JP2015218063A - 浮上搬送装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】水平面上で基板の浮上高さを一定に維持することができる浮上搬送装置を提供する。
【解決手段】基板を浮上させて搬送する浮上搬送装置であって、気体の噴出及び吸引により基板を浮上させる浮上ステージを備え、浮上ステージには、気体を吸引する吸引口と、気体を噴出する噴出口と、が形成され、噴出口は、吸引口の周囲に環状に形成されている。
【選択図】図1
【解決手段】基板を浮上させて搬送する浮上搬送装置であって、気体の噴出及び吸引により基板を浮上させる浮上ステージを備え、浮上ステージには、気体を吸引する吸引口と、気体を噴出する噴出口と、が形成され、噴出口は、吸引口の周囲に環状に形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、浮上搬送装置に関する。
従来、基板を浮上させて搬送する浮上搬送装置が知られている。例えば、特許文献1には、浮上搬送装置として、気体を噴出する噴出口と気体を吸引する吸引口とが基板の搬送方向に複数個ずつ配列された表面を有する浮上ステージを備えた構成が開示されている。この構成によれば、基板を浮上させるにあたり噴出口から気体を噴出すると同時に各吸引孔から基板を吸引することで、気体の噴出のみを行って基板を浮上させた場合と比較して、基板の浮上高さを精密に制御することができる。
しかし、特許文献1に記載された浮上搬送装置では、噴出口及び吸引口が基板の搬送方向(X軸方向)に配列されているため、基板の搬送方向と交差する方向(例えば、水平面上でX軸方向と直交するY軸方向)で吸引力が変化した場合に、水平面上で基板の浮上高さを一定に保つことができないという課題があった。
以上のような事情に鑑み、本発明は、水平面上で基板の浮上高さを一定に維持することができる浮上搬送装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係る浮上搬送装置は、基板を浮上させて搬送する浮上搬送装置であって、気体の噴出及び吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージを備え、前記浮上ステージには、気体を吸引する吸引口と、気体を噴出する噴出口と、が形成され、前記噴出口は、前記吸引口の周囲に環状に形成されている。
この構成によれば、環状の噴出口から噴出された気体が噴出口の内側の吸引口で吸引されることで、吸引口の周囲に気体の流れが形成されるため、吸引口の周囲で一定の吸引力を維持することができる。よって、水平面上で基板の浮上高さを一定に維持することができる。
上記の浮上搬送装置において、前記吸引口の平面形状は円形で、且つ、前記噴出口の平面形状は円環であり、前記吸引口と前記噴出口とは同心円状に配置されていてもよい。
この構成によれば、吸引口及び噴出口により形成される形状が平面視で二重丸となるため、吸引口の周囲に均一な気体の流れを形成することができる。これにより、吸引口の周囲で吸引力が不安定になることを抑制できる。よって、水平面上で基板の浮上高さを安定して一定に維持することができる。
この構成によれば、吸引口及び噴出口により形成される形状が平面視で二重丸となるため、吸引口の周囲に均一な気体の流れを形成することができる。これにより、吸引口の周囲で吸引力が不安定になることを抑制できる。よって、水平面上で基板の浮上高さを安定して一定に維持することができる。
上記の浮上搬送装置において、前記浮上ステージには、前記吸引口と前記噴出口とを有する開口部が複数形成され、複数の前記開口部は、平面視でマトリクス状に配置されていてもよい。
この構成によれば、複数の開口部が平面視でマトリクス状に配置されることで、浮上ステージの基板と対向する面全体で均一に各吸引口の周囲に気体の流れが形成されるため、水平面上で基板の浮上高さを安定して一定に維持することが容易となる。
この構成によれば、複数の開口部が平面視でマトリクス状に配置されることで、浮上ステージの基板と対向する面全体で均一に各吸引口の周囲に気体の流れが形成されるため、水平面上で基板の浮上高さを安定して一定に維持することが容易となる。
上記の浮上搬送装置において、前記吸引口と連通する第一配管と、前記第一配管を介して前記吸引口から気体を吸引する気体吸引手段と、前記吸引口及び前記噴出口を前記基板と対向する面で露出させた状態で前記第一配管を収容する収容部と、前記収容部に接続され且つ前記収容部の内部空間を介して前記噴出口と連通する第二配管と、前記第二配管を介して前記噴出口に気体を供給する気体供給手段と、を更に備えてもよい。
