JP2015216300A - Printed wiring board manufacturing method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board manufacturing method which can form a halved through hole simply and easily regardless of a thickness of the printed wiring board and a hole diameter of a through hole.SOLUTION: A manufacturing method of a printed wiring board having a through hole halved in a circumferential direction by a slit extending in an axial direction comprises: a process of forming a through hole 18 in a substrate; a process of forming a cylindrical plating layer 8 on an inner surface of the through hole 18; a process of filling the inner peripheral side of the cylindrical plating layer 8 with protection resin 22; a process of irradiating laser beams on the resin 22 which faces a position where a slit is to be formed to remove part of the resin 22 to expose an inner surface of the plating layer 8 on a place where the slit is to be formed; a process of removing the plating layer 8 exposed by the removal of part of the resin 22 by etching to form a slit; and a process of removing all of the resin 22 filled in on the inner peripheral side of the plating layer 8.

Description

この発明は、プリント配線板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board.

多層化したプリント配線板等において、各層間を接続するためにスルーホールが形成されている場合がある。このスルーホールは、孔の内側面にめっき層が形成されており、プリント配線板を厚さ方向に貫通して設けられている。このようなスルーホールは、プリント配線板等の表裏面に広がるランドを備えている。このランドは、上述した内側面のめっき層と電気的に接続されている。上記プリント配線板は、複数のピースを備えるシート状に形成され、後から各ピースを分割する場合が多い。
しかし、プリント配線板は、上述したスルーホールを形成するために比較的大きなスペースが必要となるため、ピースの取り数が減少してしまっていた。
特許文献1には、プリント配線板の端面に半割りスルーホールを形成する技術が提案されている。このような、半割りスルーホールを形成することで、一般的な円形のスルーホールと比較してその設置スペースを低減して取り数の減少を抑制できる。
In a multilayer printed wiring board or the like, a through hole may be formed to connect each layer. The through hole has a plating layer formed on the inner side surface of the hole, and is provided through the printed wiring board in the thickness direction. Such a through hole is provided with lands extending on the front and back surfaces of a printed wiring board or the like. This land is electrically connected to the plating layer on the inner surface described above. The printed wiring board is formed in a sheet shape having a plurality of pieces, and each piece is often divided later.
However, since the printed wiring board requires a relatively large space for forming the above-described through hole, the number of pieces to be taken has been reduced.
Patent Document 1 proposes a technique for forming a half through hole on an end face of a printed wiring board. By forming such a half through hole, the installation space can be reduced compared with a general circular through hole, and the reduction in the number can be suppressed.

特開2000−082762号公報JP 2000-082662 A

ところで、上述した半割りスルーホールを形成する場合、円形に形成したスルーホールを半分にカットするとめっき層にバリが生じてしまうことがある。そのため、バリ除去に係る工数の増加や、バリ検査に係る工数が増加してしまう。このようなバリの発生を抑制するためには、例えば、スルーホールをカットする箇所のめっき層を予めエッチング等により除去することが考えられるが、カットする箇所以外をフォトレジスト等によって保護する必要がある。しかし、スルーホールの内面を露光させる際に、光を斜めから当てたり、プリント配線板を傾斜させたりする必要があるため、作業が煩雑になってしまう。また、スルーホールが形成されるプリント配線板の厚さが大きい場合や、スルーホールの孔径を小さくしようとした場合には、光がスルーホールの内面に届かなくなり、フォトレジストを用いた露光処理が困難になるという課題がある。   By the way, when forming the above-mentioned half through-hole, if the through-hole formed in a circle is cut in half, a burr may occur in the plating layer. For this reason, an increase in man-hours related to burr removal and a man-hour related to burr inspection increase. In order to suppress the occurrence of such burrs, for example, it is conceivable to remove the plating layer where the through hole is to be cut by etching or the like in advance. is there. However, when exposing the inner surface of the through hole, it is necessary to apply light obliquely or to incline the printed wiring board, which makes the operation complicated. In addition, when the thickness of the printed wiring board on which the through hole is formed is large, or when trying to reduce the hole diameter of the through hole, the light does not reach the inner surface of the through hole, and an exposure process using a photoresist is performed. There is a problem that it becomes difficult.

