JP2015504003A - 水性組成物の全有機炭素を低減するための方法 - Google Patents
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Abstract
第1の水性組成物(A)の全有機炭素を低減するための方法であって、第2の水性組成物(B)を得るために(A)を第1のpH値において活性塩素による処理にかける工程と、第3の水性組成物(C)を得るために(B)の少なくとも一部を第1のpH値より低い第2のpH値において脱気処理にかける工程と、全有機炭素が(A)の全有機炭素よりも低い第4の水性組成物(D)を得るために(C)の少なくとも一部を第2のpH値よりも低い第3のpH値において活性塩素による処理にかける工程とを含む方法。
Description
本出願は、その内容があらゆる目的のために参照により本明細書に援用される、2011年12月19日出願の欧州特許出願第11194209.0号明細書の利益を請求する。
参照として本明細書に組み込まれる特許、特許出願、及び刊行物のいずれかの開示内容が、ある用語を不明瞭にし得る程度まで、本願の記載内容と矛盾する場合には、本願の記載内容が優先される。
本発明は、水性組成物の全有機炭素(TOC)を低減するための方法に関する。
本発明は、より詳細には、活性塩素による酸化によって水性組成物の全有機炭素(TOC)を低減するための方法に関する。
SOLVAY株式会社の名義で出願された国際出願国際公開第2009/095429号パンフレットには、次亜塩素酸塩の使用によって水性組成物中の有機物を分解するための方法が開示されている。一実施形態によって、水性組成物の酸化は第1のpH値において行なわれ、第2のより低いpH値において継続される。前記手順は、酸化体の非効率的な使用につながる。
本発明の目的は、酸化体がより効率的に使用される、酸化によって水性組成物の全有機炭素(TOC)を低減するための新規な方法を提供することである。
この目的のために、そして第1の実施形態において、本発明は、第1の水性組成物(A)の全有機炭素を低減するための方法であって、第2の水性組成物(B)を得るために(A)を第1のpH値において活性塩素による処理にかける工程と、第3の水性組成物(C)を得るために(B)の少なくとも一部を第1のpH値より低い第2のpH値において脱気処理にかける工程と、全有機炭素が(A)の全有機炭素よりも低い第4の水性組成物(D)を得るために(C)の少なくとも一部を第2のpH値よりも低い第3のpH値において活性塩素による処理にかける工程とを含む方法に関する。
本発明の本質的な特徴の1つは、中間のpH値においての脱気処理にある。このような処理は、酸化体のより効率的な使用ならびに前記酸化体の再循環の可能性をもたらす。酸化体のより効率的な使用は、処理された水性組成物中の全有機物含有量(TOC)を低くすることができる。低いTOC値を得るためのこのような改良は特に難しく、いくつかの適用は、非常に低いTOCを有する水溶液を必要とする。
いかなる理論にも縛られることを望まないが、中間のpH値においての脱気は、さらなる酸化のために水性組成物中に残っている酸化体の大部分を保持したまま、第1のpHにおいて処理する前に第1の水性組成物(A)中に存在している有機化合物の酸化から形成される二酸化炭素を除去することを可能にすると考えられる。また、二酸化炭素のこのような先行除去は、反応していない酸化体の汚染の低下、したがってさらなる工程段階においての前記酸化体の回収および前記反応していない酸化体の後続の再循環の可能性をもたらす。
本発明による方法において、全有機炭素(TOC)という表現は、標準ASTM D7573−09に定義されているように有機化合物の形態の炭素を意味すると理解される。
本発明による方法において、有機化合物は、その内容、より詳細には2頁9行から3頁11行までの節が参照により本明細書に援用される、SOLVAY SAの名義の出願の国際公開第2009/095429号パンフレットおよびその内容、より詳細には3頁24行から5頁20行までの節が参照により本明細書に援用される、SOLVAY(株式会社)の名義の国際出願国際公開第2012/016872号パンフレットに記載されるとおりであり得る。
本発明による方法において、有機化合物は好ましくは、グリセロール、モノクロロプロパンジオール、ジクロロプロパノール、酢酸、プロピオン酸、酪酸、カプリン酸、カプロン酸、カプリル酸、およびそれらの任意の混合物からなる群から選択される。
第1の水性組成物(A)の全有機炭素(TOC)は通常0.1gC/l以上、好ましくは0.5gC/l以上そしてより好ましくは1gC/l以上である。そのTOCは通常20gC/l以下、好ましくは10gC/l以下そしてより好ましくは5gC/l以下である。
第4の水性組成物(D)の全有機炭素(TOC)は通常30mgC/l以下、好ましくは20mgC/l以下、より好ましくは10mgC/l以下、さらにより好ましくは5mgC/l以下、より一層好ましくは1mgC/l以下である。そのTOCは通常0.1mgC/l以上である。
本発明による方法において、TOCの低減は通常50%以上、多くの場合80%以上、一般に90%以上、高い頻度で95%以上、しばしば99%以上、とりわけ99.9以上%、そして特に99.995以上%である。その低減は通常、プロセスが不連続である時にCのg単位で表わされる水性組成物(A)および(D)中のTOC量に基づいて計算されるか、または第1のpH値において処理する前の水性組成物(A)中のTOCの流量と第3のpH値において処理後の水性組成物(D)中のTOCの流量とに基づいて計算される。
全有機炭素は標準ASTM D7573−09に従って測定されてもよく、好ましくは測定される。