この構成によれば、収容部が吸引口及び噴出口を基板と対向する面で露出させた状態で第一配管を収容すると共に、第二配管が収容部に接続され且つ収容部の内部空間を介して噴出口と連通する構成であるため、気体の供給路の気密性を確保し且つ装置のコンパクト化を図ることができる。
この構成によれば、収容部が吸引口及び噴出口を基板と対向する面で露出させた状態で第一配管を収容すると共に、第二配管が収容部に接続され且つ収容部の内部空間を介して噴出口と連通する構成であるため、気体の供給路の気密性を確保し且つ装置のコンパクト化を図ることができる。
本発明によれば、水平面上で基板の浮上高さを一定に維持することができる浮上搬送装置を提供することができる。
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態を説明する。
図1は、本実施形態に係る浮上搬送装置1を示す斜視図である。図2は、図1のA−A線に沿った断面を基板Sと共に示す図である。図3は、本実施形態に係る浮上搬送装置1の分解斜視図である。
図1は、本実施形態に係る浮上搬送装置1を示す斜視図である。図2は、図1のA−A線に沿った断面を基板Sと共に示す図である。図3は、本実施形態に係る浮上搬送装置1の分解斜視図である。
図1〜図3に示すように、浮上搬送装置1は、基板Sを浮上させて搬送するものである。浮上搬送装置1は、気体の噴出及び吸引により基板Sを浮上させる浮上ステージ2を備える。浮上ステージ2には、気体を吸引する吸引口21と、気体を噴出する噴出口22と、が形成される。噴出口22は、吸引口21の周囲に環状に形成されている。
吸引口21の平面形状は円形である。噴出口22の平面形状は円環である。吸引口21と噴出口22とは同心円状に配置されている。
尚、吸引口21の平面形状は円形に限らず、楕円形であってもよい。また、噴出口22の平面形状も円環に限らず、楕円環であってもよい。
尚、吸引口21の平面形状は円形に限らず、楕円形であってもよい。また、噴出口22の平面形状も円環に限らず、楕円環であってもよい。
浮上ステージ2には、吸引口21と噴出口22とを有する開口部20が複数形成されている。複数の開口部20は、平面視でマトリクス状に配置されている。浮上搬送装置1は、例えば工場等の床面に載置されて用いられる。
尚、図1において、複数の開口部20は、便宜上、3行3列の計9つ配置されているが、実際の配置行列は、基板Sのサイズによって異なる。また、開口部20の数は、これに限らず、必要に応じて、適宜種々の数を配置することができる。
尚、図1において、複数の開口部20は、便宜上、3行3列の計9つ配置されているが、実際の配置行列は、基板Sのサイズによって異なる。また、開口部20の数は、これに限らず、必要に応じて、適宜種々の数を配置することができる。
複数の開口部20は、例えば、行方向及び列方向のそれぞれにおいて開口部20の間隔が3mm以上15mm以下となるように配置されていればよい。本実施形態において、複数の開口部20は、行方向及び列方向のそれぞれにおいて開口部20の間隔が10mm程度となるように配置されている。ここで、「開口部20の間隔」は、隣り合う二つの開口部20(噴出口22)の間の距離を意味する。
以下の各図において、本実施形態に係る浮上搬送装置1の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、XYZ座標系を用いて図中の方向を説明する。当該XYZ座標系においては、床面に平行な平面をXY平面とする。このXY平面において浮上搬送装置1の開口部20が並べられた一方向(行方向)をX方向と表記し、XY平面上でX方向に直交する方向をY方向と表記する。XY平面に垂直な方向はZ方向と表記する。X方向、Y方向及びZ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が+方向であり、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとして説明する。
本実施形態では、基板Sとして、例えばガラスや樹脂などからなる薄膜フィルムを用いている。基板Sとして、数十μmの厚みを有する薄膜フィルムを例に挙げて説明する。
尚、基板Sの寸法は、様々なサイズを適用可能である。例えば、基板Sとしては、平面視において各辺の長さが100mm以上1000mm以下の基板や各辺の長さが1000mmよりも大きい基板、又は各辺の長さが100mmよりも小さい基板を適宜用いることができる。