この発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、プリント配線板の厚さやスルーホールの孔径に関わらず、簡単且つ容易に半割りスルーホールを形成することができるプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and a printed wiring board manufacturing method capable of easily and easily forming a half through hole regardless of the thickness of the printed wiring board and the hole diameter of the through hole. The purpose is to provide.

上記の課題を解決するために以下の構成を採用する。
この発明に係るプリント配線板の製造方法は、軸線方向に延びるスリットにより周方向に分割されたスルーホールを有するプリント配線板の製造方法であって、基板に貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔の内面に筒状のめっき層を形成する工程と、前記筒状のめっき層の内周側に保護用の樹脂を充填する工程と、前記スリットを形成する位置に対向する前記樹脂に対してレーザー光を照射して、前記樹脂の一部を除去することで前記スリットを形成する箇所の前記めっき層の内面を露出させる工程と、前記樹脂の一部を除去することで露出した前記めっき層をエッチング処理により除去して前記スリットを形成する工程と、前記めっき層の内周側に充填された前記樹脂を全て除去する工程と、を含む。
このようにすることで、高いコヒーレンスを有するレーザー光の照射により保護用の樹脂を軸線方向に等幅で貫通除去することができるため、スリットを形成する箇所のめっき層の内面をスリット幅で露出させることができる。そのため、エッチング処理により容易にスリットを形成することができる。したがって、プリント配線板の厚さやスルーホールの孔径に関わらず、簡単且つ容易に半割りスルーホールを形成することができる。
In order to solve the above problems, the following configuration is adopted.
A method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention is a method for manufacturing a printed wiring board having a through hole divided in a circumferential direction by a slit extending in an axial direction, the step of forming a through hole in a substrate, and the penetration A step of forming a cylindrical plating layer on the inner surface of the hole, a step of filling a protective resin on the inner peripheral side of the cylindrical plating layer, and the resin facing the position where the slit is formed A step of exposing the inner surface of the plating layer where the slit is formed by removing a part of the resin by irradiating a laser beam, and the plating layer exposed by removing a part of the resin Are removed by an etching process to form the slit, and a process of removing all of the resin filled on the inner peripheral side of the plating layer is included.
By doing so, the protective resin can be penetrated and removed in the axial direction with a uniform width by irradiation with laser light having high coherence, so that the inner surface of the plating layer where the slit is formed is exposed with the slit width. Can be made. Therefore, the slit can be easily formed by the etching process. Therefore, regardless of the thickness of the printed wiring board and the hole diameter of the through hole, the half through hole can be formed easily and easily.

さらに、この発明に係るプリント配線板の製造方法は、上記プリント配線板の製造方法における前記レーザー光が、炭酸ガスレーザーのレーザー光であってもよい。
炭酸ガスレーザーを使用することで、保護用の樹脂を除去するために必要な大出力のレーザー光を容易に得ることができる。
Furthermore, in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, the laser beam in the method for manufacturing a printed wiring board may be a laser beam of a carbon dioxide gas laser.
By using a carbon dioxide laser, it is possible to easily obtain a high-power laser beam necessary for removing the protective resin.

さらに、この発明に係るプリント配線板の製造方法は、上記プリント配線板の製造方法における前記スリットが、2箇所に形成され、各スリットが、前記軸線を挟んで対称位置に形成されていてもよい。
このように構成することで、例えば、軸線を挟んで対称位置に配置された2つのスリットを通るように基板を切断することで、プリント配線板の端面に半割りスルーホールを形成することができる。
Furthermore, in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, the slits in the method for manufacturing a printed wiring board may be formed at two locations, and each slit may be formed at a symmetrical position across the axis. .
By configuring in this way, for example, the substrate is cut so as to pass through two slits arranged at symmetrical positions across the axis, whereby a half-through hole can be formed in the end face of the printed wiring board. .

