JP2015206595A - 赤外線検出素子、及び赤外線検出装置 - Google Patents

赤外線検出素子、及び赤外線検出装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2015206595A
JP2015206595A JP2014085170A JP2014085170A JP2015206595A JP 2015206595 A JP2015206595 A JP 2015206595A JP 2014085170 A JP2014085170 A JP 2014085170A JP 2014085170 A JP2014085170 A JP 2014085170A JP 2015206595 A JP2015206595 A JP 2015206595A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
infrared
layer
pyroelectric
pyroelectric layer
light receiving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014085170A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6413070B2 (ja
Inventor
敬 久保
Takashi Kubo
敬 久保
俊成 野田
Toshinari Noda
俊成 野田
良介 飯井
Ryosuke Meshii
良介 飯井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd filed Critical Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority to JP2014085170A priority Critical patent/JP6413070B2/ja
Publication of JP2015206595A publication Critical patent/JP2015206595A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6413070B2 publication Critical patent/JP6413070B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)

Abstract

【課題】支持部の機械的強度を改善し、赤外線受光部の焦電体層のクラックを生じ難くし、信頼性を向上した赤外線検出素子を提供することを目的とする。
【解決手段】赤外線受光部15は、焦電体層23が下部電極層22と上部電極層24に挟まれ、支持部20A、20Bにより基板12の空洞13に浮かせた構造である。赤外線受光部15の焦電体層23が支持部20A、20Bに延在して設けられ、支持部20A、20Bの焦電体層23が赤外線受光部15から離れる方向に延在するに従い、焦電体層23の膜厚が徐々に小さくなる傾斜部30が設けられる。支持部20A、20Bの焦電体層23は、傾斜部30の上端に連結する上部平坦部31、傾斜部30の下端に連結する下部平坦部32を設けてもよい。
【選択図】図1