本発明による方法において、酸化体をより効率的に使用することによって、ここで上に開示されたようなTOCおよびここで上に開示されたような第4の水性組成物(D)のTOCの低減が可能である。本発明による方法において、第1の水性組成物(A)中の有機化合物の含有量は通常、処理される水性組成物の化学的酸素要求量(COD)が0.3gO/kg以上、好ましくは1.5gO/kg以上そしてより好ましくは3gO/kg以上であるような含有量である。そのCODは通常60gO/kg以下、好ましくは30gO/kg以下そしてより好ましくは15gO/kg以下である。
水性組成物(D)の化学的酸素要求量(COD)は通常90mgO/l以下、好ましくは60mgO/l以下、より好ましくは30mgO/l以下、さらにより好ましくは15mgO/l以下、より一層好ましくは3mg0/l以下である。そのCODは通常0.1mgO/l以上である。
本発明による方法において、化学的酸素要求量という表現は、標準ISO 6060におけるように定義され、測定される。本発明による方法において、「活性塩素」という表現は、分子塩素、および水とのまたは例えば、水酸化アンモニウム、アルカリ水酸化物、アルカリ土類水酸化物、またはそれらの混合物のような塩基性剤とのその反応生成物を意味すると理解される。水酸化ナトリウムまたは水酸化カルシウムまたはそれらの混合物が好ましく、水酸化ナトリウムがより好ましい。次亜塩素酸、次亜塩素酸ナトリウム、分子塩素、二酸化塩素およびそれらの混合物が便利である。任意の手段によって活性塩素を水性組成物(A)に添加および/または生成させることができる。次亜塩素酸ナトリウムを添加するのが便利な方法である。
活性塩素の量は任意の手段によって、例えば紫外線吸収によってまたは沃素滴定よって測定され得る。紫外線吸収は、自動オンライン分析に特によく適している。沃素滴定は、オフライン分析に特に便利である。
本発明による方法において、使用される活性塩素の量は通常、次亜塩素酸塩として表わされる前記活性塩素と、反応前の水性組成物(A)の(Oのモル単位で表わされる)炭素酸素要求量CODとの間のモル比が1以上、好ましくは1.2以上そして最も好ましくは1.4以上であるような量である。その量は通常、添加された次亜塩素酸塩と、反応前の水性組成物(A)の(Oのモル単位で表わされる)CODとの間のモル比が8以下、好ましくは4以下そして最も好ましくは3以下であるような量である。
本発明による方法において、使用される活性塩素の量は通常、塩素(Cl2のg単位で表わされる前記活性塩素と反応前の水性組成物(A)の炭素(C)のg単位で表わされる全有機炭素との間の質量比が通常1以上、しばしば5以上、高い頻度で10以上そして多くの場合15以上であるような量である。活性塩素のその量は通常、その質量比が30以下、高い頻度で25以下そしてしばしば20以下であるような量である。
本発明による方法において、活性塩素は、例えば分子塩素(Cl2)、次亜塩素酸、次亜塩素酸ナトリウムおよびそれらの混合物などの任意の形態で提供され得る。活性塩素は、水性組成物(A)、(B)または(C)のいずれかにおいて、好ましくは(A)においてそしてより好ましくは(A)および(C)において提供され得る。
本発明による方法において、「脱気」という用語は、溶解された成分の、液相からの除去を意味すると理解される。このような除去を開口を通して気体の放出または排出によって行なうことができる。
本発明による方法において、脱気処理は好ましくはフラッシング処理、ストリッピング処理またはそれらの組合せである。フラッシング処理がより好ましい。
「フラッシング」という用語は、通常は物質またはエネルギーの供給をせずに圧力を解放することによる液体からの気体放出を意味すると理解される。圧力解放を任意の時系列によって行なうことができる。
本発明による方法において、フラッシング処理は通常0.5bar以上、好ましくは1bar以上そして最も好ましくは2.5bar以上の圧力において実行される。この圧力は通常10bar以下、好ましくは5bar以下そして最も好ましくは3.5bar以下である。この圧力は通常、第1のpH値においての処理の圧力に等しい。
本発明による方法において、フラッシング処理は通常、80℃以上、好ましくは100℃以上そして最も好ましくは120℃以上の温度において実行される。この温度は通常180℃以下、好ましくは160℃以下そして最も好ましくは140℃以下である。この温度は通常、第1のpH値においての処理の温度に等しい。
本発明による方法において、「ストリッピング」という用語は、物質を溶解するか、または溶解しない気体、純粋な材料の蒸気またはそれらの混合物(ストリッピング剤)を使用するエントレインメント(entrainment)による前記物質の分離を意味すると理解される。
本発明による方法において、前記ストリッピング剤は、空気、低酸素空気、窒素、酸素、スチーム、およびそれらの少なくとも2つの混合物からなる群から選択されてもよい。蒸気、空気および低酸素空気は、好ましいストリッピング剤であり、そして蒸気はより好ましいストリッピング剤である。蒸気および低酸素空気の混合物が適切であり得る。
本発明による方法において、前記ストリッピング剤は第2の水性組成物(B)に添加されてもよく、前記組成物(B)から生成されてもよく、または両方であってもよい。
本発明による方法において、ストリッピング処理の条件は、その内容、より詳細には7頁26行から9頁3行までの節が参照により本明細書に援用される、SOLVAY SAの名義で出願された国際出願国際公開第2012/016872号パンフレットに記載されたようなものであり得る。
本発明による方法において、ストリッピング処理は通常、以下の条件のうちの少なくとも1つのもとで実行される。
・10℃より高く200℃より低い温度。
・50mbar(絶対圧)より高く5bar(絶対圧)以下の圧力。
・10℃より高く200℃より低い温度。
・50mbar(絶対圧)より高く5bar(絶対圧)以下の圧力。
本発明による方法において、ストリッピング剤がスチームであるとき、ストリッピング処理は一般に10℃以上、しばしば30℃以上、高い頻度で40℃以上そしてとりわけ60℃以上、特に80℃以上そして非常に詳しくは90℃以上の温度において実行される。この温度は一般に200℃以下、しばしば160℃以下、高い頻度で140℃以下、とりわけ120℃以下そして特に100℃以下である。