この発明に係るプリント配線板の製造方法によれば、プリント配線板の厚さやスルーホールの孔径に関わらず、簡単且つ容易に半割りスルーホールを形成することが可能となる。   According to the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, it is possible to easily and easily form a half through hole regardless of the thickness of the printed wiring board and the hole diameter of the through hole.

この実施形態におけるプリント配線板のコア基板にIVH(Interstitial Via Hole)用の孔を形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which formed the hole for IVH (Interstitial Via Hole) in the core board | substrate of the printed wiring board in this embodiment. この実施形態におけるIVHの内面にめっき層を形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which formed the plating layer in the inner surface of IVH in this embodiment. この実施形態におけるコア基板に絶縁樹脂層と銅箔とを積層プレスした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which laminated-pressed the insulating resin layer and the copper foil on the core board | substrate in this embodiment. この実施形態の絶縁樹脂層にビア穴を形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which formed the via hole in the insulating resin layer of this embodiment. この実施形態の絶縁樹脂層およびコア基板を貫通するスルーホール用の孔を形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which formed the hole for through-holes which penetrates the insulating resin layer and core substrate of this embodiment. この実施形態におけるビア穴およびスルーホール用の孔の内面にめっき層を形成してレジストおよび金メッキを形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which formed the plating layer in the inner surface of the hole for via holes and through-holes in this embodiment, and formed the resist and gold plating. この実施形態におけるプリント配線板をスルーホールのスリットに沿ってダイサーカットした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which carried out the dicer cut of the printed wiring board in this embodiment along the slit of a through hole. この実施形態における半割りスルーホールの斜視図である。It is a perspective view of the half through hole in this embodiment. この実施形態における貫通孔の平面図である。It is a top view of the through-hole in this embodiment. この実施形態における貫通孔に保護用の樹脂を充填した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which filled the protective resin in the through-hole in this embodiment. この実施形態における保護用の樹脂にレーザー光を照射した後の状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state after irradiating the protection resin in this embodiment with a laser beam. この実施形態におけるスルーホールの平面図である。It is a top view of the through hole in this embodiment.

以下、この発明の一実施形態に係るプリント配線板の製造方法について図面に基づき説明する。
図1は、この実施形態におけるプリント配線板のコア基板にIVH(Interstitial Via Hole)用の孔を形成した状態を示す断面図である。図2は、この実施形態におけるIVHの内面にめっき層を形成した状態を示す断面図である。図3は、この実施形態におけるコア基板に絶縁樹脂層と銅箔とを積層プレスした状態を示す断面図である。図4は、この実施形態の絶縁樹脂層にビア穴を形成した状態を示す断面図である。図5は、この実施形態の絶縁樹脂層およびコア基板を貫通するスルーホール用の孔を形成した状態を示す断面図である。図6は、この実施形態におけるビア穴およびスルーホール用の孔の内面にめっき層を形成してレジストおよび金メッキを形成した状態を示す断面図である。図7は、この実施形態におけるプリント配線板をスルーホールのスリットに沿ってダイサーカットした状態を示す断面図である。図8は、この実施形態における半割りスルーホールの斜視図である。
Hereinafter, a method for manufacturing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a state in which IVH (Interstitial Via Hole) holes are formed in the core substrate of the printed wiring board in this embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a plating layer is formed on the inner surface of the IVH in this embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which an insulating resin layer and a copper foil are laminated and pressed on the core substrate in this embodiment. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state where via holes are formed in the insulating resin layer of this embodiment. FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which holes for through holes penetrating the insulating resin layer and the core substrate of this embodiment are formed. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which a plating layer is formed on the inner surfaces of via holes and through-holes in this embodiment to form a resist and gold plating. FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state in which the printed wiring board according to this embodiment is cut by a dicer along the slit of the through hole. FIG. 8 is a perspective view of the half through-hole in this embodiment.