Description

本発明は、赤外線の受光により赤外線検出素子が発熱し、この温度の上昇により変化する電気的性質を検知する、赤外線検出素子、及びその赤外線検出素子を用いた赤外線検出装置に関するものである。
赤外線検出素子には、温度変化によって表面に電荷を生じる焦電体材料を利用した焦電型、温度変化によって抵抗値が変化する抵抗ボロメータ材料を利用した抵抗ボロメータ型、温度差で熱起電力を生じるゼーベック効果を利用した熱電対(サーモパイル)型等の熱型赤外線検出素子がある。
図8、図9は、焦電体材料を用いた従来の熱型の赤外線検出素子であり、対向して設けられた支持部50A、50Bを介して、赤外線受光部60が基板65に設けられた空洞66に浮いて設けられている。
赤外線受光部60は、上面視においてダイアフラム基部61が矩形状に形成され、このダイアフラム基部61の上に、下部電極層62、赤外線を受光する焦電体層63、上部電極層64が順次積層されている。
2つの支持部50A、50Bには、支持部基部51の上に配線52A、52Bが夫々形成され、一方の支持部の配線52Aは赤外線受光部60の下部電極層62に接続され、他方の支持部の配線52Bは赤外線受光部60の上部電極層64に接続されている。夫々の支持部50A、50Bの上層には絶縁膜53が形成されている。
このような赤外線受光部60を基板65から離間した構造は、入射した赤外線を吸収して昇温した赤外線受光部60の熱を基板65に拡散し難くした断熱構造であり、これにより赤外線検出感度を高めることができる。
特開2000−230859号公報
このような従来の赤外線検出素子は、赤外線受光部と支持部とが接続する連結部近傍に応力が加わり、連結部近傍が変形し易くなっている。この変形により、使用環境において、連結部が破損したり、支持部に接する赤外線受光部の焦電体層にクラックが生じて感度が低下し、信頼性が低下するという課題があった。
本発明は、信頼性に優れた赤外線検出素子を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために本発明は、空洞を有する基板と、下部電極層と上部電極層とに挟まれた焦電体層を有する赤外線受光部と、前記空洞において前記赤外線受光部を支持する支持部と、を備え、前記赤外線受光部の焦電体層が前記支持部に延在し、前記焦電体層が延在するに従い前記焦電体層の膜厚が小さくなる傾斜部が前記支持部の一部に設けられた、赤外線検出素子である。
以上のように本発明によれば、焦電体層の傾斜部を設けることにより、連結部近傍における支持部の機械的強度を改善し連結部近傍の変形を抑制でき、また赤外線受光部の集電体層における支持部近傍の側面が補強される。そのため赤外線受光部の焦電体層にクラックが生じ難くなり、信頼性を向上することができる。
実施の形態における赤外線検出素子のA−A断面模式図 実施の形態における赤外線検出素子の上面模式図 実施の形態における赤外線受光部のB−B断面模式図 実施の形態における一方の支持部の横断面模式図 実施の形態における他方の支持部の横断面模式図 実施の形態における上部平坦部を有する傾斜部を示す断面模式図 実施の形態における下部平坦部を有する傾斜部を示す断面模式図 実施の形態における赤外線検出装置の構成を示すブロック図 従来の赤外線検出素子のC−C断面模式図 従来の赤外線検出素子の上面模式図
(実施の形態)
図1は、実施の形態における赤外線検出素子の断面模式図、図2は同上面模式図である。
図1、図2に示すように、実施の形態の赤外線検出素子は、凹部状に形成された空洞13を有する基板12と、入射した赤外線のエネルギーを電気的信号に変換する赤外線受光部15と、基板12の枠部14に接続され、赤外線受光部15を空洞13において空中に保持する支持部20A、20Bとを備えている。
基板12の空洞13は、基板12の一主面における中央に設けられ、枠部14は空洞13の開口部の外周に設けられている。
基板12の構成材料は、例えば、Si等の半導体材料、ステンレス、Ti、Al、Mg等の金属材料、MgO等の金属酸化物やCaF2等の単結晶材料、ホウケイ酸ガラス等のガラス材料、TiO2、ZrO2等のセラミック系材料を用いることができる。基板12の空洞13は、ウェットエッチング法などを用いて基板12をエッチングすることにより形成することができる。
また、絶縁体層21が基板12の上に形成され、絶縁体層21は、基板12の主面と略平行に延在され、支持部20A、20Bと赤外線受光部15の基部を構成している。
絶縁体層21は、SiO2等のシリコン酸化物を主成分とする絶縁性材料を用いている。また、絶縁体層21として、SiN、シリコン窒化膜(SiON)等のシリコン窒化物、HfO2などを用いてもよい。
図3に示すように、赤外線受光部15は、下部電極層22、焦電体層23、上部電極層24が順次積層された検出部を有し、検出部は赤外線受光部15の全体に設けられた絶縁体層21の少なくとも一部の上に設けられている。
赤外線検出素子は、焦電効果を用いて赤外線を検知する。赤外線受光部15の焦電体層23には焦電体が用いられ、焦電体層23は、赤外線により焦電体の温度が上昇すると焦電体表面の分極が変化し、その結果、下部電極層22と上部電極層24に電荷が生じる。この電荷を電気信号として外部に取り出すことにより、赤外線を検知できる。
この焦電型の赤外線検出素子は、熱型赤外線検出素子の中では信号出力が高く、雑音出力が低いためS/N比が高く、低コストで人体検知が可能であるため、自動照明や機器の消費電力削減のための自動スイッチとして広く使用されている。
焦電体層23の焦電体は、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)を主成分とするペロブスカイト型酸化物強誘電体を用いることができ、例えば、PZTを主成分としてLa、Ca、Sr、Nb、Mg、Mn、Zn、Al等の元素をPZTの元素の一部と置換したものが挙げられる。PZTは正方晶系の(001)面に配向したものが好ましく、赤外線検出感度を高めることができる。
