JP2002190658A - Circuit forming method on printed-wiring board - Google Patents

Circuit forming method on printed-wiring board

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JP2002190658A
JP2002190658A JP2000387993A JP2000387993A JP2002190658A JP 2002190658 A JP2002190658 A JP 2002190658A JP 2000387993 A JP2000387993 A JP 2000387993A JP 2000387993 A JP2000387993 A JP 2000387993A JP 2002190658 A JP2002190658 A JP 2002190658A
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circuit pattern
circuit
layer
resin layer
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JP2000387993A
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Inventor
Tatsuo Suzuki
龍雄 鈴木
Kinya Ishiguro
欽也 石黒
Tadao Kimura
忠雄 木村
Haruhiro Suzuki
陽博 鈴木
Atsushi Fukuda
篤 福田
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for inexpensively forming a circuit on a printed- wiring board by reducing defect in a circuit pattern due to dirt, and by shortening processes in circuit formation and exposure time. SOLUTION: A resin layer 13A is provided on the copper surface of a copper- clad, a portion other than the circuit pattern of the resin layer is eliminated with a laser beam 14, copper at the portion other than the circuit pattern is exposed, a circuit pattern 13A' of the resin layer is formed, the circuit pattern of the resin layer is used as a etching resist, the copper at the portion other than the exposed circuit pattern is dissolved and removed by etching, and the circuit pattern on the resin layer is eliminated, thus forming the circuit on the copper-clad.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板の
回路形成に関するものであり、特に、回路パターンの欠
陥を減少させ、工程を短縮し、生産効率を向上させたプ
リント配線板の回路形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a circuit on a printed wiring board, and more particularly, to a method for forming a circuit on a printed wiring board with reduced defects in a circuit pattern, reduced steps, and improved production efficiency. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、プリント配線板の回路形成に
おいては、フォトエッチング法が多く用いられている。
フォトエッチング法は、回路となる銅表面上に耐エッチ
ング性に優れた感光性樹脂を設け、感光性樹脂への回路
パターンの露光及び現像によってレジストパターンを形
成し、このレジストパターンをエッチングレジストとし
て露出した部分の銅をエッチングにより除去し、レジス
トパターンを剥膜し、銅による回路を形成するといった
方法である。
2. Description of the Related Art Conventionally, a photo-etching method has been often used in forming a circuit on a printed wiring board.
In the photo etching method, a photosensitive resin with excellent etching resistance is provided on a copper surface to be a circuit, a resist pattern is formed by exposing and developing a circuit pattern on the photosensitive resin, and this resist pattern is exposed as an etching resist. This is a method of removing the copper in the exposed portion by etching, stripping the resist pattern, and forming a circuit using copper.

【0003】この際の感光性樹脂への回路パターンの露
光方法には、フォトマスクを介して感光性樹脂上に紫外
線を露光する転写法や、フォトマスクを介さずレーザ光
を用いて感光性樹脂上に回路パターンを描画する直接描
画法などが挙げられる。フォトマスクを用いた転写法
は、露光時間が短く、大量生産に適しているといわれる
方法であるが、露光の際の作業環境、基板、人、装置な
どからの塵埃によって回路パターンに欠陥が生じ易く、
また、露光によるカブリによって回路パターンの線巾に
変動が生じ易いものである。
In this case, a method of exposing a circuit pattern to the photosensitive resin includes a transfer method of exposing the photosensitive resin to ultraviolet rays through a photomask, and a method of exposing the photosensitive resin using a laser beam without using a photomask. A direct drawing method for drawing a circuit pattern thereon may be used. The transfer method using a photomask has a short exposure time and is said to be suitable for mass production.However, dust from the working environment during exposure, dust from the substrate, people, equipment, etc. causes defects in the circuit pattern. Easy,
Further, the line width of the circuit pattern tends to fluctuate due to fog due to exposure.

【0004】また、レーザ光を用いた直接描画法は、フ
ォトマスクを用いないので、品種の切り替え時間が短
く、小ロット生産、短納期品に適しているといわれる方
法であるが、上記露光の際の塵埃によって回路パターン
に欠陥が生じ易い点は同様である。
Further, the direct writing method using a laser beam is said to be suitable for small lot production and short delivery time because it does not use a photomask, so that the type switching time is short. The same is true in that the dust easily causes defects in the circuit pattern.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点に
鑑みなされたものであり、プリント配線板の回路形成に
おいて、露光の際に発生する塵埃にる回路パターンの欠
陥を低減させ、回路パターンの線巾の変動をなくし、更
には回路形成の工程を短縮し、露光時間を短縮し、廉価
に回路を形成することを可能とするプリント配線板の回
路形成方法を提供することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above problems, and has been made in consideration of the above problems, and has been made to reduce the defects of circuit patterns due to dust generated during exposure in forming a circuit on a printed wiring board. It is an object of the present invention to provide a method for forming a circuit of a printed wiring board which can eliminate the fluctuation of the line width of the circuit, further shorten the circuit forming process, shorten the exposure time, and form the circuit at low cost. .