尚、基板Sの寸法は、様々なサイズを適用可能である。例えば、基板Sとしては、平面視において各辺の長さが100mm以上1000mm以下の基板や各辺の長さが1000mmよりも大きい基板、又は各辺の長さが100mmよりも小さい基板を適宜用いることができる。
浮上搬送装置1は、収容部30、第一配管(第一吸引配管41、第二吸引配管45)、第二配管42、気体吸引手段43、気体供給手段44及び制御装置40を更に備える。尚、図3では、便宜上、気体吸引手段43、気体供給手段44及び制御装置40の図示を省略する。
収容部30は、四角柱状の外形を有する。収容部30は、天板部31、第一収容部32及び第二収容部33を備える。収容部30は、例えば鉄、アルミニウム等の金属からなり、天板部31、第一収容部32及び第二収容部33がそれぞれ着脱可能に接続されることにより、一体に形成されている。収容部30は、吸引口21及び噴出口22を基板Sと対向する面31fで露出させた状態で第一吸引配管41を収容する。
天板部31は、矩形板状の外形を有する。天板部31には、複数の開口31hが形成されている。複数の開口31hは、X方向及びY方向のそれぞれにおいて等間隔に配置されている。開口31hは、吸引口21及び噴出口22の開口を構成する。天板部31の上面は、基板Sと対向する面31fを構成する。
例えば、天板部31の平面視における各辺の長さは100mm程度であり、開口31hの直径は3mm以上10mm以下である。
複数の開口31hは、例えば、X方向及びY方向のそれぞれにおいて開口31hの間隔が3mm以上15mm以下となるように配置されていればよい。本実施形態において、複数の開口31hは、X方向及びY方向のそれぞれにおいて開口31hの間隔が6mm程度となるように配置されている。ここで、「開口31hの間隔」は、隣り合う二つの開口31hの間の距離を意味する。
複数の開口31hは、例えば、X方向及びY方向のそれぞれにおいて開口31hの間隔が3mm以上15mm以下となるように配置されていればよい。本実施形態において、複数の開口31hは、X方向及びY方向のそれぞれにおいて開口31hの間隔が6mm程度となるように配置されている。ここで、「開口31hの間隔」は、隣り合う二つの開口31hの間の距離を意味する。
第一収容部32は、上方を開口させた矩形箱状の外形を有する。具体的に、第一収容部32は、矩形板状の外形を有する底板部32aと、矩形枠状の外形を有する側壁部32bと、を備える。側壁部32bの平面形状(外形形状)は、天板部31の平面形状と略同じ大きさを有する。
第一収容部32の内部には、第一空間32s(内部空間)が形成される。底板部32aには、複数の吸引孔32hが形成されている。複数の吸引孔32hは、X方向及びY方向のそれぞれにおいて等間隔に配置されている。例えば、吸引孔32hの直径は、0.5mm以上2mm以下であり、本実施形態において、吸引孔32hの直径は1.5mm程度である。底板部32aは、第一空間32sと、後述する第二空間33sとを区画する。例えば、側壁部32bの上部には、天板部31の外周部が着脱可能に接続される。
第二収容部33は、上方を開口させた矩形箱状の外形を有する。具体的に、第二収容部33は、矩形板状の外形を有する底板部33aと、矩形枠状の外形を有する側壁部33bと、を備える。底板部33a及び側壁部33bの平面形状は、それぞれ底板部32a及び側壁部32bの平面形状と略同じ大きさを有する。第二収容部33の内部には、第二空間33sが形成される。底板部33aは、収容部30の底部を構成する。例えば、側壁部33bの上部には、側壁部32bの下部が着脱可能に接続される。
第一吸引配管41は、Z方向に延びる直線状の管である。第一吸引配管41の上端部は、天板部31の開口31hから外部に露出する。第一吸引配管41の下端部は、第一吸引配管41の内部通路が底板部32aの吸引孔32hと連通するように底板部32aに接続される。これにより、第一吸引配管41の内部通路は、第二空間33sと連通する。
底板部32aには、複数の第一吸引配管41が設けられる。本実施形態において、複数の第一吸引配管41は、開口部20の数と同じ数を有し、3行3列の計9つ配置されているが、これに限らない。第一吸引配管41の数は、開口部20の数に合わせた数を配置することができる。
第二吸引配管45は、第二収容部33の側壁部33bに接続される。第二吸引配管45の内部通路は、第二空間33sと連通する。これにより、第二吸引配管45は、第二空間33s及び第一吸引配管41の内部通路を介して、吸引口21と連通する。
