向けて物体ホルダ８及びウェーハホルダ１４の変位方向と平行に延びている。図１では、ｚ軸は下向きに、すなわち、物体平面６及び像平面１２と垂直に延びている。

物体視野５又は像視野１１にわたるｘ寸法は、視野高さとも表している。

図１に記載の投影露光装置１の場合に、ファセットミラー１９は、照明光１６のビーム経路内で第１のファセットミラーであり、瞳ファセットミラー２０は第２のファセットミラーである。ファセットミラー１９、２０は、その機能を交換することができる。従って、第１のファセットミラー１９は、この場合に投影光学ユニット１０の瞳平面又はそれに対して共役な平面に配置された瞳ファセットミラーとすることができ、第２のファセットミラー２０は、この場合に物体平面６に対して光学的に共役な視野平面に配置された視野ファセットミラーとすることができる。

照明光学ユニット２５の場合に、第１のファセットミラー１９は、照明光部分ビーム１６_iを物体視野又は照明視野５に向けて案内するための照明チャネルを提供する複数の個々のミラー２６を有する。個々のミラー２６は、個々のミラー担体２７上に配置される。個々のミラー担体２７は、ｚ軸と平行に延びる照明光１６の入射軸ｋに関して回転対称に具現化される。個々のミラー担体２７は、ｘｙ平面と平行に配置された円形担体面２８を用いて具現化される。個々のミラー担体２７は、入射照明光１６と物体視野５の間に位置する。

個々のミラー２６は、個々のミラー担体２７上に高密充填方式で配置された正方形又は矩形の反射面を有することができる。いかなる間隙も持たずに可能な限り第１のファセットミラー１９の反射面を占有することを可能にする他の形状の個々のミラーを使用することができる。そのような別の個々のミラー形状は、寄せ木細工の数学理論から公知である。この点に関しては、ＵＳ ２０１１／０００１９４７ Ａ１に示されている引用文献を参照されたい。

第１のファセットミラー１９の実施形態に基づいて、個々のミラー２６は、例えば１００μｍ×１００μｍから例えば５ｍｍ×５ｍｍまでの範囲のｘ／ｙ広がりを有する。個々のミラー２６は、照明光１６に対して集中効果を有するように成形することができる。

個々のミラー２６は、照明光１６の入射軸ｋに関して回転対称である配置を個々のミラー担体２７上に有することができる。この配置は、例えば、個々のミラー装置の中心が担体面２８を通る照明光１６の入射軸ｋの交点と一致する個々のミラー担体２７上の個々のミラー２６の複数の同心リングに具現化することができる。

図２に記載の子午断面図は、個々のミラー２６のうちの４つの例示している。第１のファセットミラー１９の実際の実施形態において、個々のミラー２６の個数は非常に多い。

全体として、第１のファセットミラー１９は、数百から数千個の個々のミラー２６を有する。

第１のファセットミラー１９の個々のミラー２６の反射面の全反射面は、第１のファセットミラー１９に基づいて、例えば、３００ｍｍ×３００ｍｍ又は６００ｍｍ×６００ｍｍの広がりを有する。

個々のミラー２６の各々は、入射照明光１６を個々に偏向するために、図２に示す最上部の個々のミラー２６に基づいて示すようにアクチュエータ２９にそれぞれ接続される。アクチュエータ２９は、個々のミラー２６の反射側から離れる方向に面する個々のミラー２６の各々の側に配置される。アクチュエータ２９は、例えば、圧電アクチュエータとして具現化することができる。そのようなアクチュエータの構成は、マイクロミラーアレイの構造から公知である。

個々のミラー２６の各々は、第１のものがｘ軸と平行に延び、第２のものがｙ軸と平行に延びる２つの互いに垂直な傾斜軸の回りに独立して個々に傾斜させることができる。２つの傾斜軸は、それぞれの個々のミラー２６の個別反射面内に位置する。

個々のミラー２６の反射面は、多層反射コーティングを担持する。図３は、個々のミラー２６のうちの１つの反射面の領域内での抜粋拡大図を示している。個々のミラーの本体３０上には、モリブデン（Ｍｏ）とシリコン（Ｓｉ）からなる交替層とすることができる反射層３１、３２が塗布される。図３は、一例として各々１つのＭｏ層とＳｉ層とを含む二重層３１、３２を示している。全体の反射コーティング３３は、複数のそのような二重層３１、３２、例えば、５層、１０層、２０層、３０層、又は更にそれよりも多くのこのタイプの二重層を有することができる。