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、プリント配線
板の回路形成において、 1)銅張積層板の銅表面上に樹脂層を設け、 2)該樹脂層の回路パターン以外の部分をレーザ光を用
いて除去して、回路パターン以外の部分の銅を露出さ
せ、樹脂層の回路パターンを形成し、 3)該樹脂層の回路パターンをエッチングレジストとし
て、露出させた回路パターン以外の部分の銅をエッチン
グにより溶解除去し、 4)該樹脂層の回路パターンを除去して、銅張積層板に
回路を形成することを特徴とするプリント配線板の回路
形成方法である。
According to the present invention, there is provided a circuit for forming a printed wiring board, comprising: 1) providing a resin layer on a copper surface of a copper-clad laminate; and 2) applying a laser to a portion other than the circuit pattern of the resin layer. By removing using light, the copper in the portion other than the circuit pattern is exposed to form a circuit pattern of the resin layer. 3) The circuit pattern of the resin layer is used as an etching resist for the portion other than the exposed circuit pattern. 4) A circuit forming method for a printed wiring board, comprising: dissolving and removing copper by etching; and 4) removing a circuit pattern of the resin layer to form a circuit on the copper-clad laminate.

【0007】また、本発明は、プリント配線板の回路形
成において、 1)両面銅張積層板にスルーホール用の貫通孔を設け、
両面銅張積層板の両面及び貫通孔に無電解めっき及び電
解めっきにより第一銅層を形成し、 2)該第一銅層を形成した両面銅張積層板の両面及び貫
通孔に樹脂層を設け、樹脂層の回路パターン部分及び貫
通孔部分をレーザ光を用いて除去し、回路パターン部分
及び貫通孔部分の第一銅層を露出させ、 3)露出させた第一銅層の回路パターン部分及び貫通孔
部分に電解めっきにより第二銅層を形成し、 4)該第二銅層上に電解めっきによりエッチング液に耐
性のある金属層を形成し、 5)上記樹脂層を除去して第一銅層を露出させ、 6)上記金属層をエッチングレジストとして、露出させ
た第一銅層、及び両面銅張積層板の銅をエッチングによ
り溶解除去し、 7)上記金属層を除去して、 両面銅張積層板にスルーホールを有する回路を形成する
ことを特徴とするプリント配線板の回路形成方法であ
る。
Further, the present invention provides a method for forming a circuit of a printed wiring board, comprising: 1) providing a through hole for a through hole in a double-sided copper-clad laminate;
A first copper layer is formed on both sides and through holes of the double-sided copper-clad laminate by electroless plating and electrolytic plating. 2) A resin layer is formed on both sides and the through-holes of the double-sided copper-clad laminate on which the first copper layer is formed. Providing, removing the circuit pattern portion and the through-hole portion of the resin layer by using a laser beam, exposing the first copper layer of the circuit pattern portion and the through-hole portion; 3) the exposed circuit pattern portion of the first copper layer And forming a second copper layer on the through-hole portion by electrolytic plating; 4) forming a metal layer resistant to an etchant on the second copper layer by electrolytic plating; and 5) removing the resin layer to form a second copper layer. 6) dissolving and removing the exposed first copper layer and copper of the double-sided copper-clad laminate by etching using the metal layer as an etching resist; and 7) removing the metal layer. Forming circuits with through holes in double-sided copper-clad laminates A method for forming a circuit of a printed wiring board.

【0008】また、本発明は、上記発明によるプリント
配線板の回路形成方法において、前記レーザ光として、
20μm〜100μmのビーム直径を有する複数のレー
ザ光を使い分けて用いることを特徴とするプリント配線
板の回路形成方法である。
The present invention also provides a method for forming a circuit on a printed wiring board according to the present invention, wherein the laser beam is
A circuit forming method for a printed wiring board, wherein a plurality of laser beams having a beam diameter of 20 μm to 100 μm are selectively used.

【0009】また、本発明は、上記発明によるプリント
配線板の回路形成方法において、前記レーザ光として、
波長1321nm〜193nmのレーザ光を用いること
を特徴とするプリント配線板の回路形成方法である。
The present invention also provides a method for forming a circuit on a printed wiring board according to the present invention, wherein the laser light is
A circuit forming method for a printed wiring board, wherein laser light having a wavelength of 1321 nm to 193 nm is used.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明を実施の形態に基づいて以
下に詳細に説明する。図1(イ)〜(ヘ)は、本発明に
よるプリント配線板の回路形成方法の一実施例を示す部
分断面図である。図1(イ)に示すように、基材とし
て、例えば、ガラスエポキシ(11)の表裏に銅箔(1
2A)、(12B)を張り合わせた両面銅張ガラスエポ
キシ基板(10)を用い、この両面銅張ガラスエポキシ
基板(10)の表裏の銅箔(12A)、(12B)上に
図1(ロ)に示すように、樹脂層(13A)、(13
B)を設ける。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below based on embodiments. 1A to 1F are partial cross-sectional views showing one embodiment of a method for forming a circuit on a printed wiring board according to the present invention. As shown in FIG. 1A, as a base material, for example, a copper foil (1
2A) and (12B) are bonded to each other using a double-sided copper-clad glass epoxy board (10). The copper foils (12A) and (12B) on the front and back sides of the double-sided copper-clad glass epoxy board (10) are shown in FIG. As shown in the figure, the resin layers (13A), (13
B) is provided.

【0011】樹脂層(13A)、(13B)の形成は、
液状の樹脂を塗布して形成する方法、或いは、シート状
の樹脂を貼着する方法が適用される。樹脂層の材料とし
ては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコ
ール樹脂などが用いられる。尚、樹脂層(13A)、
(13B)を形成する前に、樹脂の密着を向上させるた
めに、銅箔表面に適度の粗度を与える機械研磨及び薬液
による化学的洗浄などの前処理を行ってもよい。
The formation of the resin layers (13A) and (13B)
A method of applying and forming a liquid resin, or a method of attaching a sheet-like resin is applied. As a material of the resin layer, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyvinyl alcohol resin, or the like is used. In addition, the resin layer (13A),
Before forming (13B), in order to improve the adhesion of the resin, pretreatment such as mechanical polishing for giving a proper roughness to the copper foil surface and chemical cleaning with a chemical solution may be performed.