側壁部33bには、複数の第二吸引配管45が設けられる。本実施形態において、第二吸引配管45は、側壁部33bの+X方向側の面の−Y方向側の端部寄り、側壁部33bの−X方向側の面の+Y方向側の端部寄り、側壁部33bの+Y方向側の面の+X方向側の端部寄り、側壁部33bの−Y方向側の面の−X方向側の端部寄り、のそれぞれにおいて1つずつ計4つ設けられる。
尚、第二吸引配管45の数、配置位置は、これに限らず、必要に応じて、適宜種々の数、配置位置を採用することができる。
尚、第二吸引配管45の数、配置位置は、これに限らず、必要に応じて、適宜種々の数、配置位置を採用することができる。
第二配管42は、第一収容部32の側壁部32bに接続される。第二配管42の内部通路は、第一空間32sと連通する。これにより、第二配管42は、第一空間32sを介して噴出口22と連通する。
側壁部32bには、複数の第二配管42が設けられる。本実施形態において、第二配管42は、側壁部32bの+X方向側の面の+Y方向側の端部寄り、側壁部32bの−X方向側の面の−Y方向側の端部寄り、側壁部32bの+Y方向側の面の−X方向側の端部寄り、側壁部32bの−Y方向側の面の+X方向側の端部寄り、のそれぞれにおいて1つずつ計4つ設けられる。
尚、第二配管42の数、配置位置は、これに限らず、必要に応じて、適宜種々の数、配置位置を採用することができる。
尚、第二配管42の数、配置位置は、これに限らず、必要に応じて、適宜種々の数、配置位置を採用することができる。
気体吸引手段43は、4つの第二吸引配管45に接続される。尚、図1では、便宜上、気体吸引手段43が+X方向側の第二吸引配管45のみに接続されているが、実際には4つの第二吸引配管45のすべてに接続されている。気体吸引手段43は、4つの第二吸引配管45を介して吸引口21から気体を吸引する。気体吸引手段43としては、真空ポンプ等の吸気装置を用いることができる。
気体供給手段44は、4つの第二配管42に接続される。尚、図1では、便宜上、気体供給手段44が+X方向側の第二配管42のみに接続されているが、実際には4つの第二配管42のすべてに接続されている。気体供給手段44は、4つの第二配管42を介して噴出口22に気体を供給する。気体供給手段44としては、例えばブロワー等の送気装置を用いることができる。
制御装置40は、気体吸引手段43及び気体供給手段44のそれぞれに電気的に接続される。制御装置40は、気体吸引手段43及び気体供給手段44のそれぞれを統括制御する。
制御装置40により、気体供給手段44が作動すると、第二配管42の内部通路及び第一空間32sを介して噴出口22から気体が噴出される。また、気体吸引手段43が作動すると、第二吸引配管45の内部通路、第二空間33s、吸引孔32h及び第一吸引配管41の内部通路を介して、吸引口21から気体が吸引される。気体吸引手段43及び気体供給手段44のそれぞれは、噴出口22から噴出される気体の圧力が吸引口21から吸引される気体の圧力よりも大きくなるように制御される。
図2に示すように、噴出口22から噴出された気体が吸引口21で吸引されることで、吸引口21の周囲に気体の流れが形成される。噴出口22から噴出された気体の圧力を吸引口21から吸引される気体の圧力で調整することで、水平面上で基板Sを浮上させるための気体の圧力を調整することができる。
以上のように、本実施形態に係る浮上搬送装置1によれば、環状の噴出口22から噴出された気体が噴出口22の内側の吸引口21で吸引されることで、吸引口21の周囲に気体の流れが形成されるため、吸引口21の周囲で一定の吸引力を維持することができる。よって、水平面上で基板Sの浮上高さを一定に維持することができる。
また、吸引口21及び噴出口22により形成される形状が平面視で二重丸となるため、吸引口21の周囲に均一な気体の流れを形成することができる。これにより、吸引口21の周囲で吸引力が不安定になることを抑制できる。よって、水平面上で基板Sの浮上高さを安定して一定に維持することができる。
また、収容部30が吸引口21及び噴出口22を基板Sと対向する面で露出させた状態で第一吸引配管41を収容すると共に、第二配管42が収容部30に接続され且つ収容部30の第一空間32sを介して噴出口22と連通する構成であるため、気体の供給路の気密性を確保し且つ装置のコンパクト化を図ることができる。