第１のファセットミラー１９の個々のミラー２６は、それぞれの照明光部分ビーム１６_iが、個々のミラー反射面に対する法線Ｎに対して、この個々のミラー２６における照明光部分ビーム１６_iの反射時にｐ偏光と比較してｓ偏光に優先度を与える入射角Ｉを有して個々のミラー２６上に入射するように配置される。ｓ偏光は、個々のミラー２６の入射平面（図３の作図面）と垂直に振動する照明光部分ビーム１６_iの偏光方向に関するものである。ｐ偏光は、個々のミラー２６の入射平面内で振動する照明光部分ビーム１６_iの偏光方向に関するものである。図２では、ｓ偏光を十字円に示している。図２では、ｐ偏光を入射軸ｋと垂直に配置された双方向矢印に示している。図３では、ｓ偏光を照明光部分ビーム１６_iのビーム経路上の大きい点で表している。照明光部分ビーム１６_iのビーム経路上の双方向矢印でｐ偏光を表している。個々のミラー２６における照明光部分ビーム１６_iの反射時にｓ偏光に与えられるｐ偏光に対する優先度は、ｐ偏光照明光１６に対する反射率Ｒｐとｓ偏光照明光１６に対する反射率Ｒｓの間の比Ｒｐ／Ｒｓが０．８よりも小さいようなものである。図３には、個々のミラー２６における照明光部分ビーム１６_iの反射後のｐ偏光成分を入射照明光部分ビーム１６_iと比較して短い双方向矢印で表し、個々のミラー２６における反射によってそれ程影響を受けないｓ偏光成分の強度を入射ビーム上の点と同じサイズのものである反射照明光部分ビーム１６_iの反射ビーム経路上の点で例示することにより、ｓ偏光に与えられるこの優先度を示している。

入射角Ｉへの反射率Ｒｓ、Ｒｐの依存性を図４に例示している。

Ｒｓは、Ｉ＝０°の入射角（法線入射）の場合の０．６Ｒ₀という値から８５°の実際の最大入射角の場合の最大値Ｒ₀まで単調に増大する。

反射率Ｒｐは、最初にＩ＝０°の入射角の場合の値０．６Ｒ₀から、４５°の入射角領域内にあるブリュースター入射角Ｉ_Bの場合の反射率Ｒｐ＝０まで単調に低下する。Ｉ＞Ｉ_Bの入射角では、反射率Ｒｐは、約８５°の実際の最大入射角の場合の約０．８Ｒ₀という値まで再度単調に増大する。比Ｒｐ／Ｒｓは、約Ｉ≧２０°の値から始まる入射角Ｉの範囲で０．８よりも小さい。ブリュースター角Ｉ_Bの領域内の入射角Ｉでは、この比は、実入射角Ｉがブリュースター角Ｉ_Bにどれ程近いかに依存して連続的に小さくなる。ブリュースター角Ｉ_B自体では、比Ｒｐ／Ｒｓは０である。

個々のミラー２６の配置に基づいて、上述の個々のミラー２６上の入射角Ｉは、０．７よりも小さく、０．６よりも小さく、０．５よりも小さく、０．４よりも小さく、０．３よりも小さく、０．２よりも小さく、０．１よりも小さく、０．０５よりも小さく、０．０２よりも小さく、０．０１よりも小さく、１×１０^-3よりも小さく、１×１０^-4よりも小さく、１×１０^-5よりも小さく、又は更に一層小さい比Ｒｐ／Ｒｓがもたらされるように予め定めることができる。

それぞれの照明光部分ビーム１６_iがそれぞれの個々のミラー２６上に入射する入射角Ｉに対して、個々のミラー２６の向きに基づいて、絶対値が２５°よりも小さく、２０°よりも小さく、１０°よりも小さく、５°よりも小さく、３°よりも小さく、２°よりも小さく、１°よりも小さく、特に厳密にブリュースター角Ｉ_Bであるブリュースター角Ｉ_Bに対する予め定められた値Ｉ−Ｉ_B、すなわち、ブリュースター角Ｉ_Bに対するずれを達成することができる。

入射角Ｉに対するこれらの予め定められた値は、例示していない方式で個々のミラー２６のアクチュエータ２９に信号接続した照明光学ユニット２５の中央制御デバイス３４上でモニタすることができる。ルックアップテーブルを使用することにより、これらの予め定められた値を得るべき反射率比Ｒｐ／Ｒｓにおける望ましい値に関連付けることができる。

第２のファセットミラー２０は、照明光１６のビーム経路内で第１のファセットミラー１９の下流に配置される（図２を参照されたい）。第２のファセットミラー２０のそれぞれのファセット３５は、第１のファセットミラー１９の個々のミラー２６のうちの少なくとも１つと共に、照明光部分ビーム１６_iを照明視野５に向けて案内するための照明チャネルを完成する。一般的に、この配置は、第２のファセットミラー２０のファセット３５のうちの１つが、第１のファセットミラー１９の個々のミラー２６の群と共に、複数の部分ビーム１６_iに対して、第２のファセットミラー２０のこのファセット３５及び第１のファセットミラー１９の個々のミラー２６の群が属する群照明チャネルを完成するようなものである。従って、第１のファセットミラー１９の個々のミラー２６のこの群は、照明光部分ビーム１６_iを全て第２のファセットミラー２０の正確に同じファセット３５を通して照明視野５に向けて案内する。