【0012】次に、フォトマスクを介さずレーザ光を用
いて、樹脂層の回路パターンを形成する。図1(ハ)に
示すように、両面銅張ガラスエポキシ基板(10)の表
面側の樹脂層(13A)の回路パターン以外の部分をレ
ーザ光(14)を用いて描画により除去して、樹脂層の
回路パターン(13A’)を形成する。この際、回路パ
ターン以外の部分の銅箔(12A)は露出される。
Next, a circuit pattern of the resin layer is formed using laser light without using a photomask. As shown in FIG. 1C, a portion other than the circuit pattern of the resin layer (13A) on the surface of the double-sided copper-clad glass epoxy substrate (10) is removed by drawing using a laser beam (14), and the resin is removed. A layer circuit pattern (13A ') is formed. At this time, the copper foil (12A) other than the circuit pattern is exposed.

【0013】本発明においては、上記のように、樹脂層
(13A)の回路パターン以外の部分をレーザ光(1
4)を用いて描画により除去するので、従来法における
ような、露光の際の作業環境、基板、人、装置などから
の塵埃、少なくとも有機系物質の塵埃は描画の際のレー
ザ光(14)によって除去されてしまい、回路パターン
に生じる欠陥は低減される。
In the present invention, as described above, the portion other than the circuit pattern of the resin layer (13A) is irradiated with the laser beam (1A).
Since dust is removed by drawing using the method 4), dust from the working environment during exposure, substrates, people, devices, etc., and at least dust of organic substances, as in the conventional method, is removed by laser light (14) during drawing. , And defects caused in the circuit pattern are reduced.

【0014】レーザとしては、YAG、YLF、UV、
エキシマなどが用いられる。レーザ光の波長は、132
1nm〜193nmの波長のものが好ましく、本発明に
おいては、波長1321nm〜193nmのレーザ光を
用いることを特徴とするものである。波長1321nm
はYLFレーザにおける波長であり、波長1321nm
以上のレーザ光、例えば、CO2 レーザを用いて樹脂
層の除去を行うと熱加工のような様相を呈し、下層の銅
箔上に樹脂の残渣が残ることがあり好ましくない。
As the laser, YAG, YLF, UV,
Excimer or the like is used. The wavelength of the laser light is 132
The wavelength is preferably 1 nm to 193 nm, and the present invention is characterized in that laser light having a wavelength of 1321 nm to 193 nm is used. 1321 nm wavelength
Is the wavelength in the YLF laser, and the wavelength is 1321 nm
When the resin layer is removed by using the above laser light, for example, a CO2 laser, the appearance of a thermal processing is exhibited, and a resin residue may remain on the lower copper foil, which is not preferable.

【0015】また、樹脂層(13A)の回路パターン以
外の部分をレーザ光(14)を用いて描画により除去す
る際には、回路パターン以外の部分の銅箔(12A)が
露出され、更には銅箔(12A)の表層部分が除去され
る程度までレーザ光を照射することが好ましい。
When a portion other than the circuit pattern of the resin layer (13A) is removed by drawing using a laser beam (14), the copper foil (12A) of the portion other than the circuit pattern is exposed, and It is preferable to irradiate the laser light to such an extent that the surface portion of the copper foil (12A) is removed.

【0016】また、本発明においては、樹脂層の回路パ
ターン以外の部分を除去する際に、レーザ光として、2
0μm〜100μmのビーム直径を有する複数のレーザ
光を使い分けて用いることを特徴とするものである。樹
脂層(13A)の回路パターン以外の部分をレーザ光
(14)を用いて描画により除去する場合、回路パター
ン以外の部分の内の、回路パターン周縁部の描画除去に
は、例えば、20μm程度のビーム直径のレーザ光を用
い、回路パターン周縁部に発生するギザツキを減少さ
せ、周縁部を滑らかなものとし、また、回路パターン以
外の部分の内の、回路パターン周縁部以外の部分の描画
除去には、例えば、100μm程度のビーム直径のレー
ザ光を用い、その部分を描画除去する効率を向上させて
行う。尚、複数のレーザ光のビーム直径は、用いる樹脂
の種類、樹脂層の厚み、回路パターンの形状などによっ
て、適宜設定しアパーチャーを選択することにより切り
換える。
Further, in the present invention, when removing a portion other than the circuit pattern of the resin layer, a laser beam is used.
A plurality of laser beams having a beam diameter of 0 μm to 100 μm are selectively used. In the case where a portion other than the circuit pattern of the resin layer (13A) is removed by drawing using the laser beam (14), the drawing removal of the peripheral portion of the circuit pattern in the portion other than the circuit pattern is performed by, for example, about 20 μm. Using laser light with a beam diameter to reduce jaggedness generated at the periphery of the circuit pattern, make the periphery smoother, and for drawing and removing portions other than the circuit pattern periphery, other than the circuit pattern. Is performed by using, for example, a laser beam having a beam diameter of about 100 μm and improving the efficiency of drawing and removing the portion. The beam diameters of the plurality of laser beams are appropriately set according to the type of resin used, the thickness of the resin layer, the shape of the circuit pattern, and the like, and are switched by selecting an aperture.