他の焦電体の構成材料として、PMN(化学式Pb(Mg1/3Nb2/3)O3) やPZN(化学式Pb(Zn1/3Nb2/3)O3)を用いることができる。
また、下部電極層22の構成材料は、ニッケル酸ランタン(LaNiO3)、コバルト酸ランタンストロンチウム((La,Sr)CoO3)、マンガン酸ランタンストロンチウム(La,Sr)MnO3)などを主成分とするペロブスカイト型酸化物を用いることができ、これらの酸化物は金属的電気伝導性を有している。またはAu、Ti、Al、Pt、Cr等の金属材料、これらのうち少なくとも1種を含む合金を用いることができる。
上部電極層24の構成材料は、Au、Ti、Al、Pt、Cr等の金属材料、これらのうち少なくとも1種を含む合金を用いることができる。これらの金属の単層で構成されてもよく、複数の層が積層した積層体で構成されてもよい。上部電極層24は、例えばTiとAuとが順次積層されたものとすることができる。上部電極層24の膜厚は、5〜500nmの範囲が用いられる。
図2に示すように、赤外線受光部15は、空洞13の開口部に略矩形状に設けられている。赤外線受光部15は、この矩形形状に限らず、丸形、多角形等に設けられてもよい。支持部20A、20Bは、赤外線受光部15の外周から突出して細長く直線状に設けられている。また支持部20A、20Bは、この直線形状に限らず、L字型等に折り曲げられて設けられてもよい。
赤外線受光部15は、少なくとも2つの支持部20A、20Bによって、空洞13の表面から離間され、基板12の枠部14との接続面積が小さくなっているため、赤外線受光部15の熱が基板12に拡散することを抑制でき、基板12に対して熱絶縁性が高い構造となっている。
2つの支持部20A、20Bは、赤外線受光部15の中心に対し互いに対向して配設されている。
この2つの支持部20A、20Bの他に、他の支持部を設けてもよい。他の支持部は、赤外線受光部15の中心に対し互いに対向して配設されている。他の支持部には引出配線を設けないことが好ましく、赤外線受光部15の熱絶縁性を高めることができる。
さらに、赤外線受光部15の上層に赤外線吸収層25が設けられることが好ましく、赤外線検出感度を向上できる。図3に示すように、赤外線吸収層25は赤外線受光部15の上部全体を被覆している。
赤外線吸収層25の構成材料は、SiO2や、白金黒膜、金黒膜と呼ばれるような金属黒膜等を用いることができる。
図1に示すように、仮想線1Cと仮想線2C間が赤外線受光部15であり、仮想線1Cと仮想線1D間が一方の支持部20Aであり、仮想線2Cと仮想線2D間が他方の支持部20Bである。
一方の支持部20Aには、下部電極層22と接続される導電性の下部引出配線27が設けられ、他方の支持部20Bには、上部電極層24と接続される導電性の上部引出配線28が設けられている。
また、一方の支持部20Aの下部引出配線27と他方の支持部20Bの上部引出配線28は、夫々下部電極層22、上部電極層24と同じ構成材料を用いている。これにより製造工程を簡略化できる。
なお、下部引出配線27、上部引出配線28は、下部電極層22、上部電極層24と異なる金属等の導電性材料を用いてもよい。
下部引出配線27、上部引出配線28は、赤外線受光部15の電気信号を赤外線検出素子の外部に取り出すための外部引出部42に接続されている。外部引出部42は、例えば、電気信号を処理する信号処理回路に接続される。
赤外線受光部15の焦電体層23は、上面視において赤外線受光部15と同形状に形成され、赤外線受光部15の外周縁に沿って設けられている。
さらに、赤外線受光部15と支持部20A、20Bとが接続される連結部40に隣接する赤外線受光部15の焦電体層23が、支持部20A、20Bに延在して支持部20A、20Bの少なくとも一部に設けられている。
支持部20A、20Bに延在した焦電体層23は、連結部40近傍において傾斜部30を形成している。傾斜部30は、集電体層23が赤外線受光部15から離れる方向に延在するに従い、焦電体層23の膜厚が徐々に小さくなっている。焦電体層23の傾斜部30を設けることにより、赤外線受光部15の焦電体層23にクラックが生じ難くなり、赤外線検出素子の信頼性を向上することができる。
傾斜部30において、一方の支持部20Aでは、絶縁体層21、下部引出配線27、傾斜部30の焦電体層23が順次積層され、他方の支持部20Bでは、絶縁体層21、傾斜部30の焦電体層23、上部引出配線28が順次積層され、さらに一方と他方の支持部20A、20Bの上層には赤外線吸収層25が積層されている。
図1に示すように、傾斜部30の上端から下端に向かって焦電体層23の膜厚が連続して小さくなっている。傾斜部30の上端は赤外線受光部15の焦電体層23に連結し赤外線受光部15の焦電体層23と同じ膜厚であり、傾斜部30の下端では焦電体層23がなくなり、傾斜部30の下端から基板12の枠部14間では焦電体層23が設けられていない。このように傾斜部30より先で焦電体層23が設けられていないため、赤外線受光部15の熱が支持部20A、20Bを介して拡散することを抑制でき、赤外線検出感度の低下を低減できる。
図4A、図4Bは、支持部20A、20Bの延在方向に垂直な傾斜部30の断面を示す。傾斜部30の焦電体層23は支持部20A、20Bの幅全体に渡って設けられている。一方の支持部20Aでは、下部引出配線27が絶縁体層21と焦電体層23に囲まれ、他方の支持部20Bでは、上部引出配線28が焦電体層23と赤外線吸収層25に囲まれ、これにより下部引出配線27、上部引出配線28が保護されている。