本発明による方法において、ストリッピング剤が空気、低酸素空気、窒素、酸素、およびそれらの少なくとも2つの混合物からなる群から選択されるとき、特にストリッピング剤が空気または低酸素空気であるとき、ストリッピング領域においての水性組成物(塩水であってもよい)の温度は一般に10℃以上、しばしば30℃以上、高い頻度で40℃以上そしてとりわけ60℃以上である。ストリッピング領域においてのこの温度は一般に100℃以下、しばしば90℃以下、高い頻度で85℃以下そしてとりわけ80℃以下である。
本発明による方法において、ストリッピング処理は、一般に50mbar(絶対圧)以上、しばしば100mbar(絶対圧)以上、高い頻度で200mbar(絶対圧)以上、とりわけ500mbar(絶対圧)以上、そして特に600mbar(絶対圧)以上の圧力下で実行される。この圧力は、一般に5bar(絶対圧)以下、しばしば3bar(絶対圧)以下、高い頻度で2bar(絶対圧)以下、とりわけ1.5bar(絶対圧)以下、そして特に1.3bar(絶対圧)以下である。0.7bar(絶対圧)以上1.2bar(絶対圧)以下の圧力が非常に適切である。
本発明による方法において、活性塩素による組成物(A)の処理は通常、組成物(A)中に存在している有機化合物の少なくとも一部を炭素酸化物、例えば、二酸化炭素、炭酸イオンまたは両方に変換する。
本発明による方法において脱気処理、好ましくはストリッピング処理そしてより好ましくはフラッシング処理は通常、脱気、好ましくはストリッピングそしてより好ましくはフラッシング処理の前に組成物(B)中に存在している炭素酸化物の少なくとも50%、しばしば少なくとも75%、高い頻度で少なくとも90%そして特に少なくとも99%を含んでなる第1の脱気された、好ましくはストリップされた、そしてより好ましくはフラッシュされた分画を組成物(B)から除去する。炭素酸化物を含有する脱気された、好ましくはストリップされた、そしてより好ましくはフラッシュされた分画は、処分されることも高温酸化装置に送られることもできる。
本発明による方法において、組成物(C)において回収される組成物(B)中に存在している活性塩素の分画は通常、少なくとも50%、しばしば少なくとも75%そして高い頻度で少なくとも90%である。
本発明による方法において第1のpH値は一般に7以上、好ましくは7.5以上、より好ましくは8以上、そして最も好ましくは8より高い。第1のpH値は通常13以下、好ましくは12以下、より好ましくは11以下、より一層好ましくは10以下、最も好ましくは9以下、そしてさらに最も好ましくは9より低い。
本発明による方法において第2のpH値は一般に5以上、好ましくは5より高く、そしてより好ましくは5.5以上である。第2のpH値は通常8以下、好ましくは7.5以下、より好ましくは7以下、より一層好ましくは6.4以下そして最も好ましくは6以下である。
本発明による方法において第3のpH値は一般に3.5以上、そして好ましくは4以上である。第3のpH値は通常6以下、好ましくは5.5以下、そして最も好ましくは5以下である。
本発明による方法の好ましい一実施形態において、第1のpH値は8より大きく9より低く、第2のpH値は5.5以上6以下であり、第3のpH値が4以上で5より低い。pHを所定の範囲に維持するために、pHを測定し、必要に応じ調節する。
本発明による方法において、第2のpH値は第1のpH値より低く、第1および第2のpH値の間の差は通常0.1pH単位以上、好ましくは0.5pH単位以上、より好ましくは1pH単位以上、より一層好ましくは1.5pH単位以上、そして最も好ましくは2pH単位以上である。その差は通常4pH単位以下、好ましくは3.5pH単位以下、そして最も好ましくは3pH単位以下である。
本発明による方法において、第3のpH値は第2のpH値より低く、第2および第3のpH値の間の差は通常0.1pH単位以上、好ましくは0.5pH単位以上、より好ましくは1pH単位以上、より一層好ましくは1.5pH単位以上、最も好ましくは2pH単位以上である。その差は通常4pH単位以下。好ましくは3.5pH単位以下、そして最も好ましくは3pH単位以下である。
pH測定を連続的または定期的のどちらかで実行することができる。この後者の場合、測定は通常、プロセスの工程の時間の少なくとも80%の間、しばしば少なくとも90%の間、しばしば少なくとも95%の間そして特に少なくとも99%の間pHを設定範囲に維持するために十分に高い頻度において実行される。
pH測定は反応条件下の反応媒体中で“in situ”で実行されるか、またはpH測定装置に十分な寿命を確実にするために十分な温度および十分な圧力にされた、反応媒体から抜き出された試料中で“ex situ”で実行されてもよい。25℃の温度および1barの圧力が十分な温度および圧力の例である。
pH測定を任意の手段によって実行することができる。pH感応電極による測定が便利である。このような電極は反応条件下の反応媒体中で安定するはずであり、反応媒体を汚染するべきではない。pHを測定するためのガラス電極がとりわけ便利である。このような電極の例は、Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry(著作権),2005,Wiley−VCH Verlag GmbH & Co.KGaA, Weinheim 10.1002/14356007.e19_e01,pp.8−15に示されている。METTLER TOLEDO(登録商標)によって供給されるタイプ405−DPAS−SC−K85またはENDRESS + HAUSER(登録商標)によって供給されるタイプCeragel CPS71およびOrbisint CPS11の電極は、使用できる電極の例である。