【0017】また、本発明においては、上記のように、
レーザ光を用いて回路パターン以外の部分を描画除去
し、樹脂層の回路パターンを形成するので、樹脂層の材
料としては感光性樹脂である必要はない。感光性樹脂で
あってもよいが価格面からは非感光性樹脂が好ましい。
尚、レーザ光を用いて樹脂層の回路パターンを形成する
前に、樹脂層を更に硬化させるため加熱、露光などの硬
膜処理を行ってもよい。
In the present invention, as described above,
Since a portion other than the circuit pattern is drawn and removed by using a laser beam to form a circuit pattern of the resin layer, the material of the resin layer does not need to be a photosensitive resin. A photosensitive resin may be used, but a non-photosensitive resin is preferable in terms of cost.
Before forming the circuit pattern of the resin layer using laser light, a hardening treatment such as heating and exposure may be performed to further cure the resin layer.

【0018】図1(ニ)は、図1(ハ)に示す両面銅張
ガラスエポキシ基板(10)の表面側での樹脂層の回路
パターン(13A’)の形成と同様にして、裏面側への
樹脂層の回路パターン(13B’)が形成された状態を
示している。
FIG. 1D is similar to the formation of the circuit pattern (13A ') of the resin layer on the front surface of the double-sided copper-clad glass epoxy substrate 10 shown in FIG. The state in which the circuit pattern (13B ') of the resin layer is formed is shown.

【0019】続いて、図1(ホ)に示すように、樹脂層
の回路パターン(13A’)、(13B’)をエッチン
グレジストとしてエッチングを行い、銅箔(12A)、
(12B)の露出した回路パターン以外の部分を溶解除
去する。このエッチングにより、樹脂層の回路パターン
(13A’)、(13B’)の各々の下方には銅箔の回
路パターン(12A’)、(12B’)が形成される。
エッチング液としては、例えば、塩化第二鉄、塩化第二
銅などが用いられる。
Subsequently, as shown in FIG. 1E, etching is performed using the circuit patterns (13A ') and (13B') of the resin layer as an etching resist to form a copper foil (12A),
The part other than the exposed circuit pattern of (12B) is dissolved and removed. By this etching, copper foil circuit patterns (12A ') and (12B') are formed below each of the resin layer circuit patterns (13A ') and (13B').
As the etchant, for example, ferric chloride, cupric chloride, or the like is used.

【0020】続いて、樹脂層の回路パターン(13
A’)、(13B’)を除去し、図1(ヘ)に示すよう
に、ガラスエポキシ(11)の表裏に銅箔の回路パター
ン(12A’)、(12B’)が形成されたプリント配
線板を得る。樹脂層の回路パターンを除去する薬液とし
ては、用いた樹脂を溶解する溶剤、或いは膨潤させる溶
剤、アルカリ性水溶液、酸性水溶液などが用いられる。
Subsequently, the circuit pattern (13
A ') and (13B') are removed, and as shown in FIG. 1 (f), a printed wiring having copper foil circuit patterns (12A ') and (12B') formed on the front and back of a glass epoxy (11). Get the board. As a chemical solution for removing the circuit pattern of the resin layer, a solvent that dissolves the used resin or a solvent that swells, an alkaline aqueous solution, an acidic aqueous solution, or the like is used.

【0021】上記のように、本発明によるプリント配線
板の回路形成方法によれば、露光の際に塵埃によって発
生する回路パターンの欠陥を低減させ、回路パターンの
線巾の変動をなくし、更には従来法における現像工程を
不要なものとし、レーザ光による回路パターンの描画形
成の効率を向上させることができる。
As described above, according to the method for forming a circuit on a printed wiring board according to the present invention, defects in a circuit pattern caused by dust during exposure can be reduced, and fluctuations in the line width of the circuit pattern can be eliminated. The development step in the conventional method is unnecessary, and the efficiency of drawing and forming a circuit pattern by a laser beam can be improved.

【0022】図2(イ)〜(ル)は、請求項2に係わる
プリント配線板の回路形成方法の一例を示す部分断面図
である。図2(イ)に示すように、基材として、例え
ば、ガラスエポキシ(21)の表裏に銅箔(22A)、
(22B)を張り合わせた両面銅張ガラスエポキシ基板
(20)を用い、図2(ロ)に示すように、この両面銅
張ガラスエポキシ基板(20)にスルーホール用の貫通
孔(29)を設ける。尚、基材としては、予め多層化さ
れたものでもよい。
FIGS. 2A to 2L are partial sectional views showing an example of a circuit forming method for a printed wiring board according to the second aspect. As shown in FIG. 2A, as a substrate, for example, a copper foil (22A) on the front and back of a glass epoxy (21),
As shown in FIG. 2B, a through hole (29) for a through hole is provided in this double-sided copper-clad glass epoxy substrate (20) to which (22B) is attached. . The substrate may be a multilayered substrate in advance.

【0023】次に、両面銅張ガラスエポキシ基板(2
0)の両面に機械研磨を行い、貫通孔(29)を設ける
際に生じるバリを除去してから、両面銅張ガラスエポキ
シ基板(20)の両面及び貫通孔(29)に厚さ0.2
μm〜2.0μm程度の無電解めっき及び厚さ5.0μ
m〜35μm程度の電解めっきを行い、第一銅層(2
3)を形成する。(図2(ハ))。尚、基材として予め
多層化されたものを用いる際には、内層の貫通孔側面の
銅箔に樹脂があると銅箔の接続不良が生じ易くなるの
で、無電解めっきの前に過マンガン酸などを用いて貫通
孔内の洗浄を行い樹脂を取り去る。
Next, a double-sided copper-clad glass epoxy substrate (2
B) mechanical polishing is performed on both sides to remove burrs generated when the through-holes (29) are provided, and then both sides of the double-sided copper-clad glass epoxy substrate (20) and the through-holes (29) have a thickness of 0.2 mm.
Electroless plating of about μm to 2.0 μm and thickness of 5.0 μm
m to 35 μm electrolytic plating, and the first copper layer (2
Form 3). (FIG. 2 (c)). When using a multi-layered base material in advance, if resin is present on the copper foil on the side surface of the through hole in the inner layer, poor connection of the copper foil is likely to occur. The inside of the through-hole is washed using, for example, to remove the resin.