図5は、支持部20A、20Bの焦電体層23に傾斜部30の上端30Aに連結する上部平坦部31を設けた場合を示す。上部平坦部31は、略一定の膜厚に設けられ、赤外線受光部15の焦電体層23に連結し赤外線受光部15の焦電体層23と略同じ膜厚であり、傾斜部30の下端では膜厚が0となり、傾斜部30の下端から基板12の枠部間では焦電体層23を設けられていない。
上部平坦部31を設けることにより、赤外線受光部15と支持部20A、20Bとの連結部40近傍における支持部20A、20Bの機械的強度を改善でき連結部40近傍の変形を抑制でき、信頼性をさらに向上することができる。
図6は、支持部20A、20Bの焦電体層23に傾斜部30の下端30Bに連結する下部平坦部32を設けた場合を示す。下部平坦部32は、傾斜部30の下端30Bから基板12の枠部間に渡って設けられ、略一定の膜厚に設けられ、傾斜部30の下端30Bの略同じ膜厚である。一方、傾斜部30の上端は赤外線受光部15の焦電体層23と同じ膜厚に設けられる。
下部平坦部32を設けることにより、支持部20A、20B全体の機械的強度を改善でき、連結部40近傍に加わる応力を低減でき、信頼性をさらに向上させることができる。
また、支持部20A、20Bの焦電体層23に、傾斜部30に連結する上部平坦部31と下部平坦部32とを設けてもよい。
次に、本実施の形態の赤外線検出素子の製造方法について説明する。
まず、空洞を形成していない基板の上に、順に絶縁体層、下部電極層、焦電体層、上部電極層、赤外線吸収膜を形成した積層膜を準備する。
基板は、焦電体層より線熱膨張係数が大きいものを用いることが好ましく、焦電体層の成膜過程において熱応力による圧縮応力を成膜する膜に印加することができる。具体的には鉄やクロムを主成分とするSUS430等のステンレスを用いている。この圧縮応力により焦電体層は分極軸である(001)方向への選択的に配向し、高い焦電係数γが得られる。
次に、積層膜の製造方法は、基板の上に絶縁体層を形成するためにシリコン酸化物前駆体溶液を塗布し、シリコン酸化物前駆膜を形成する。そしてシリコン酸化物前駆膜を加熱により緻密化し、シリコン酸化物の絶縁体層を形成する。
続いて、絶縁体層の上に下部電極層と下部引出配線となる下部導電膜を形成する。下部導電膜は、ニッケル酸ランタン(以降「LNO」と記す)を主成分とする材料が好ましく、下部電極層のLNOの単位格子と焦電体層のPZTの単位格子との格子整合性をとることができ、焦電体層を配向制御することができる。
下部導電膜を形成するためにLNO前駆体溶液を塗布し、LNO前駆体膜を形成する。その後、LNO前駆体膜を急速加熱し結晶化させ、下部導電膜を形成する。なお、LNO系材料からなる下部導電膜は、スパッタリング法等の気相成長法や、水熱合成法等の種々の公知の成膜方法を用いても良い。
次に、フォトリソグラフィ法などを用いて下部導電膜上に下部電極層と下部引出配線に対応するマスクを形成し、ドライエッチング法やウェットエッチング法などを用いて下部導電層をパターニングした後、マスクを除去する。これにより、下部電極層と下部引出配線が形成される。
さらに、下部電極層と下部引出配線を含む基板の主面の上にPZT前駆体溶液を塗布し、PZT前駆体膜を形成する。そしてPZT前駆体膜を加熱し、PZT前駆体膜を結晶化させ、PZT膜を形成する。PZT膜をパターニングすることにより、焦電体層が形成される。さらに焦電体層をエッチングして傾斜部を形成する。
次に、焦電体層の上にイオンスパッター等のドライプロセスにより上部導電膜を形成する。上部導電膜をパターニングすることにより、上部電極層と上部引出配線が形成される。最後に、赤外線吸収膜がプラズマCVD法により最上層に形成される。このようにして積層膜を形成する。
続いて、積層膜を形成した後、開口部となる基板の一部を露出させた後、さらに絶縁体層の裏面が、基板表面から離間させるまでウェットエッチングを行う。このようにして赤外線検出素子を作製する。
次に、赤外線検出素子を用いた赤外線検出装置を示す。この赤外線装置は一例を示し、これに限定されない。
図7は、赤外線検出装置の構成を示すブロック図である。光学系ブロックは、赤外線の入射光を集光するレンズや赤外線を選択的に透過するフィルタ等の光学部材を有する。赤外線が光学系ブロックを介して赤外線センサに受光される。赤外線は、人体等の対象物に照射した赤外線ビームの反射光、対象物の移動等により遮蔽される赤外線ビーム、人から放出された赤外線等が利用できる。
赤外線センサは、単数の赤外線検出素子、2次元的にマトリックス状に配列された複数の赤外線検出素子、又は一列に配列された複数の赤外線検出素子を有する。複数の赤外線検出素子に対応して、光学系ブロックにレンズアレイを用いてもよい。
信号処理回路は、赤外線検出素子の出力信号を増幅する増幅回路、アナログデジタル変換回路等を有し、赤外線検出素子の出力信号を入力し、物体検知信号、物体の移動信号や動作信号、画像信号、温度信号等を出力する。
赤外線検出装置は、入射光がチョッパなどによって変調されている場合には、チョッパを制御する制御回路、同調増幅回路を用いることができる。物体検出を示すランプ、画像信号等を表示するモニター、温度信号等を記録するメモリ等の記録媒体等を有していてもよい。
以上のように、本発明を用いることで、赤外線受光部の焦電体のクラックの発生を低減し信頼性を向上できる赤外線検出素子を提供することが可能であることから、本発明の赤外線検出素子は、人感センサ、赤外線カメラ、サーモグラフィー、ナイトビジョン等の電子機器の用途に有用である。
12 基板
13 空洞
14 枠部
15 赤外線受光部
20A、20B 支持部
21 絶縁体層
22 下部電極層
23 焦電体層
24 上部電極層
25 赤外線吸収層
27 下部引出配線
28 上部引出配線
30 傾斜部
31 上部平坦部
32 下部平坦部
40 連結部

