JP2015186089A - 圧電振動片の製造方法、圧電振動片及び圧電振動子 - Google Patents

圧電振動片の製造方法、圧電振動片及び圧電振動子 Download PDF

Info

Publication number
JP2015186089A
JP2015186089A JP2014061694A JP2014061694A JP2015186089A JP 2015186089 A JP2015186089 A JP 2015186089A JP 2014061694 A JP2014061694 A JP 2014061694A JP 2014061694 A JP2014061694 A JP 2014061694A JP 2015186089 A JP2015186089 A JP 2015186089A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
piezoelectric vibrating
vibrating piece
piezoelectric
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014061694A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6383164B2 (ja
Inventor
昇 川合
Noboru Kawai
昇 川合
皿田 孝史
Takashi Sarada
孝史 皿田
幸治 大町
Koji Omachi
幸治 大町
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SII Crystal Technology Inc
Original Assignee
SII Crystal Technology Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SII Crystal Technology Inc filed Critical SII Crystal Technology Inc
Priority to JP2014061694A priority Critical patent/JP6383164B2/ja
Publication of JP2015186089A publication Critical patent/JP2015186089A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6383164B2 publication Critical patent/JP6383164B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

【課題】製造工程を簡素化し、スプリアスの発生を抑制した圧電振動片を安価に製造できる圧電振動片の製造方法を提供する。
【解決手段】円板状のウェハWの両面に圧電振動片のメサ部となる部分Sを区画する溝部Mを形成する工程と、互いに逆向きに回転する定盤の間でウェハWを挟み込み、ウェハWを回転させながら、研磨液を供給してウェハWの表面を研磨する工程と、ウェハWを所定の厚みとなるまで研磨した後に、ウェハWを溝部Mが形成された位置で圧電振動片となる部分C毎に分割する工程と、を含む。
【選択図】図1