第２のファセットミラー２０のファセット３５での照明光部分ビーム１６_iの反射により、この場合にも大きく０とは異なる入射角Ｉによる反射が発生するので照明光部分ビーム１６_iのｓ偏光に優先度が再度与えられる。図２には、ｓ偏光に与えられるこの優先度も示しており、照明光１６のｓ偏光を十字円で例示しており、ｐ偏光を入射軸ｋに対して垂直で図２の作図面内に位置する双方向矢印によって例示している。１度目には個々のミラー２６のうちの１つで、かつ２度目には第２のファセットミラー２０のファセット３５のうちの１つでの二重反射は、照明視野５上に入射する照明光部分ビーム１６_iの場合にほぼ完全であるか又は更に全く完全なｓ偏光をもたらす。

第２のファセットミラー２０のファセット３５は、図２に破線形式に示すファセット担体３６上に配置される。このファセット担体３６は、リング形態様に具現化される。ファセット担体３６は、照明光１６の入射軸ｋに関して回転対称に具現化される。ファセット担体３６上での第２ファセットミラー２０のファセット３５の配置は、相応に回転対称である。

照明光学ユニット２５は、入射軸ｋに関して全体として回転対称に配置される。入射軸ｋは、照明視野５の中心を通過する。入射軸ｋは、物体平面６に対して垂直である。

第１のファセットミラー１９の個々のミラー２６及び第２のファセットミラー２０のファセット３５の配置の回転対称性は、いかなる場合にも入射軸ｋに関して良好な近似で回転対称な照明光部分ビーム１６_iのビーム案内を可能にする。

図２には、第１のファセットミラー１９の個々のミラー２６によって偏向された照明光部分ビーム１６_iをｘｚ平面に反射するために設けられた第２のファセットミラー２０のファセット３５を入射軸ｋのレベルに破線形式で例示している。ファセット担体３６のリング形設計に起因して、これらの視野ファセット３５は、当然ながら、入射軸ｋから図２の作図面に対して正のｘ方向と負のｘ方向の両方に対応して分離した方式で置かれる。対応するファセット３５は、入射軸ｋの回りの円周方向に均一に配分された方式でファセット担体３６上に配置され、それによって照明光部分ビーム１６_iに対して根本的に回転対称な反射配置がもたらされる。照明視野５上の各点において、タンジェンシャル偏光照明光１６による照明がもたらされる。図６及び図７において、この照明を照明視野点３７に対してより詳細に例示している。

全ての照明方向からの照明光１６は、照明視野点３７上にｓ偏光方式で入射する。視野ファセット３５のリング形配置に起因して、照明視野点３７は、リング形照明角度分布３８で照明されるので（照明視野点３７は、リング形光源を「見る」）、図７に円に示すこのリング形照明角度分布３８の全ての場所に、補完されてタンジェンシャル偏光を形成するｓ偏光が生じる。リング形照明角度分布３８の全ての場所において、偏光ベクトル３９は、リング形照明角度分布３８に対してタンジェンシャルに振動する。

このタンジェンシャル偏光に起因して、照明視野５内のレチクル７は、照明角度に関係なくｓ偏光照明光１６で照明することができる。この照明は、照明光学ユニット２５が投影露光装置１の一部として使用される場合に最適な構造分解能を可能にする。

照明光学ユニット２５を使用する場合に、照明視野５は、個々のミラー担体２７によって予め定められた照明光１６のビーム経路の中心遮蔽によって予め定められる照明角度の下限値よりも大きい照明角度で照明することができる。

照明光学ユニット２５を使用する場合に、環状照明設定又は他に多重極照明設定、例えば、二重極照明設定又は四重極照明設定、例えば、Ｃ四重極照明設定を実現することが可能である。

図５は、照明光学ユニット２５の代わりに使用することができる照明光学ユニットの更に別の実施形態４０を示している。図１から図４、並びに図６及び図７を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に解説することはしない。

照明光学ユニット４０の場合に、照明光１６は、全照明視野５の８０％よりも小さい照明視野５の区画５_iが、照明光１６を第２のファセットミラー２０のファセット３５のうちの１つを通して案内する照明チャネルを通して照明されるように案内される。照明視野区画５_iは、全照明視野５のうちの５０％、又は更に小さい割合、すなわち、例えば、１／３、１／４、１／６、又は他に全照明視野５のうちの更に小さい割合、例えば、１／１０、１／２０、又は１／５０を網羅することができる。