【0024】次に、図2(ニ)に示すように、第一銅層
を形成した両面銅張ガラスエポキシ基板の両面及び貫通
孔に樹脂層(25)を設け、図2(ホ)に示すように、
両面銅張ガラスエポキシ基板の表面側の、樹脂層の回路
パターン部分及び貫通孔部分をレーザ光(24)を用い
て描画により除去し、第一銅層の回路パターン部分及び
貫通孔部分の第一銅層を露出させる。同様にして、裏面
側の樹脂層の回路パターン部分及び貫通孔部分をレーザ
光を用いて描画により除去し、第一銅層の回路パターン
部分及び第一銅層の貫通孔部分を露出させる。(図2
(ヘ))。この際、樹脂層(25)を設ける方法、樹脂
層の材料など、及びレーザ光(24)を用いて樹脂層を
除去する方法、レーザの種類、レーザ光の波長、レーザ
光のビーム直径などは、前記一実施例の場合と同様のも
のである。
Next, as shown in FIG. 2D, a resin layer (25) is provided on both sides and through holes of the double-sided copper-clad glass epoxy substrate on which the first copper layer is formed, and as shown in FIG. like,
The circuit pattern portion and the through-hole portion of the resin layer on the surface side of the double-sided copper-clad glass epoxy substrate are removed by drawing using a laser beam (24), and the first circuit pattern portion and the through-hole portion of the first copper layer are removed. Exposing the copper layer. Similarly, the circuit pattern portion and the through-hole portion of the resin layer on the back side are removed by drawing using a laser beam to expose the circuit pattern portion of the first copper layer and the through-hole portion of the first copper layer. (Figure 2
(F)). At this time, the method of providing the resin layer (25), the material of the resin layer, the method of removing the resin layer using the laser beam (24), the type of laser, the wavelength of the laser beam, the beam diameter of the laser beam, and the like are as follows. This is the same as that of the embodiment.

【0025】次に、露出させた第一銅層の回路パターン
(23A)、(23B)及び貫通孔部分(23C)に、
電解めっきにより厚さ5.0μm〜30μm程度の第二
銅層(26)を形成する。図2(ト)に示すように、第
二銅層(26)は、第二銅層の回路パターン(26A)
として両面銅張ガラスエポキシ基板の表面側の第一銅層
の回路パターン(23A)上に、第二銅層の回路パター
ン(26B)として裏面側の第一銅層の回路パターン
(23B)上に、第二銅層の貫通孔部分(26C)とし
て第一銅層の貫通孔部分(23C)上に形成する。
Next, the exposed circuit patterns (23A) and (23B) of the first copper layer and the through-hole portion (23C) are formed as follows:
A second copper layer (26) having a thickness of about 5.0 μm to 30 μm is formed by electrolytic plating. As shown in FIG. 2 (g), the second copper layer (26) is a circuit pattern (26A) of the second copper layer.
On the circuit pattern (23A) of the first copper layer on the front side of the double-sided copper-clad glass epoxy board, and on the circuit pattern (23B) of the first copper layer on the back side as the circuit pattern (26B) of the second copper layer. Is formed on the through-hole portion (23C) of the first copper layer as a through-hole portion (26C) of the second copper layer.

【0026】次に、第二銅層(26)上に電解めっきに
よりエッチング液に耐性のある金属層をエッチングレジ
ストとして形成する。金属層としては、金、半田合金、
ニッケル錫などが挙げられるが、実用性のある半田合金
が多く用いられ、厚さは5.0μm〜20μm程度のも
のである。図2(チ)に示すように、半田合金層(2
7)は、両面銅張ガラスエポキシ基板の表面側の第二銅
層の回路パターン(26A)上、裏面側の第二銅層の回
路パターン(26B)上、第二銅層の貫通孔部分(26
C)上に形成する。
Next, a metal layer resistant to an etching solution is formed as an etching resist on the second copper layer (26) by electrolytic plating. Gold, solder alloy,
Nickel tin or the like can be used, but practical solder alloys are often used, and the thickness is about 5.0 μm to 20 μm. As shown in FIG. 2 (h), the solder alloy layer (2
7) are on the circuit pattern (26A) of the second copper layer on the front side of the double-sided copper-clad glass epoxy board, on the circuit pattern (26B) of the second copper layer on the back side, and through-hole portions of the second copper layer ( 26
C) on top.