Claims (4)

  1. 空洞を有する基板と、
    下部電極層と上部電極層とに挟まれた焦電体層を有する赤外線受光部と、
    前記空洞において前記赤外線受光部を支持する支持部と、を備え、
    前記赤外線受光部の焦電体層が前記支持部に延在し、前記焦電体層が延在するに従い前記焦電体層の膜厚が小さくなる傾斜部が前記支持部の一部に設けられた、赤外線検出素子。
  2. 前記支持部の焦電体層は、前記傾斜部の上端に連結する上部平坦部を有する請求項1に記載の赤外線検出素子。
  3. 前記支持部の焦電体層は、前記傾斜部の下端に連結する下部平坦部を有する請求項1又は請求項2に記載の赤外線検出素子。
  4. 請求項1乃至請求項3の何れかに記載の前記赤外線検出素子を用いた赤外線検出装置。
JP2014085170A 2014-04-17 2014-04-17 赤外線検出素子、及び赤外線検出装置 Active JP6413070B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014085170A JP6413070B2 (ja) 2014-04-17 2014-04-17 赤外線検出素子、及び赤外線検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014085170A JP6413070B2 (ja) 2014-04-17 2014-04-17 赤外線検出素子、及び赤外線検出装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015206595A true JP2015206595A (ja) 2015-11-19
JP6413070B2 JP6413070B2 (ja) 2018-10-31