図7に示す多層プリント配線板100は、内層コア基板110と、絶縁樹脂層120と、を有している。この多層プリント配線板100には、ビア10と、半割りスルーホール30と、が形成されている。
内層コア基板110は、電気絶縁性の樹脂層1の両面に配線2が形成されている。
絶縁樹脂層120は、内層コア基板110の両側に積層されている。絶縁樹脂層120は、内層コア基板110側とは反対の外面3に配線4を有している。
A multilayer printed wiring board 100 shown in FIG. 7 has an inner core substrate 110 and an insulating resin layer 120. The multilayer printed wiring board 100 is formed with a via 10 and a half through hole 30.
The inner core substrate 110 has wirings 2 formed on both surfaces of the electrically insulating resin layer 1.
The insulating resin layer 120 is laminated on both sides of the inner layer core substrate 110. The insulating resin layer 120 has wiring 4 on the outer surface 3 opposite to the inner layer core substrate 110 side.

ビア10は、絶縁樹脂層120の外面3から内層コア基板110の配線2に到達する非貫通孔である。このビア10の内面には、銅めっき層からなるビア配線部6が形成されている。ビア配線部6は、内層コア基板110の配線2と、絶縁樹脂層120の外面3の配線4とを電気的に接続している。   The via 10 is a non-through hole that reaches the wiring 2 of the inner core substrate 110 from the outer surface 3 of the insulating resin layer 120. A via wiring portion 6 made of a copper plating layer is formed on the inner surface of the via 10. The via wiring portion 6 electrically connects the wiring 2 of the inner core substrate 110 and the wiring 4 of the outer surface 3 of the insulating resin layer 120.

半割りスルーホール30は、多層プリント配線板100の端縁7に形成されている。図7、図8に示すように、半割りスルーホール30は、一方の絶縁樹脂層120の外面3から他方の絶縁樹脂層120の外面3に至る断面半円の丸溝状に形成されている。この半割りスルーホール30の内面には、銅めっき層からなるスルーホール配線部8が形成されている。また、この半割りスルーホール30は、端縁7側に、スルーホール配線部8が形成されない部分を有している。スルーホール配線部8は、2つの絶縁樹脂層120の各配線4と、内層コア基板110の配線2とをそれぞれ電気的に接続する。   The half through hole 30 is formed at the edge 7 of the multilayer printed wiring board 100. As shown in FIGS. 7 and 8, the half through-hole 30 is formed in a round groove shape with a semicircular cross section extending from the outer surface 3 of one insulating resin layer 120 to the outer surface 3 of the other insulating resin layer 120. . A through hole wiring portion 8 made of a copper plating layer is formed on the inner surface of the half through hole 30. Further, the half through-hole 30 has a portion where the through-hole wiring portion 8 is not formed on the edge 7 side. The through-hole wiring part 8 electrically connects each wiring 4 of the two insulating resin layers 120 and the wiring 2 of the inner layer core substrate 110.

この実施形態における多層プリント配線板100は、上述した構成を備えている。次に、上述した多層プリント配線板の製造方法について図面を参照しながら説明する。
まず、図1に示すように、銅張積層板111に、貫通孔12を形成する。銅張積層板111は、ガラスエポキシ樹脂等の電気絶縁性の樹脂材料からなる樹脂層1の両面に銅箔11が被着されて形成されている。樹脂層1は、例えば、MCL−E−679F(日立化成株式会社製)等を用いることができる。
The multilayer printed wiring board 100 in this embodiment has the above-described configuration. Next, the manufacturing method of the multilayer printed wiring board mentioned above is demonstrated, referring drawings.
First, as shown in FIG. 1, the through hole 12 is formed in the copper clad laminate 111. The copper clad laminate 111 is formed by depositing copper foil 11 on both surfaces of a resin layer 1 made of an electrically insulating resin material such as glass epoxy resin. For example, MCL-E-679F (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) or the like can be used for the resin layer 1.