【0027】次に、図2(リ)に示すように、樹脂層
(25)を除去し、第一銅層(23)を露出させる。こ
れにより両面銅張ガラスエポキシ基板の表面側の第一銅
層(23)上に第二銅層の回路パターン(26A)及び
半田合金層(27)を、裏面側の第一銅層(23)上に
第二銅層の回路パターン(26B)及び半田合金層(2
7)を、貫通孔部分の第一銅層(23)上に第二銅層の
貫通孔部分(26C)及び半田合金層(27)が形成さ
れたものとなる。回路パターン以外の部分である樹脂層
を除去する薬液としては、用いた樹脂を溶解する溶剤、
或いは膨潤させる溶剤などが用いられる。
Next, as shown in FIG. 2I, the resin layer (25) is removed, exposing the first copper layer (23). Thus, the circuit pattern (26A) of the second copper layer and the solder alloy layer (27) are placed on the first copper layer (23) on the front side of the double-sided copper-clad glass epoxy board, and the first copper layer (23) on the back side. The circuit pattern (26B) of the second copper layer and the solder alloy layer (2)
7) is obtained by forming the through-hole portion (26C) of the second copper layer and the solder alloy layer (27) on the first copper layer (23) of the through-hole portion. As a chemical solution for removing the resin layer which is a portion other than the circuit pattern, a solvent for dissolving the used resin,
Alternatively, a swelling solvent or the like is used.

【0028】次に、図2(ヌ)に示すように、半田合金
層(27)をエッチングレジストとしてエッチングを行
い、第一銅層(23)の回路パターン以外の部分及び銅
箔(22A)、(22B)の回路パターン以外の部分を
溶解除去する。このエッチングにより、半田合金層(2
7の下方には、既に回路パターンとして形成されている
第二銅層の回路パターン(26A)、(26B)に加
え、各々第一銅層の回路パターン(23A)、(23
B)、及び 銅箔の回路パターン(22A’)、(22
B’)が形成される。また、半田合金層の貫通孔部分の
下方には、既に形成されている第二銅層の貫通孔部分
(26C)に加え、第一銅層の貫通孔部分(23C)が
形成される。尚、エッチング液としては、例えば、塩化
第二鉄、塩化第二銅などが用いられる。
Next, as shown in FIG. 2 (N), etching is performed using the solder alloy layer (27) as an etching resist, and a portion of the first copper layer (23) other than the circuit pattern and the copper foil (22A), The part other than the circuit pattern of (22B) is dissolved and removed. By this etching, the solder alloy layer (2
7, the circuit patterns (23A), (23) of the first copper layer, respectively, in addition to the circuit patterns (26A), (26B) of the second copper layer already formed as circuit patterns.
B), and copper foil circuit patterns (22A '), (22
B ′) is formed. Further, below the through-hole portion of the solder alloy layer, a through-hole portion (23C) of the first copper layer is formed in addition to the already formed through-hole portion (26C) of the second copper layer. In addition, as an etching solution, for example, ferric chloride, cupric chloride, or the like is used.

【0029】次に、半田合金層(27)を除去し、図2
(ル)に示すように、ガラスエポキシ(11)の表面側
に銅箔の回路パターン(22A’)、第一銅層の回路パ
ターン(23A)、第二銅層の回路パターン(26A)
からなる回路パターンが形成され、裏面側に銅箔の回路
パターン(22B’)、第一銅層の回路パターン(23
B)、第二銅層の回路パターン(26B)からなる回路
パターンが形成され、貫通孔部分に第一銅層の貫通孔部
分(23C)、第二銅層の貫通孔部分(26C)からな
るスルーホールが形成されたプリント配線板を得る。
尚、エッチングレジストとなる半田合金層については除
去しなくても良い。
Next, the solder alloy layer (27) is removed, and FIG.
As shown in (l), a circuit pattern (22A ') of a copper foil, a circuit pattern (23A) of a first copper layer, and a circuit pattern (26A) of a second copper layer are formed on the surface side of the glass epoxy (11).
A circuit pattern (22B ′) of a copper foil and a circuit pattern (23) of a first copper layer are formed on the back side.
B), a circuit pattern composed of a circuit pattern (26B) of the second copper layer is formed, and a through hole portion is composed of a through hole portion (23C) of the first copper layer and a through hole portion (26C) of the second copper layer. A printed wiring board having a through hole is obtained.
Note that the solder alloy layer serving as an etching resist does not have to be removed.

【0030】上記のように、請求項2に係わるプリント
配線板の回路形成方法によれば、スルーホールを有する
プリント配線板においても、露光の際に塵埃によって発
生する回路パターンの欠陥を低減させ、回路パターンの
線巾の変動をなくし、更には従来法における現像工程を
不要なものとし、レーザ光による回路パターンの描画形
成の効率を向上させることができるものとなる。
As described above, according to the circuit forming method for a printed wiring board according to the second aspect, even in a printed wiring board having a through hole, defects in a circuit pattern caused by dust during exposure can be reduced. Variations in the line width of the circuit pattern can be eliminated, and the development step in the conventional method can be made unnecessary, so that the efficiency of drawing and forming the circuit pattern by laser light can be improved.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明は、銅張積層板に回路を形成する
際に、先ず銅張積層板の銅表面上に樹脂層を設け、樹脂
層の回路パターン以外の部分をレーザ光を用いて除去し
て、回路パターン以外の部分の銅を露出させ、樹脂層の
回路パターンを形成し、次に樹脂層の回路パターンをエ
ッチングレジストとして、露出させた回路パターン以外
の部分の銅をエッチングにより溶解除去し、樹脂層の回
路パターンを除去してプリント配線板の回路を形成する
ので、露光の際に発生する塵埃にる回路パターンの欠陥
を低減させ、回路パターンの線巾の変動をなくし、更に
は回路形成の工程を短縮し、露光時間を短縮し、廉価に
回路を形成することを可能とするプリント配線板の回路
形成方法となる。
According to the present invention, when a circuit is formed on a copper-clad laminate, a resin layer is first provided on the copper surface of the copper-clad laminate, and portions other than the circuit pattern of the resin layer are formed by using a laser beam. Removed to expose the copper in the parts other than the circuit pattern, form the circuit pattern of the resin layer, and then use the circuit pattern of the resin layer as an etching resist to dissolve the copper in the parts other than the exposed circuit pattern by etching. Since the circuit pattern of the printed wiring board is formed by removing the circuit pattern of the resin layer, the defects of the circuit pattern due to dust generated at the time of exposure are reduced, and the line width of the circuit pattern is eliminated, and furthermore, Is a method for forming a circuit of a printed wiring board, which can shorten a circuit forming process, shorten an exposure time, and form a circuit at low cost.