酸性化合物を添加することによるかまたは塩基性化合物を添加することによるかどちらかでpHを前記値に調節および維持することができる。任意の酸性または塩基性化合物を使用してpHを維持することができる。無機酸および無機塩基が好ましい。気体状および/または水溶液の塩化水素がより好ましい酸性化合物である。固体および/または水溶液および/または懸濁液の水酸化ナトリウムまたは水酸化カルシウムが、より好ましい塩基性化合物であり、水酸化ナトリウム水溶液が最も好ましい。
調節を自動モードまたは非自動モードで行なうことができる。pHの制御が制御ループとして公知の閉回路によってなされる自動モードを使用することが好ましい。このような制御ループは、Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry(著作権),2005,Wiley−VCH Verlag GmbH & Co.KGaA,Weinheim 10.1002/14356007.e19_e01,pp.24−27に記載されている。PROMINENT(登録商標)DULCOMETER(登録商標)システムタイプPHDが、使用できる自動pH制御および調節装置の例である。
本発明による方法において水性組成物(A)は通常、金属塩化物、金属硫酸塩、金属硫酸水素塩、金属水酸化物、金属炭酸塩、金属炭酸水素塩、金属リン酸塩、金属リン酸水素塩、金属ホウ酸塩およびそれらの少なくとも2つの混合物からなる群から選択される少なくとも1つの塩を含み、塩は最も好ましくは塩化ナトリウムである。また、塩化ナトリウムを含有する水溶液は塩水として公知である。本発明の方法による水溶液(A)はしばしば塩水である。
水性組成物(A)の塩含有量は通常5g/kg以上、しばしば10g/kg以上、しばしば20g/kg以上、一般に30g/kg以上の処理される組成物、好ましくは50g/kg以上、より好ましくは100g/kg以上、より一層好ましくは140g/kg以上、さらにより好ましくは160g/kg以上そして最も好ましくは200g/kg以上である。その塩含有量は通常270g/kg以下の処理される組成物、好ましくは250g/kg以下そして最も好ましくは230g/kg以下である。
この特徴は特に、水性組成物(A)の塩化ナトリウム含有量に当てはまる。
本発明による方法において、水性組成物(A)は、有機化合物を含有する水性組成物を生成する任意のプロセスに由来してもよい。このような水性組成物(A)が塩水であるとき、このようなプロセスの例は、エポキシド、特にエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドまたは好ましくはエピクロロヒドリンを製造するためのプロセス、エポキシドの誘導体、特にエポキシ樹脂を製造するためのプロセス、塩素化有機生成物、特に1,2−ジクロロエタンまたは1,2−ジクロロエチレンを製造するためのプロセス、モノイソシアネートおよびポリイソシアネート、特に4,4’−メチレンジフェニルジイソシアネート(MDI)、トルエンジイソシアネート(TDI)またはヘキサメチレン−1,6−ジイソシアネート(HDI)を製造するためのプロセスおよびポリカーボネート、特に2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンポリカーボネート(ビスフェノールAポリカーボネート)を製造するためのプロセスである。塩水は、これらの方法の少なくとも2つに由来する塩水の組合せであり得る。エポキシド、特にエピクロロヒドリンの誘導体、およびエポキシ樹脂は、その内容、より詳細には13頁22行から44頁8行までの節が参照により本明細書に援用される、SOLVAY(株式会社)の名義の出願の国際公開第2008/152044号パンフレットに記載されるとおりであり得る。
本発明による方法において、塩水は、好ましくは、エピクロルヒドリンを製造するためのプロセス、エポキシ樹脂を製造するためのプロセス、1,2−ジクロロエタンまたは1,2−ジクロロエチレンを製造するためのプロセス、ビスフェノールAポリカーボネートを製造するためのプロセス、またはこれらのプロセスの少なくとも2つの組み合わせ、そしてより好ましくはエピクロルヒドリンを製造するためのプロセス、エポキシ樹脂を製造するためのプロセス、1,2−ジクロロエタンまたは1,2−ジクロロエチレンを製造するためのプロセス、またはこれらのプロセスの少なくとも2つの組み合わせに由来する。
本発明による方法において、塩水は、さらにより好ましくは、エピクロルヒドリンを製造するためのプロセス、なおより好ましくはジクロロプロパノールの脱塩化水素反応によってエピクロルヒドリンを製造するためのプロセス、特に好ましくはジクロロプロパノールの脱塩化水素反応によってエピクロルヒドリンを製造するためのプロセスであって、ジクロロプロパノールの少なくとも一部がグリセロールから得られ、そして前記グリセロールの少なくとも一分画が天然グリセロール、すなわち、再生可能な原材料から得られたグリセロールであるプロセスに由来する。天然グリセロールは、SOLVAY(株式会社)の名義の出願の国際公開第2006/100312号パンフレットに記載されている通りであり、この文献の内容、より詳細には、第4頁、第22行から第5頁、第24行までの部分を参照として本明細書に組み込むものとする。
エポキシ樹脂、ジクロロプロパノール及びエピクロロヒドリンを製造する方法は、SOLVAYの名義で出願された以下の文献:国際出願国際公開第2005/054167号パンフレット、国際公開第2006/100311号パンフレット、国際公開第2006/100312号パンフレット、国際公開第2006/100313号パンフレット、国際公開第2006/100314号パンフレット、国際公開第2006/100315号パンフレット、国際公開第2006/100316号パンフレット、国際公開第2006/100317号パンフレット、国際公開第2006/106153号パンフレット、国際公開第2007/054505号パンフレット、国際公開第2006/100318号パンフレット、国際公開第2006/100319号パンフレット、国際公開第2006/100320号パンフレット、国際公開第2006/106154号パンフレット、国際公開第2006/106