さらに、図2に示すように、貫通孔12の内面を含む樹脂層1の全表面に、パネルめっき法などにより銅めっき層13を形成する。
次に、ドライフィルム等のエッチングレジストの形成、エッチング、エッチングレジストの除去からなる回路形成工程により、樹脂層1の表裏面の銅めっき層13にパターニングをして配線2を形成する。ここで、上述したドライフィルムとして、例えば、PH−3030(日立化成株式会社製)を用いることができる。
その後、内層コア基板110に対して、MD処理等により表面に微小な凹凸を形成する租化処理を実施する。
Further, as shown in FIG. 2, a copper plating layer 13 is formed on the entire surface of the resin layer 1 including the inner surface of the through hole 12 by a panel plating method or the like.
Next, the wiring 2 is formed by patterning the copper plating layer 13 on the front and back surfaces of the resin layer 1 by a circuit forming process including formation of an etching resist such as a dry film, etching, and removal of the etching resist. Here, as a dry film mentioned above, PH-3030 (made by Hitachi Chemical Co., Ltd.) can be used, for example.
After that, the inner layer core substrate 110 is subjected to a roughening process for forming minute irregularities on the surface by an MD process or the like.

次いで、図3に示すように、内層コア基板110の表裏両面に、絶縁樹脂層120と銅箔14とを順に重ね合わせ、加圧、加熱する。これにより、内層コア基板110に、絶縁樹脂層120と銅箔14とが一体化された銅箔付き積層基板112が得られる。ここで、絶縁樹脂層120としては、例えば、GEA−679F(日立化成株式会社製)等を用いることができる。   Next, as shown in FIG. 3, the insulating resin layer 120 and the copper foil 14 are sequentially stacked on the front and back surfaces of the inner layer core substrate 110, and are pressurized and heated. Thereby, the laminated substrate 112 with a copper foil in which the insulating resin layer 120 and the copper foil 14 are integrated with the inner layer core substrate 110 is obtained. Here, as the insulating resin layer 120, for example, GEA-679F (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) can be used.

次いで、図4に示すように、銅箔付き積層基板112の絶縁樹脂層120にビア穴16を加工する。このビア穴16は、例えば、炭酸ガスレーザーを用いたレーザー加工によって形成する。ビア穴16は、絶縁樹脂層120の外面17側から内層コア基板110の配線2に達するように形成する。
また、図5に示すように、ビア穴16と同様に、銅箔付き積層基板112の2つの絶縁樹脂層120、および、内層コア基板110を貫通するようにスルーホール用の貫通孔18を形成する。
Next, as shown in FIG. 4, the via hole 16 is processed in the insulating resin layer 120 of the laminated substrate 112 with copper foil. The via hole 16 is formed by laser processing using a carbon dioxide laser, for example. The via hole 16 is formed so as to reach the wiring 2 of the inner core substrate 110 from the outer surface 17 side of the insulating resin layer 120.
Further, as shown in FIG. 5, similarly to the via hole 16, the through hole 18 for the through hole is formed so as to penetrate the two insulating resin layers 120 of the laminated substrate 112 with the copper foil and the inner layer core substrate 110. To do.

その後、デスミア処理を行い、樹脂残渣を除去する。このデスミア処理は、デスミア液を銅箔付き積層基板112の全表面に接触させることで行う。
次いで、銅箔付き積層基板112の全面に、パネルめっき法により銅めっき層を形成する。これにより、ビア穴16の内面、および、貫通孔18の内面にビア配線部6、および、スルーホール配線部8が形成される。その後、詳細を後述する保護用の樹脂を貫通孔18に充填してレーザー加工を行う。
Thereafter, desmear treatment is performed to remove the resin residue. This desmear process is performed by bringing the desmear solution into contact with the entire surface of the laminated substrate 112 with the copper foil.
Next, a copper plating layer is formed on the entire surface of the multilayer substrate 112 with a copper foil by a panel plating method. Thereby, the via wiring portion 6 and the through-hole wiring portion 8 are formed on the inner surface of the via hole 16 and the inner surface of the through hole 18. Thereafter, the through hole 18 is filled with a protective resin, the details of which will be described later, and laser processing is performed.