【0032】また、本発明は、銅張積層板に回路を形成
する際に、先ず両面銅張積層板にスルーホール用の貫通
孔を設け、両面銅張積層板の両面及び貫通孔に第一銅層
を形成し、樹脂層を設け、樹脂層の回路パターン部分及
び貫通孔部分をレーザ光を用いて除去し、次に露出させ
た第一銅層の回路パターン部分及び貫通孔部分に第二銅
層を形成し、エッチング液に耐性のある金属層を形成
し、樹脂層を除去して第一銅層を露出させ、続いて金属
層をエッチングレジストとして、露出させた第一銅層及
び両面銅張積層板の銅をエッチングにより溶解除去し、
金属層を除去して、プリント配線板の回路を形成するの
で、スルーホールを有するプリント配線板の回路形成に
て、露光の際に発生する塵埃にる回路パターンの欠陥を
低減させ、回路パターンの線巾の変動をなくし、更には
回路形成の工程を短縮し、露光時間を短縮し、廉価に回
路を形成することを可能とするプリント配線板の回路形
成方法となる。
Further, according to the present invention, when a circuit is formed on a copper-clad laminate, a through hole for a through-hole is first provided in the double-sided copper-clad laminate, and the first and second through-holes are formed on both sides and the through-hole of the double-sided copper-clad laminate. A copper layer is formed, a resin layer is provided, a circuit pattern portion and a through-hole portion of the resin layer are removed using a laser beam, and then a second circuit pattern portion and a through-hole portion of the exposed first copper layer are formed. Forming a copper layer, forming a metal layer resistant to an etchant, removing the resin layer to expose the first copper layer, and subsequently using the metal layer as an etching resist to expose the first copper layer and both surfaces Dissolve and remove the copper in the copper clad laminate by etching,
Since the circuit of the printed wiring board is formed by removing the metal layer, in forming the circuit of the printed wiring board having through holes, defects of the circuit pattern due to dust generated during exposure are reduced, and A circuit forming method for a printed wiring board is provided which eliminates variations in line width, shortens circuit forming steps, shortens exposure time, and enables circuit formation at low cost.

【0033】また、本発明は、上記プリント配線板の回
路形成方法において、レーザ光として、20μm〜10
0μmのビーム直径を有する複数のレーザ光を使い分け
て用いるので、回路パターン周縁部を滑らかなものと
し、また、描画除去する効率を向上させたものとなる。
Further, according to the present invention, in the method for forming a circuit of a printed wiring board, the laser light may be 20 μm to 10 μm.
Since a plurality of laser beams having a beam diameter of 0 μm are selectively used, the peripheral portion of the circuit pattern is made smooth, and the efficiency of drawing removal is improved.

【0034】また、本発明は、上記プリント配線板の回
路形成方法において、レーザ光として、波長1321n
m〜193nmのレーザ光を用いるので、樹脂層の下層
の銅箔上にCO2 レーザによる熱加工によって生じる
樹脂の残渣が残ることがない。
Further, according to the present invention, there is provided the circuit forming method for a printed wiring board, wherein the laser beam has a wavelength of 1321n.
Since a laser beam having a wavelength of m to 193 nm is used, no resin residue is left on the copper foil under the resin layer due to the thermal processing by the CO2 laser.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(イ)〜(ヘ)は、本発明によるプリント配線
板の回路形成方法の一実施例を示す部分断面図である。
FIGS. 1A to 1F are partial sectional views showing one embodiment of a method for forming a circuit on a printed wiring board according to the present invention.

