JP2015510867A - 膜濃縮工程を含む沈殿シリカの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
− 少なくとも1つのシリカを、少なくとも1つの酸性化剤と反応(沈殿反応)させて、沈殿シリカの懸濁液(S1)を得る、
− 固体/液体分離工程、特に、濾過工程を、実施して、「濾過」ケーキとも呼ばれる固体生成物を得る、
− 沈殿シリカの懸濁液(S2)を得るために、前記濾過ケーキに分解操作を施す、
− 膜濃縮工程を続いて前記懸濁液(S2)に実施する
− このようにして得られた生成物を、好ましくは、噴霧化により乾燥する。
用いる沈殿シリカの懸濁液(S2)は、シリカZ1165MPのスラリーであり、濾過工程の後、濾過工程で得られたケーキの分解工程から得られ、以下の特性を示す。
温度:50℃
pH:6.0〜6.5
湿度:77%
用いる沈殿シリカの懸濁液(S2)は、シリカZ1165MPのスラリーであり、濾過工程の後、濾過工程で得られたケーキの分解工程から得られ、以下の特性を示す。
温度:50℃
pH:6.0〜6.5
湿度:77%
用いる沈殿シリカの懸濁液(S2)は、シリカZ1165MPのスラリーであり、濾過工程の後、濾過工程で得られたケーキの分解工程から得られ、以下の特性を示す。
温度:50℃
pH:6.0〜6.5
湿度:84%
Claims (13)
- 沈殿シリカの懸濁液(S1)を得るためのシリケートと酸性化剤の反応後、ケーキを得るための分離工程、沈殿シリカの懸濁液(S2)を得るための前記ケーキの分解工程、沈殿シリカの懸濁液の乾燥工程が続く、沈殿シリカの製造方法であって、膜濃縮工程が前記分解工程と前記乾燥工程の間に実施される、方法。
- 前記膜濃縮工程が、接線濾過により実施される請求項1に記載の方法。
- 前記膜濃縮工程が、動的接線濾過により実施される請求項1または2のいずれか一項に記載の方法。
- 前記膜濃縮工程が、回転動的接線濾過により実施される請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記膜濃縮工程の結果得られた生成物が、24重量%を超える、好ましくは、少なくとも26重量%の固体含量を有する沈殿シリカの懸濁液である請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記膜濃縮工程の結果得られた生成物が、25重量%〜30重量%の固体含量を有する沈殿シリカの懸濁液である請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記膜濃縮工程が、40〜90℃の温度で実施される請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 解砕工程が、前記分離工程と前記分解工程の間に実施される請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記分離工程が、濾過工程からなり、適切な場合は、洗浄工程が続く請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記濾過工程が、真空フィルターまたはフィルタープレスを用いて実施される請求項9に記載の方法。
- 前記乾燥工程が、噴霧により、特に、ノズル噴霧器を用いて実施される請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記乾燥工程から得られた生成物に粉砕工程を施す請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記乾燥工程から得られた、または前記任意選択的なの粉砕工程から得られた生成物に凝集化工程を施す請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
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