Family

ID=54603501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014085170A Active JP6413070B2 (ja) 2014-04-17 2014-04-17 赤外線検出素子、及び赤外線検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6413070B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018193824A1 (ja) * 2017-04-17 2018-10-25 パナソニックIpマネジメント株式会社 焦電センサ素子及びこれを用いた焦電センサ

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0755577A (ja) * 1993-08-23 1995-03-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 焦電型赤外線検出素子及びその製造方法
US20040256559A1 (en) * 2003-06-19 2004-12-23 Ryu Sang Ouk Infrared ray sensor using silicon oxide film as infrared ray absorption layer and method of fabricating the same
JP2011174762A (ja) * 2010-02-23 2011-09-08 Panasonic Electric Works Co Ltd 赤外線センサモジュール
WO2013190793A1 (ja) * 2012-06-18 2013-12-27 パナソニック株式会社 赤外線検出装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0755577A (ja) * 1993-08-23 1995-03-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 焦電型赤外線検出素子及びその製造方法
US20040256559A1 (en) * 2003-06-19 2004-12-23 Ryu Sang Ouk Infrared ray sensor using silicon oxide film as infrared ray absorption layer and method of fabricating the same
JP2011174762A (ja) * 2010-02-23 2011-09-08 Panasonic Electric Works Co Ltd 赤外線センサモジュール
WO2013190793A1 (ja) * 2012-06-18 2013-12-27 パナソニック株式会社 赤外線検出装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018193824A1 (ja) * 2017-04-17 2018-10-25 パナソニックIpマネジメント株式会社 焦電センサ素子及びこれを用いた焦電センサ

Also Published As

Publication number Publication date
JP6413070B2 (ja) 2018-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5685980B2 (ja) 熱型光検出器、熱型光検出装置及び電子機器
US9797779B2 (en) Pyroelectric detector using graphene electrode
EP1045232A2 (en) Infrared sensor and method of manufacturing the same
US9784623B2 (en) Bolometric detector with MIM structures of different dimensions
JP5870492B2 (ja) 熱型検出器、熱型検出装置及び電子機器
US10914638B2 (en) Pyroelectric sensor
CN105705919A (zh) 红外线检测元件、以及红外线检测装置、压电体元件
JP2013246021A (ja) 熱型電磁波検出素子、熱型電磁波検出素子の製造方法、熱型電磁波検出装置および電子機器
JP2013004780A (ja) 焦電センサ素子及びそれを用いた検出装置
US20120138799A1 (en) Infrared detection element and infrared imaging device
CN102221411B (zh) 热式光检测器、热式光检测装置及电子设备
KR20110108281A (ko) 초전형 광검출기, 초전형 광검출 장치 및 전자기기
JP6413070B2 (ja) 赤外線検出素子、及び赤外線検出装置
JP5966157B2 (ja) 赤外線検出装置
JP2000186958A (ja) 熱型赤外線検出素子
JP6249381B2 (ja) 赤外線検出素子及びこれを備える赤外線検出装置
JP2012173186A (ja) 焦電型検出器、焦電型検出装置及び電子機器
JPWO2010073288A1 (ja) 赤外線センサおよび赤外線センサの製造方法
JPH0862035A (ja) 赤外線検知装置
JP6007477B2 (ja) 焦電型光検出器、焦電型光検出装置および電子機器
JP2010507097A (ja) 赤外線マイクロボロメータセンサの伝導構造
RU2258207C1 (ru) Болометрический резистивный элемент
Whatmore Uncooled pyroelectric detector arrays using ferroelectric ceramics and thin films
Oishi et al. SiO 2/SiN infrared absorbing films for uncooled pyroelectric sensor and its fabrication and evaluation
JP2015169495A (ja) 熱型光検出器、熱型光検出装置及び電子機器

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20160520

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170417

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180226

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180306

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180411

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180821

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180903

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6413070

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151