【図2】(イ)〜(ル)は、請求項2に係わるプリント
配線板の回路形成方法の一例を示す部分断面図である。
FIGS. 2A to 2L are partial cross-sectional views illustrating an example of a method for forming a circuit on a printed wiring board according to claim 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、20……両面銅張ガラスエポキシ基板 11、21……ガラスエポキシ 12A、12B、22A、22B……銅箔 12A’、12B’、22A’、22B’……銅箔の回
路パターン 13A、13B、25……樹脂層 13A’、13B’……樹脂層の回路パターン 14、24……レーザ光 22A’、22B’……銅箔の回路パターン 23……第一銅層 23A、23B……第一銅層の回路パターン 23C……第一銅層の貫通孔部分 26……第二銅層 26A、26B……第二銅層の回路パターン 26C……第二銅層の貫通孔部分 27……半田合金層 27A、27B……半田合金層の回路パターン 27C……半田合金層の貫通孔部分 29……スルーホール用の貫通孔
10, 20 double-sided copper-clad glass epoxy board 11, 21 glass epoxy 12A, 12B, 22A, 22B copper foil 12A ', 12B', 22A ', 22B' copper circuit pattern 13A, 13B , 25 ... resin layers 13A ', 13B' ... resin layer circuit patterns 14, 24 ... laser light 22A ', 22B' ... copper foil circuit patterns 23 ... first copper layers 23A, 23B ... Circuit pattern of one copper layer 23C: Through-hole portion of first copper layer 26: Second copper layer 26A, 26B: Circuit pattern of second copper layer 26C: Through-hole portion of second copper layer 27: Solder alloy layer 27A, 27B ... Circuit pattern of solder alloy layer 27C ... Through hole portion of solder alloy layer 29 ... Through hole for through hole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 陽博 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 福田 篤 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 Fターム(参考) 5E317 AA24 BB01 BB12 CC32 CC33 CC44 CC52 CD15 CD18 CD23 CD25 CD32 GG05 GG09 GG16 5E339 AB02 AD03 AE01 BC02 BD02 BD03 BD08 BD11 BE13 CD01 CD06 CE03 CE12 CE15 CE17 CF06 DD03 FF02 FF10  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor, Hirohiro Suzuki 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Inside Toppan Printing Co., Ltd. (72) Inventor Atsushi Fukuda 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo F-term in Toppan Printing Co., Ltd. (reference) 5E317 AA24 BB01 BB12 CC32 CC33 CC44 CC52 CD15 CD18 CD23 CD25 CD32 GG05 GG09 GG16 5E339 AB02 AD03 AE01 BC02 BD02 BD03 BD08 BD11 BE13 CD01 CD06 CE03 CE12 CE15 CE17 CF06 DD03 FF02 FF02FF

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プリント配線板の回路形成において、 1)銅張積層板の銅表面上に樹脂層を設け、 2)該樹脂層の回路パターン以外の部分をレーザ光を用
いて除去して、回路パターン以外の部分の銅を露出さ
せ、樹脂層の回路パターンを形成し、 3)該樹脂層の回路パターンをエッチングレジストとし
て、露出させた回路パターン以外の部分の銅をエッチン
グにより溶解除去し、 4)該樹脂層の回路パターンを除去して、 銅張積層板に回路を形成することを特徴とするプリント
配線板の回路形成方法。
In the formation of a circuit of a printed wiring board, 1) a resin layer is provided on a copper surface of a copper-clad laminate, and 2) a portion other than the circuit pattern of the resin layer is removed by using a laser beam. Exposing the copper in the portion other than the circuit pattern to form a circuit pattern of the resin layer; 3) using the circuit pattern of the resin layer as an etching resist, dissolving and removing the copper in the portion other than the exposed circuit pattern by etching; 4) A circuit forming method for a printed wiring board, wherein a circuit pattern is removed from the resin layer to form a circuit on the copper-clad laminate.
【請求項2】プリント配線板の回路形成において、 1)両面銅張積層板にスルーホール用の貫通孔を設け、
両面銅張積層板の両面及び貫通孔に無電解めっき及び電
解めっきにより第一銅層を形成し、 2)該第一銅層を形成した両面銅張積層板の両面及び貫
通孔に樹脂層を設け、樹脂層の回路パターン部分及び貫
通孔部分をレーザ光を用いて除去し、回路パターン部分
及び貫通孔部分の第一銅層を露出させ、 3)露出させた第一銅層の回路パターン部分及び貫通孔
部分に電解めっきにより第二銅層を形成し、 4)該第二銅層上に電解めっきによりエッチング液に耐
性のある金属層を形成し、 5)上記樹脂層を除去して第一銅層を露出させ、 6)上記金属層をエッチングレジストとして、露出させ
た第一銅層、及び両面銅張積層板の銅をエッチングによ
り溶解除去し、 7)上記金属層を除去して、両面銅張積層板にスルーホ
ールを有する回路を形成することを特徴とするプリント
配線板の回路形成方法。
2. In forming a circuit of a printed wiring board, 1) providing a through hole for a through hole in a double-sided copper-clad laminate;
A first copper layer is formed on both sides and through holes of the double-sided copper-clad laminate by electroless plating and electrolytic plating. 2) A resin layer is formed on both sides and the through-holes of the double-sided copper-clad laminate on which the first copper layer is formed. Providing, removing the circuit pattern portion and the through hole portion of the resin layer by using a laser beam, exposing the first copper layer of the circuit pattern portion and the through hole portion; 3) the exposed circuit pattern portion of the first copper layer And a second copper layer is formed on the through-hole portion by electrolytic plating. 4) A metal layer resistant to an etching solution is formed on the second copper layer by electrolytic plating. 5) The resin layer is removed. 6) dissolving and removing the exposed first copper layer and copper of the double-sided copper-clad laminate by etching using the metal layer as an etching resist; and 7) removing the metal layer. Forming circuits with through holes in double-sided copper-clad laminates Circuit formation method of the printed wiring board, wherein Rukoto.
【請求項3】前記レーザ光として、20μm〜100μ
mのビーム直径を有する複数のレーザ光を使い分けて用
いることを特徴とする請求項1、又は請求項2記載のプ
リント配線板の回路形成方法。
3. The laser beam as claimed in claim 1, wherein the laser beam has a thickness of 20 μm to 100 μm.
3. The method for forming a circuit on a printed wiring board according to claim 1, wherein a plurality of laser beams having a beam diameter of m are selectively used.
【請求項4】前記レーザ光として、波長1321nm〜
193nmのレーザ光を用いることを特徴とする請求項
1、請求項2、又は請求項3記載のプリント配線板の回
路形成方法。
4. The method according to claim 1, wherein the laser beam has a wavelength of 1321 nm or more.
4. The method according to claim 1, wherein a laser beam of 193 nm is used.
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