照明光学ユニット４０は、２つのファセットミラー１９、２０の配置に関して、個々のミラー２６及びファセット３５の偏光効果を除いて、ＵＳ ２００６／０１３２７４７ Ａ１から公知の鏡面反射器方式に具現化することができる。

図５に記載の実施形態の場合に、照明視野区画５_iは、ｙ方向に全照明視野５のｙ広がりのうちの約４分の１を有する。

投影露光装置１を用いた投影露光中に、微細又はナノ構造化構成要素、特に半導体構成要素、例えば、マイクロチップのリソグラフィ生成に向けて、物体視野５内のレチクル７の少なくとも一部は、像視野１１内のウェーハ１３上の感光層の領域上に結像される。この場合に、レチクル７とウェーハ１３は、時間同期方式でスキャナ作動においてｙ方向に連続的に移動される。

５ 物体視野
１６ 照明光
２５ 照明光学ユニット
３８ リング形照明角度分布
ｋ 入射軸

Claims (10)

1. リソグラフィマスク（７）を配置することができる照明視野（５）に向けて照明光（１６）を案内するための投影露光装置（１）のための照明光学ユニット（２５；４０）であって、
   照明光部分ビーム（１６_i）を前記照明視野（５）に向けて案内するための照明チャネルを提供する複数の個々のミラー（２６）を有する第１のファセットミラー（１９）を含み、
   前記個々のミラー（２６）の各々が、多層反射コーティング（３３）を担持し、
   前記照明光（１６）のビーム経路内で前記第１のファセットミラー（１９）の下流に配置された第２のファセットミラー（２０）を含み、該第２のファセットミラー（２０）のそれぞれのファセット（３５）が、該第１のファセットミラー（１９）の前記個々のミラー（２６）のうちの少なくとも１つと共に前記照明光部分ビーム（１６_i）を前記照明視野（５）に向けて案内するための前記照明チャネルを完成し、
   前記個々のミラー（２６）は、それぞれの前記照明光部分ビーム（１６_i）が該個々のミラー（２６）上に入射角（Ｉ）で入射し、それによって入射平面が定められるように配置され、
   前記入射角（Ｉ）は、
   前記入射平面内で偏光された照明光（１６）に対する反射率Ｒｐと、
   前記入射平面と垂直に偏光された照明光（１６）に対する反射率Ｒｓと、
   の間の比Ｒｐ／Ｒｓが０．８よりも小さいように予め定められる、
   ことを特徴とする照明光学ユニット。
2. 前記それぞれの照明光部分ビーム（１６_i）が前記個々のミラー（２６）上に入射する前記入射角（Ｉ）は、前記多層反射コーティング（３３）のブリュースター角Ｉ_Bから最大で２５°だけずれることを特徴とする請求項１に記載の照明光学ユニット。
3. 前記個々のミラー（２６）は、前記第１のファセットミラー（１９）上に入射する前記照明光（１６）の入射軸（ｋ）に関して回転対称に具現化された個々のミラー担体（２７）上に配置されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の照明光学ユニット。
4. 前記第２のファセットミラー（２０）の前記ファセット（３５）は、前記第１のファセットミラー（１９）上に入射する前記照明光（１６）の入射軸（ｋ）に関して回転対称に具現化されたファセット担体（３６）上に配置されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の照照明光学ユニット。
5. 前記ファセット担体（３６）は、リング形態様に具現化されることを特徴とする請求項４に記載の照明光学ユニット。
6. 照明光学ユニット（４０）が、前記照明視野（５）全体の８０％よりも小さい該照明視野（５）の区画（５_i）が、前記照明光（１６）が前記第２のファセットミラー（２０）のファセット（３５）を通じて案内される照明チャネルを通じて照明されるように実施されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の照照明光学ユニット。
7. 請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の照照明光学ユニット（２５；４０）を含み、かつ
   照明視野（５）に配置された物体視野がそれを通じて像視野（１１）に結像される投影光学ユニット（１０）を含む、
   ことを特徴とする照明系（３）。
8. 請求項７に記載の照明系（３）と、
   ＥＵＶ光源（３）と、
   を含むことを特徴とする投影露光装置（１）。
9. 微細又はナノ構造化構成要素を生成する方法であって、
   感光材料からなる層が少なくとも部分的に塗布されたウェーハ（１３）を与える段階と、
   結像される構造を有するレチクル（７）を与える段階と、
   請求項８に記載の投影露光装置（１）を与える段階と、
   前記投影露光装置（１）の投影光学ユニット（１０）を用いて前記レチクル（７）の少なくとも一部を前記層の領域上に投影する段階と、
   を含むことを特徴とする方法。
10. 請求項９に記載の方法によって生成された構成要素。

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