また、複数の開口部20が平面視でマトリクス状に配置されることで、浮上ステージ2の基板Sと対向する面31f全体で均一に各吸引口21の周囲に気体の流れが形成されるため、水平面上で基板Sの浮上高さを安定して一定に維持することが容易となる。
さらに、複数の開口部20がX方向及びY方向のそれぞれにおいて等間隔に配置されることで、基板Sと対向する面31f全体において、水平面上で基板Sの浮上高さを安定して一定に維持することが容易となる。以下、図4及び図5を用いて説明する。
図4は、比較例に係る浮上ステージ2Xの平面図である。図5は、本実施形態に係る浮上ステージ2の平面図である。
図4に示すように、比較例に係る浮上ステージ2Xには、気体を吸引する吸引口21Xと、気体を噴出する噴出口22Xと、が形成されている。浮上ステージ2Xには、複数の吸引口21X及び噴出口22Xのそれぞれが平面視で千鳥状に配置されている。各吸引口21Xは、4つの噴出口22Xの間の中央に位置するように、配置されている。
図4に示すように、比較例に係る浮上ステージ2Xには、気体を吸引する吸引口21Xと、気体を噴出する噴出口22Xと、が形成されている。浮上ステージ2Xには、複数の吸引口21X及び噴出口22Xのそれぞれが平面視で千鳥状に配置されている。各吸引口21Xは、4つの噴出口22Xの間の中央に位置するように、配置されている。
ここで、浮上ステージ2Xにおいて、1つの吸引口21Xと4つの噴出口22Xとで1つの圧力作用部(基板を浮上させる気体に圧力を作用させるため部分)とする。そうすると、浮上ステージ2Xの外周部には、吸引口21Xと噴出口22Xとが交互に配置されており、圧力作用部が十分に形成されない。そのため、浮上ステージ2Xの外周部では、基板を浮上させる気体に圧力を十分に作用させることができず、浮上した基板にたわみが生じるおそれがある。
これに対し、図5に示すように、本実施形態に係る浮上ステージ2には、複数(図5では、便宜上、4行4列の計16個)の開口部20がX方向及びY方向のそれぞれにおいて等間隔に配置される。そのため、浮上ステージ2の中央部のみならず、浮上ステージ2の外周部においても、基板を浮上させる気体に圧力を作用させることができる。これにより、浮上ステージ2の表面全体で均一に基板を浮上させる気体の圧力を維持することができる。よって、浮上ステージ2の表面全体において、水平面上で基板の浮上高さを安定して一定に維持することが容易となる。
尚、本実施形態では、開口部20が1つの吸引口21と1つの噴出口22を有する構成を例に挙げて説明したが、これに限らない。例えば、図6に示すように、開口部120が4つの吸引孔121と1つの噴出口22を有する構成であってもよい。
尚、上記において実施形態として記載した各構成要素は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜組み合わせることができるし、また、組み合わされた複数の構成要素のうち一部の構成要素を適宜用いないようにすることもできる。
1…浮上搬送装置 2…浮上ステージ 20…開口部 21…吸引口 22…噴出口 30…収容部 32s…第一空間(内部空間) 41…第一吸引配管(第一配管) 42…第二配管 43…気体吸引手段 44…気体供給手段 S…基板
Claims (4)
- 基板を浮上させて搬送する浮上搬送装置であって、
気体の噴出及び吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージを備え、
前記浮上ステージには、気体を吸引する吸引口と、気体を噴出する噴出口と、が形成され、
前記噴出口は、前記吸引口の周囲に環状に形成されている浮上搬送装置。 - 前記吸引口の平面形状は円形で、且つ、前記噴出口の平面形状は円環であり、
前記吸引口と前記噴出口とは同心円状に配置されている請求項1に記載の浮上搬送装置。 - 前記浮上ステージには、前記吸引口と前記噴出口とを有する開口部が複数形成され、
複数の前記開口部は、平面視でマトリクス状に配置されている請求項1又は2に記載の浮上搬送装置。 - 前記吸引口と連通する第一配管と、前記第一配管を介して前記吸引口から気体を吸引する気体吸引手段と、前記吸引口及び前記噴出口を前記基板と対向する面で露出させた状態で前記第一配管を収容する収容部と、前記収容部に接続され且つ前記収容部の内部空間を介して前記噴出口と連通する第二配管と、前記第二配管を介して前記噴出口に気体を供給する気体供給手段と、を更に備える請求項1から3のうちいずれか一項に記載の浮上搬送装置。
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