さらに、図6に示すように、絶縁樹脂層120の外面3をエッチング処理することで、配線4を形成する。ここで、エッチング処理は、例えば、感光性のドライフィルム等のエッチングレジストを用いてマスクし、回路パターンを感光して除去した後に行なわれる。これにより配線4が形成される。その後、ドライフィルム、および、保護用の樹脂を除去して、レジスト19を施した後、銅めっきが露出する部分に金めっきを形成する。   Further, as shown in FIG. 6, the outer surface 3 of the insulating resin layer 120 is etched to form the wiring 4. Here, the etching process is performed, for example, after masking with an etching resist such as a photosensitive dry film and exposing and removing the circuit pattern. Thereby, the wiring 4 is formed. Then, after removing the dry film and the protective resin and applying the resist 19, gold plating is formed on the portion where the copper plating is exposed.

このように形成された多層プリント配線板100は、出荷後、出荷先にてスルーホール20のスリット(後述するスリット部24)に沿ってダイサーカットにより複数のピースに分割される。これにより、ピース間に断面半円状の半割りスルーホール30(図8参照)が形成される。   The multilayer printed wiring board 100 formed in this way is divided into a plurality of pieces by dicer cutting along a slit (a slit portion 24 described later) of the through hole 20 after shipment. Thereby, the half through-hole 30 (refer FIG. 8) of a cross-sectional semicircle shape is formed between pieces.

次に、上述したスルーホール20を形成する工程について図面を参照しながら詳細に説明する。
図9は、この実施形態における貫通孔の平面図である。図10は、この実施形態における貫通孔に保護用の樹脂を充填した状態を示す平面図である。図11は、この実施形態における保護用の樹脂にレーザー光を照射した後の状態を示す平面図である。図12は、この実施形態におけるスルーホールの平面図である。
Next, the process of forming the above-described through hole 20 will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 9 is a plan view of the through hole in this embodiment. FIG. 10 is a plan view showing a state in which the through hole in this embodiment is filled with a protective resin. FIG. 11 is a plan view showing a state after the protective resin in this embodiment is irradiated with laser light. FIG. 12 is a plan view of the through hole in this embodiment.

まず、図9に示すように、銅箔付き積層基板112に貫通孔18を形成した後、パネルめっき法により全面にめっき層を形成する。これにより貫通孔18の内部に円筒状のスルーホール配線部8が形成される。
次いで、図10に示すように、貫通孔18に対してエッチングレジストとなる保護用の樹脂22を充填する。この樹脂22によって、貫通孔18の内面全域が覆われる。ここで、樹脂22としては、アルカリ溶解型穴埋めインクであるSER−451B(山栄化学株式会社製)等を用いることができる。
First, as shown in FIG. 9, after forming the through-hole 18 in the laminated substrate 112 with a copper foil, a plating layer is formed on the entire surface by a panel plating method. Thereby, a cylindrical through-hole wiring portion 8 is formed inside the through hole 18.
Next, as shown in FIG. 10, the through hole 18 is filled with a protective resin 22 serving as an etching resist. This resin 22 covers the entire inner surface of the through hole 18. Here, as the resin 22, SER-451B (manufactured by Yamaei Chemical Co., Ltd.), which is an alkali-dissolving hole filling ink, can be used.

その後、図11に示すように、樹脂22に対してレーザー光を照射して、樹脂22にレーザー貫通孔23を形成する。この実施形態におけるレーザー光は、炭酸ガスレーザーから照射されたレーザー光を用いている。このレーザー光の照射幅は、形成するスリット幅と同じか、スリット幅よりも小さくする。レーザー光は、貫通孔18の軸線に沿うように直進し、貫通孔18の内面に僅かに接するように樹脂22を貫通する。レーザー光は、レーザー貫通孔23の軸線を挟んで対称位置に照射される。また、レーザー光の照射位置は、ダイサーカット等によってカットするカット線21上とされている。ここで、炭酸ガスレーザーの出力は高いほど良い。また、炭酸ガスレーザーのレーザー光がパルス状のレーザー光である場合、一回の照射でレーザー貫通孔23が形成できないときなどには、レーザー貫通孔23を形成するためにビームを少しずつシフトし重なり合うように照射すればよい。   Thereafter, as shown in FIG. 11, the resin 22 is irradiated with laser light to form a laser through hole 23 in the resin 22. The laser beam in this embodiment is a laser beam emitted from a carbon dioxide laser. The irradiation width of this laser light is the same as or smaller than the slit width to be formed. The laser light travels straight along the axis of the through hole 18 and penetrates the resin 22 so as to slightly contact the inner surface of the through hole 18. The laser beam is irradiated to a symmetrical position across the axis of the laser through hole 23. Further, the irradiation position of the laser light is on a cut line 21 that is cut by a dicer cut or the like. Here, the higher the output of the carbon dioxide laser, the better. In addition, when the laser beam of the carbon dioxide laser is a pulsed laser beam, when the laser through hole 23 cannot be formed by a single irradiation, the beam is shifted little by little to form the laser through hole 23. What is necessary is just to irradiate so that it may overlap.