155号パンフレット、国際公開第2007/144335号パンフレット、国際公開第2008/107468号パンフレット、国際公開第2008/101866号パンフレット、国際公開第2008/145729号パンフレット、国際公開第2008/110588号パンフレット、国際公開第2008/152045号パンフレット、国際公開第2008/152043号パンフレット、国際公開第2009/000773号パンフレット、国際公開第2009/043796号パンフレット、国際公開第2009/121853号パンフレット、国際公開第2008/152044号パンフレット、国際公開第2009/077528号パンフレット、国際公開第2010/066660号パンフレット、国際公開第2010/029039号パンフレット、国際公開第2010/029153号パンフレット、国際公開第2011/054769号パンフレット及び国際公開第2011/054770号パンフレット、に開示されているものとすることができ、上記文献の内容は、参照として本明細書に組み込むものとする。
本発明による方法において、第4の水性組成物(D)の少なくとも一部は、第5の水性組成物(E)を得るために第3のpH値よりも低い第4のpH値において脱気処理にかけられ得る。第4のpH値は一般に0以上、好ましくは1以上、より好ましくは2以上、そして最も好ましくは2.5以上である。その第4のpH値は通常5以下好ましくは4.5以下、より好ましくは4以下、そして最も好ましくは3.5以下である。
本発明による方法において、第4のpH値は第3のpH値より低く、第3および第4のpH値の間の差は通常0.1pH単位以上、好ましくは0.5pH単位以上、より好ましくは1pH単位以上、より一層好ましくは1.5pH単位以上、最も好ましくは2pH単位以上である。その差は通常4pH単位以下、好ましくは3.5pH単位以下、そして最も好ましくは3pH単位以下である。
組成物(D)の脱気処理は好ましくはフラッシング処理である。
このような処理は通常、第3のpH値において処理後に組成物(D)内に通常は分子塩素として残っている活性塩素の大部分を含んでなる第2のストリップされた分画を(D)から除去することを可能にする。第2のストリップされた分画は有利には、本発明による方法の第1のpH値においての処理に再循環され得る。
本発明による方法において、第6の水溶液(F)を得るために第5の水性組成物(E)の少なくとも一部を還元剤で処理することができる。還元剤は好ましくは、過酸化物、金属亜硫酸塩、金属重亜硫酸塩、金属チオ硫酸塩、およびそれらの任意の混合物からなる群から選択される。金属は好ましくはナトリウムである。過酸化物は好ましくは過酸化水素である。還元剤はより好ましくは過酸化水素である。
本発明による方法において、過酸化物による処理は通常、一般に6以上、好ましくは8より高く、そしてより好ましくは9以上の第5のpH値において実行される。その第6のpH値は通常14以下、好ましくは13以下、より好ましくは12以下、最も好ましくは11以下である。
本発明による方法は、不連続または連続的な、任意のモードによって行なわれてもよい。連続モードが好ましい。
第2の実施形態において、本発明はまた、本発明の第1の実施形態のプロセスによって塩水組成物を処理することによって得られた水性組成物の少なくとも一部、好ましくは水性組成物(F)の一部を電解槽の陽極区画に供給する工程を含む、塩素を製造するための方法に関する。電解槽は好ましくは膜塩素アルカリ電解槽である。このような電解槽の陽極液のためのTOC要件は通常は非常に厳しい。本発明による方法は特に、前記電解槽内の陽極液として使用するために必要とされるTOCを有する水性組成物を提供するために非常に適している。
第3の実施形態において、本発明はまた、第1の水性組成物(A)の有機化合物の全含有量を低減するための方法であって、第2の水性組成物(B)を得るために(A)を第1のpH値において活性塩素による処理にかける工程と、第3の水性組成物(C)を得るために(B)の少なくとも一部を第1のpH値より低い第2のpH値において脱気処理にかける工程と、第4の水性組成物(D)を得るために(C)の少なくとも一部を第2のpH値よりも低い第3のpH値において活性塩素による処理にかけ、有機化合物の全含有量が(A)の有機化合物の全含有量より低い工程とを含む方法に関する。
その第3の実施形態において、有機化合物は好ましくは、グリセロール、モノクロロプロパンジオール、ジクロロプロパノール、酢酸、プロピオン酸、酪酸、カプリン酸、カプロン酸、カプリル酸、およびそれらの任意の混合物からなる群から選択される。
上述の第1の実施形態について開示された特徴は、第2の実施形態にも当てはめることができる。
本発明による方法において、処理の各々を1つまたは複数の容器内で実行することができる。それらの容器を直列、並列の任意の配列によって、およびそれらの任意の組合わせによって組み合わせることができる。第1のpH値においての組成物(A)の処理は通常、2つ以上の容器、高い頻度で2つそしてしばしば3つの容器内で実行される。それらの容器は好ましくは直列に配列される。
プロセスを実施する装置は一般に、作業条件に耐える材料から製造されるかまたはそれで被覆される。この材料は、炭素鋼、ステンレス鋼、エナメル化鋼、圧縮鋼、チタン、チタン合金およびニッケル合金、ポリマー、エポキシ樹脂およびフェノール樹脂などの樹脂を使用するコーティング、ならびにそれらの少なくとも2種の組み合わせからなる群から選択されてよい。ポリマーは、例えば、ポリプロピレンおよびポリエチレンなどのポリオレフィン、ポリ塩化ビニルおよび塩素化ポリ塩化ビニルなどの塩素化ポリマー、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとのコポリマー、およびポリ(ペルフルオロプロピルビニルエーテル)などのペルフッ素化ポリマー、例えば、フッ化ポリビニリデンおよびエチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマーなどの部分的にフッ素化されたポリマーなどのフッ素化ポリマー、ポリスルホンおよびポリスルフィド、特に芳香族のものなどの硫黄含有ポリマーが可能である。ポリマーは、バルクで、または凝縮された適当な形態で、またはコーティングとして使用されてもよい。材料は、好ましくは、チタンおよびチタン合金からなる群から、そしてより好ましくは、チタン合金からなる群から選択される。チタン合金は、好ましくは、チタンおよびパラジウム、チタンおよびルテニウムまたはチタン、ニッケルおよびモリブデンを含んでなる合金から選択される。チタンおよびパラジウムまたはチタンおよびルテニウムを含んでなる合金がとりわけ好ましく、そしてチタンおよびパラジウムを含んでなる合金が特に非常に好ましい。
本発明による方法は、その内容が参照により本明細書に援用される出願の国際公開第2008/152043号パンフレット、国際公開第2009/095429号パンフレット、国際公開第2012/016872号パンフレット、国際公開第2012/025468号パンフレットおよびPCT/EP2012/068016号パンフレットに開示された方法の何れかと組合わせられてもよい。
以下の実施例は、本発明を例示することを意図するが、それを限定しない。
実施例1(本発明による)
第1の反応器に、453g/h/lの反応器の流量において1.483gのC/lのTOCを有する水性組成物(A)、78.7g/h/lの第1の反応器の液体体積の流量において次亜塩素酸塩水溶液(13%wtのNaOCl)および8.7g/h/lの第1の反応器の流量において苛性ソーダの水溶液(32%wtのNaOH)を連続的に供給する。第1の反応器は120℃、2.5bar(絶対圧)、8.5のpHおよび2hの滞留時間において運転される。
第1の反応器に、453g/h/lの反応器の流量において1.483gのC/lのTOCを有する水性組成物(A)、78.7g/h/lの第1の反応器の液体体積の流量において次亜塩素酸塩水溶液(13%wtのNaOCl)および8.7g/h/lの第1の反応器の流量において苛性ソーダの水溶液(32%wtのNaOH)を連続的に供給する。第1の反応器は120℃、2.5bar(絶対圧)、8.5のpHおよび2hの滞留時間において運転される。
フラッシュ容器に、31629g/h/lのフラッシュ液体体積の流量において第1の反応器から出るストリームと、682.6g/h/lの流量において塩化水素の水溶液(20%wt)とを連続的に供給する。フラッシュ容器は120℃、2.5bar(絶対圧)、6.0のpHおよび2分の液体滞留時間において運転される。
第2の反応器に、6438g/h/lの第2の反応器の液体体積の流量においてフラッシュ容器から出るストリームと、31.9g/h/lの反応器の流量において塩化水素溶液(20%wtのHCl)とを連続的に供給する。第2の反応器は120℃、4.5bar(絶対圧)、4.5のpHおよび10分の滞留時間において運転される。
第2の反応器の出口において、第2の反応器を出るストリームのTOCの流量と水性組成物(A)のストリームのTOCの流量とから計算されたTOCの低減は99.29%であり、これは、第2の反応器の出口において8.5mgのC/lのTOCに相当する。
例2(本発明によらない)
フラッシュ容器が無いこと以外は実施例1の手順に従う。
フラッシュ容器が無いこと以外は実施例1の手順に従う。
第2の反応器の出口においてTOCの低減は98.84%であり、これは、第2の反応器の出口において14mgのC/LのTOCに相当する。
Claims (58)
- 第1の水性組成物(A)の全有機炭素を低減するための方法であって、第2の水性組成物(B)を得るために(A)を第1のpH値において活性塩素による処理にかける工程と、第3の水性組成物(C)を得るために(B)の少なくとも一部を前記第1のpH値より低い第2のpH値において脱気処理にかける工程と、全有機炭素が(A)の全有機炭素よりも低い第4の水性組成物(D)を得るために(C)の少なくとも一部を前記第2のpH値よりも低い第3のpH値において活性塩素による処理にかける工程とを含む方法。
- 前記第1のpH値が7以上である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のpH値が7.5以上である、請求項2に記載の方法。
- 前記第1のpH値が8以上である、請求項3に記載の方法。
- 前記第1のpH値が8より高い、請求項4に記載の方法。
- 前記第1のpH値が13以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1のpH値が12以下である、請求項6に記載の方法。
- 前記第1のpH値が11以下である、請求項7に記載の方法。
- 前記第1のpH値が10以下である、請求項8に記載の方法。
- 前記第1のpH値が9以下である、請求項9に記載の方法。
- 前記第1のpH値が9より低い、請求項10に記載の方法。
- 前記第2のpH値が5以上である、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2のpH値が5より高い、請求項12に記載の方法。
- 前記第2のpH値が5.5以上である、請求項13に記載の方法。
- 前記第2のpH値が8以下である、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2のpH値が7.5以下である、請求項15に記載の方法。
- 前記第2のpH値が7以下である、請求項16に記載の方法。
- 前記第2のpH値が6.4以下である、請求項17に記載の方法。
- 前記第2のpH値が6以下である、請求項18に記載の方法。
- 前記第3のpH値が3.5以上である、請求項1〜19のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第3のpH値が4以上である、請求項20に記載の方法。