次いで、上述したドライフィルムによるマスクを施してエッチング処理を行う。その後、ドライフィルム、および、樹脂22をアルカリ溶液により除去する。これにより図12に示すように、カット線21上に、めっき層が形成されていないスリット部24が形成される。また、外面17側には、それぞれ対向する半円弧状の2つのランド25が形成される。スリット部24は、ランド25にも及んで形成される。スリット部24は、スルーホール20の内面を軸線に沿って形成される。   Next, the above-described dry film mask is applied to perform etching. Thereafter, the dry film and the resin 22 are removed with an alkaline solution. Thereby, as shown in FIG. 12, the slit part 24 in which the plating layer is not formed is formed on the cut line 21. In addition, two semicircular arc-shaped lands 25 facing each other are formed on the outer surface 17 side. The slit part 24 extends to the land 25. The slit portion 24 is formed along the axis on the inner surface of the through hole 20.

したがって、上述した実施形態のプリント配線板の製造方法によれば、高いコヒーレンスを有するレーザー光の照射により保護用の樹脂22を軸線方向に等幅で貫通除去することができるため、スリット部24を形成する箇所のめっき層の内面をスリット部24の幅で露出させることができる。そのため、エッチング処理により容易にスリット部24を形成することができる。その結果、多層プリント配線板100の厚さやスルーホール20の孔径に関わらず、簡単且つ容易に半割りスルーホール30を形成することができる。   Therefore, according to the method for manufacturing a printed wiring board of the above-described embodiment, the protective resin 22 can be penetrated and removed at a uniform width in the axial direction by irradiation with laser light having high coherence. The inner surface of the plating layer at the place to be formed can be exposed with the width of the slit portion 24. Therefore, the slit part 24 can be easily formed by an etching process. As a result, regardless of the thickness of the multilayer printed wiring board 100 and the hole diameter of the through hole 20, the half through hole 30 can be formed easily and easily.

また、炭酸ガスレーザーを使用することで、保護用の樹脂を除去するために必要な大出力のレーザー光を容易に得ることができる。
さらに、軸線を挟んで対称位置に配置された2つのスリット24を通るように多層プリント配線板100を切断することで、多層プリント配線板の端面に半割りスルーホール30を形成することができる。また、スリット24を通るように切断することで、めっき層を切断しないため、バリの発生を抑制することができる。
In addition, by using a carbon dioxide laser, it is possible to easily obtain a high-power laser beam necessary for removing the protective resin.
Further, by cutting the multilayer printed wiring board 100 so as to pass through the two slits 24 arranged at symmetrical positions across the axis, the half through-hole 30 can be formed on the end face of the multilayer printed wiring board. Moreover, since the plating layer is not cut by cutting so as to pass through the slit 24, generation of burrs can be suppressed.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、実施形態で挙げた具体的な形状や構成等は一例にすぎず、適宜変更が可能である。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes various modifications made to the above-described embodiments without departing from the spirit of the present invention. That is, the specific shapes, configurations, and the like given in the embodiment are merely examples, and can be changed as appropriate.

例えば、上述した実施形態においては、炭酸ガスレーザーを用いる場合を一例に説明した。しかし樹脂22に貫通孔18を形成できるレーザー装置であればよく、炭酸ガスレーザー以外のレーザー装置を用いても良い。   For example, in the above-described embodiment, the case where a carbon dioxide laser is used has been described as an example. However, any laser device capable of forming the through hole 18 in the resin 22 may be used, and a laser device other than a carbon dioxide laser may be used.