- 前記第3のpH値が6以下である、請求項1〜21のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第3のpH値が5.5以下である、請求項22に記載の方法。
- 前記第3のpH値が5以下である、請求項23に記載の方法。
- 前記第3のpH値が5より低い、請求項24に記載の方法。
- 前記第1および前記第2のpH値の間の差が0.1pH単位以上である、請求項1〜25のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1および前記第2のpH値の間の前記差が0.5pH単位以上である、請求項26に記載の方法。
- 前記第1および前記第2のpH値の間の前記差が1pH単位以上である、請求項27に記載の方法。
- 前記第1および前記第2のpH値の間の前記差が1.5pH単位以上である、請求項28に記載の方法。
- 前記第1および前記第2のpH値の間の前記差が2pH単位以上である、請求項29に記載の方法。
- 前記第1および前記第2のpH値の間の前記差が4pH単位以下である、請求項1〜30のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1および前記第2のpH値の間の前記差が3.5pH単位以下である、請求項31に記載の方法。
- 前記第1および前記第2のpH値の間の前記差が3pH単位以下である、請求項32に記載の方法。
- 前記第2および前記第3のpH値の間の差が0.1pH単位以上である、請求項1〜33のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2および前記第3のpH値の間の前記差が0.5pH単位以上である、請求項34に記載の方法。
- 前記第2および前記第3のpH値の間の前記差が1pH単位以上である、請求項35に記載の方法。
- 前記第2および前記第3のpH値の間の前記差が1.5pH単位以上である、請求項36に記載の方法。
- 前記第2および前記第3のpH値の間の前記差が2pH単位以上である、請求項37に記載の方法。
- 前記第2および前記第3のpH値の間の前記差が4pH単位以下である、請求項1〜38のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2および前記第3のpH値の間の前記差が3.5pH単位以下である、請求項39に記載の方法。
- 前記第2および前記第3のpH値の間の前記差が3pH単位以下である、請求項40に記載の方法。
- 第1の水性組成物(A)が、塩化ナトリウムを5g/組成物1kg以上および270g/組成物1kg以下の含有量で含む、請求項1〜41のいずれか一項に記載の方法。
- 第1の水性組成物(A)が、グリセロール、モノクロロプロパンジオール、ジクロロプロパノール、酢酸 プロピオン酸、酪酸、カプリン酸、カプロン酸、カプリル酸、およびそれらの任意の混合物からなる群から選択される有機化合物を含有する、請求項1〜42のいずれか一項に記載の方法。
- 前記脱気処理がフラッシング処理、ストリッピング処理またはそれらの組合せである、請求項1〜43のいずれか一項に記載の方法。
- 前記脱気処理がフラッシング処理である、請求項44に記載の方法。
- 前記フラッシング処理が0.5bar以上10bar以下の圧力、および80℃以上180℃以下の温度において実行される、請求項45に記載の方法。
- 前記脱気処理が、空気、低酸素空気、窒素、酸素、スチーム、およびそれらの少なくとも2つの混合物からなる群から選択されるストリッピング剤の存在下で実行されるストリッピング処理である、請求項44に記載の方法。
- 前記活性塩素が次亜塩素酸ナトリウムとして提供される、請求項1〜47のいずれか一項に記載の方法。
- 第4の水性組成物(D)の少なくとも一部が、第5の水性組成物(E)を得るために前記第3のpH値よりも低い第4のpH値において脱気処理にかけられる、請求項1〜48のいずれか一項に記載の方法。
- 第6の水溶液(F)を得るために、第5の水性組成物(E)の少なくとも一部が、過酸化物、金属亜硫酸塩、金属重亜硫酸塩、金属チオ硫酸塩、およびそれらの任意の混合物からなる群から選択される還元剤で処理される、請求項49に記載の方法。
- 前記第1の水性組成物(A)が、塩水であり、エポキシドを製造するためのプロセス、エポキシドの誘導体を製造するためのプロセス、塩素化有機生成物を製造するためのプロセス、モノイソシアネートまたはポリイソシアネートを製造するためのプロセス、ポリカーボネートを製造するためのプロセス、およびそれらの少なくとも2つの任意の組合わせからなる群から選択されるプロセスにおいて生成される、請求項1〜50のいずれか一項に記載の方法。
- 前記エポキシドがエピクロロヒドリンである、請求項51に記載の方法。
- 前記エピクロロヒドリンがジクロロプロパノールの脱塩化水素反応によって得られ、前記ジクロロプロパノールの少なくとも一部がグリセロールから得られ、その少なくとも一分画が天然グリセロールである、請求項52に記載の方法。
- エポキシドの前記誘導体がエポキシ樹脂である、請求項51または52に記載の方法。
- 前記塩素化有機生成物が1,2−ジクロロエタンまたは1,2−ジクロロエチレンである、請求項51〜54のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ポリイソシアネートが、4,4’−メチレンジフェニルジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ヘキサメチレン−1,6−ジイソシアネートおよびそれらの任意の混合物からなる群から選択される、請求項51〜55のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ポリカーボネートが2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンポリカーボネートである、請求項51〜56のいずれか一項に記載の方法。
- 膜塩素アルカリ電解槽の陽極区画に請求項1〜57のいずれか一項に記載の方法によって得られた前記水性組成物の少なくとも一部を供給する工程を含む、塩素を製造するための方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP11194209.0 | 2011-12-19 | ||
EP11194209 | 2011-12-19 | ||
PCT/EP2012/075211 WO2013092338A1 (en) | 2011-12-19 | 2012-12-12 | Process for reducing the total organic carbon of aqueous compositions |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015504003A true JP2015504003A (ja) | 2015-02-05 |
Family
ID=47326197
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014547852A Pending JP2015504003A (ja) | 2011-12-19 | 2012-12-12 | 水性組成物の全有機炭素を低減するための方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140332474A1 (ja) |
EP (1) | EP2794484A1 (ja) |
JP (1) | JP2015504003A (ja) |
KR (2) | KR20140112033A (ja) |
CN (1) | CN104080737A (ja) |
IN (1) | IN2014CN04510A (ja) |
WO (1) | WO2013092338A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
KR20140009163A (ko) | 2010-09-30 | 2014-01-22 | 솔베이(소시에떼아노님) | 천연유래 에피클로로히드린의 유도체 |
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TW200911773A (en) | 2007-06-12 | 2009-03-16 | Solvay | Epichlorohydrin, manufacturing process and use |
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FR2939434B1 (fr) | 2008-12-08 | 2012-05-18 | Solvay | Procede de traitement de glycerol. |
WO2011054770A1 (en) | 2009-11-04 | 2011-05-12 | Solvay Sa | Process for manufacturing an epoxy resin |
FR2952060B1 (fr) | 2009-11-04 | 2011-11-18 | Solvay | Procede de fabrication d'un produit derive de l'epichlorhydrine |
FR2963338B1 (fr) | 2010-08-02 | 2014-10-24 | Solvay | Procede d'electrolyse |
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-
2012
- 2012-12-12 EP EP12798768.3A patent/EP2794484A1/en not_active Withdrawn
- 2012-12-12 CN CN201280068366.1A patent/CN104080737A/zh active Pending
- 2012-12-12 KR KR1020147019823A patent/KR20140112033A/ko active Application Filing
- 2012-12-12 WO PCT/EP2012/075211 patent/WO2013092338A1/en active Application Filing
- 2012-12-12 US US14/366,278 patent/US20140332474A1/en not_active Abandoned
- 2012-12-12 JP JP2014547852A patent/JP2015504003A/ja active Pending
- 2012-12-12 KR KR1020197025708A patent/KR20190105120A/ko not_active IP Right Cessation
-
2014
- 2014-06-17 IN IN4510CHN2014 patent/IN2014CN04510A/en unknown
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140332474A1 (en) | 2014-11-13 |
IN2014CN04510A (ja) | 2015-09-11 |
KR20140112033A (ko) | 2014-09-22 |
CN104080737A (zh) | 2014-10-01 |
KR20190105120A (ko) | 2019-09-11 |
WO2013092338A1 (en) | 2013-06-27 |
EP2794484A1 (en) | 2014-10-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160622 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170228 |