さらに、上述した実施形態においては、レーザー光を照射する方向について特に定義しなかったが、スルーホール20の軸線方向一方側から照射したり、両側から照射したりしてもよい。また、上述した実施形態においては、レーザー光によって形成されるレーザー貫通孔23の断面形状が矩形の場合を例示したが、レーザー貫通孔23の断面形状は矩形に限られない。   Furthermore, in the above-described embodiment, the direction in which the laser beam is irradiated is not particularly defined. However, the irradiation may be performed from one side of the through hole 20 in the axial direction or from both sides. Moreover, although the case where the cross-sectional shape of the laser through-hole 23 formed with a laser beam was a rectangle was illustrated in embodiment mentioned above, the cross-sectional shape of the laser through-hole 23 is not restricted to a rectangle.

さらに、実施形態においては、多層プリント配線板100を一例に説明したが、多層のプリント配線板に限られるものではない。   Furthermore, in the embodiment, the multilayer printed wiring board 100 has been described as an example, but the present invention is not limited to a multilayer printed wiring board.

1 樹脂層
2 配線
3 外面
4 配線
5 内面
6 ビア配線部
7 端縁
8 スルーホール配線部(めっき層)
10 ビア
11 銅箔
12 貫通孔
13 銅めっき層
14 銅箔
16 ビア穴
17 外面
18 貫通孔
19 レジスト
20 スルーホール
22 樹脂
23 レーザー貫通孔
24 スリット部(スリット)
30 半割りスルーホール
100 多層プリント配線板(プリント配線板)
110 内層コア基板
120 絶縁樹脂層
111 銅張積層板
112 銅箔付き積層基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin layer 2 Wiring 3 Outer surface 4 Wiring 5 Inner surface 6 Via wiring part 7 Edge 8 Through-hole wiring part (plating layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Via 11 Copper foil 12 Through-hole 13 Copper plating layer 14 Copper foil 16 Via hole 17 Outer surface 18 Through-hole 19 Resist 20 Through-hole 22 Resin 23 Laser through-hole 24 Slit part (slit)
30 Half-thru hole 100 Multilayer printed wiring board (printed wiring board)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 110 Inner layer core board | substrate 120 Insulating resin layer 111 Copper clad laminated board 112 Laminated board with copper foil

Claims (3)

軸線方向に延びるスリットにより周方向に分割されたスルーホールを有するプリント配線板の製造方法であって、
基板に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔の内面に筒状のめっき層を形成する工程と、
前記筒状のめっき層の内周側に保護用の樹脂を充填する工程と、
前記スリットを形成する位置に対向する前記樹脂に対してレーザー光を照射して、前記樹脂の一部を除去することで前記スリットを形成する箇所の前記めっき層の内面を露出させる工程と、
前記樹脂の一部を除去することで露出した前記めっき層をエッチング処理により除去して前記スリットを形成する工程と、
前記めっき層の内周側に充填された前記樹脂を全て除去する工程と、を含むプリント配線板の製造方法。
A method of manufacturing a printed wiring board having a through hole divided in a circumferential direction by a slit extending in an axial direction,
Forming a through hole in the substrate;
Forming a cylindrical plating layer on the inner surface of the through hole;
Filling a protective resin on the inner peripheral side of the cylindrical plating layer;
Irradiating a laser beam to the resin facing the position where the slit is formed, and exposing the inner surface of the plating layer where the slit is formed by removing a part of the resin;
Removing the plating layer exposed by removing a portion of the resin by etching to form the slit;
Removing all of the resin filled on the inner peripheral side of the plating layer.
前記レーザー光は、炭酸ガスレーザーのレーザー光である請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the laser beam is a laser beam of a carbon dioxide gas laser. 前記スリットは、2箇所に形成され、各スリットは、前記軸線を挟んで対称位置に形成されている請求項1又は2に記載のプリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the slit is formed at two locations, and each slit is formed at a symmetrical position across the axis.
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