Description

本発明は、圧電振動片の製造方法、圧電振動片及び圧電振動子に関する。
近年、携帯電話や携帯情報端末などの電子機器には、時刻源や制御信号等のタイミング源、リファレンス信号源等として、水晶等を利用した圧電振動子が用いられている。この種の圧電振動子には、例えば、音叉型の圧電振動片を有するものや、厚み滑り振動する圧電振動片を有するもの等が知られている。
また、圧電振動片の中でもメサ型の水晶振動片は、メサ部と呼ばれる周辺部よりも中央部が一段高くなった単純な段差構造を有している。このメサ型の水晶振動片を製造する際は、先ず、水晶等の原石を準備し、この原石からスライス加工によりウェハを切り出す。次に、ウェハを所定の厚みとなるまで研磨する。次に、フォトリソグラフィ技術を用いたエッチング加工によりウェハに水晶振動片のメサ部となる部分を区画する複数の溝部を形成する。次に、ウェハを複数の溝部が形成された位置で水晶振動片となる部分(チップ)毎に分割する。
ウェハには、このような水晶振動片となる部分を複数並べて形成していることから、1枚のウェハから一度に複数の水晶振動片を作製することができる。また、上述したエッチング加工によってウェハに対する一括加工が可能である。これにより、均一形状の水晶振動片を大量に生産できる利点がある。
ところで、上述したメサ型の水晶振動片では、メサ部と周辺部との境界が段差によって明確に区切られている。このため、境界の位置によっては、主振動が中央部に集中せずに端部に及ぶことになる。この場合、輪郭振動や屈曲振動が励起されてしまい、スプリアス(不要波)の発生が増大するといった不具合が生じることになる。
ATカット型の水晶振動片では、主振動の振動エネルギーを中央部に閉じ込めるため、この水晶振動片の端部にベベル加工を施し、テーパー構造を付与することが行われている。メサ型は、エネルギー閉じ込めのための構造だが、メサ部と周辺部との境界でのスプリアス発生を抑制し、更なる振動エネルギーの閉じ込めを図るためには、メサ部対してベベル加工を施す必要がある(例えば、特許文献1,2を参照。)。しかしながら、ベベル加工は、手間がかかるだけでなく、コスト上昇の要因ともなっている。
特開2002−224943号公報 特開2006−352828号公報
本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、製造工程を簡素化し、スプリアスの発生を抑制した圧電振動片を安価に製造できる圧電振動片の製造方法、並びに、安定した振動特性を確保できる圧電振動片及び圧電振動子を提供することを目的とする。
本発明に係る圧電振動片の製造方法は、円板状のウェハの両面に圧電振動片のメサ部となる部分を区画する複数の溝部を形成する工程と、互いに逆向きに回転する定盤の間で前記ウェハを挟み込み、ウェハを回転させながら、研磨液を供給してウェハの表面を研磨する工程と、ウェハを所定の厚みとなるまで研磨した後に、ウェハを複数の溝部が形成された位置で圧電振動片となる部分毎に分割する工程と、を含むことを特徴とする。
以上のような圧電振動片の製造方法では、円板状のウェハの両面に圧電振動片のメサ部となる部分を区画する複数の溝部を形成した後に、互いに逆向きに回転する定盤の間でウェハを挟み込み、ウェハを回転させながら、研磨液を供給してウェハの表面を研磨することで、複数の溝部によって区画されたメサ部に曲面が付与される。その後、ウェハを複数の溝部が形成された位置で圧電振動片となる部分毎に分割することで、手間のかかるベベル加工を行わずに、ウェハを分割する前に各圧電振動片のメサ部に対して曲面を付与することができる。これにより、製造工程を簡素化し、スプリアスの発生を抑制した圧電振動片を安価に製造できる。
また、本発明に係る圧電振動片の製造方法は、ウェハを研磨した後に、ウェハをポリッシングする工程を含んでいてもよい。この場合、圧電振動片となる部分を更に鏡面化することできる。
また、本発明に係る圧電振動片は、前記何れかの製造方法により製造されるものであって、複数の溝部によって区画されたメサ部に曲面が付与されていることを特徴とする。
以上のような圧電振動片では、スプリアスの発生を抑制しながら、安定した振動特性を確保できる。
また、本発明に係る圧電振動子は、前記何れかの圧電振動片を備えることを特徴とする。
以上のような圧電振動子では、圧電振動片のスプリアスの発生を抑制できるため、安定した振動特性を確保することが可能である。
以上のように、本発明によれば、製造工程を簡素化し、スプリアスの発生を抑制した圧電振動片を安価に製造できる圧電振動片の製造方法、並びに、安定した振動特性を確保できる圧電振動片及び圧電振動子を提供することが可能である。
本発明の一実施形態に係る圧電振動片の製造工程を説明するための模式図である。 溝部が形成されたウェハを示す平面図である。 図2に示すウェハの要部を拡大した平面図である。 ウェハ研磨装置の概略構成を示す断面図である。 ウェハ研磨装置の概略構成を示す平面図である。 分割されるウェハの要部を拡大した平面図である。 本発明の一実施形態に係る圧電振動片及び圧電振動子の構成を示す分解斜視図である。 図7中に示す線分A−Aによる断面図である。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
(圧電振動片の製造方法)
先ず、本発明の一実施形態に係る圧電振動片の製造方法について、図1を参照しながら説明する。なお、図1は、圧電振動片の製造工程を説明するための断面図である。
圧電振動片を製造する際は、先ず、図1中に示す(a)の工程では、例えば水晶やタンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の各種の圧電体からなる原石(図示せず。)を準備し、この原石からスライス加工によって円板状のウェハWを切り出す。
例えば、圧電振動片である水晶振動片を作製する場合は、オートクレーブ等で作製した水晶の原石(人工水晶)をランバード加工により成形後、ダミーガラスを原石に貼り付ける。その後、例えばワイヤーソーなどを用いたスライス加工によって、原石からATカット面でカットされたウェハ(水晶基板)Wを切り出す。ダミーガラスは、原石を貼り付ける金属製の貼付板がワイヤーソーにより切断されるのを防止するためのものであり、切断後に破棄される。
次に、図1中に示す(b)の工程では、フォトリソグラフィ技術を用いたエッチング加工によりウェハWの両面に圧電振動片のメサ部となる部分Sを区画する複数の溝部Mを形成する。具体的には、ウェハWの面上に、フォトレジストを塗布した後に、露光・現像を行うことによって、所定の形状にパターニングされたマスクパターンを形成する。その後、ウェハWのマスクパターンから露出した部分をウェットエッチングにより除去することによって、マスクパターンに対応した形状にパターニングする。
これにより、図2及び図3に示すように、格子状に並ぶ複数の溝部Mの間に、矩形状の圧電振動片のメサ部となる部分Sがマトリクス状に並ぶウェハWが得られる。なお、図2は、複数の溝部Mが形成されたウェハWを示す平面図である。また、図3は、図2に示すウェハWの要部を拡大した平面図である。
溝部Mの幅については、後述する圧電振動片の周辺部となる部分の幅a1にダイシングブレードの幅a2及び削り代a3を加えた寸法となる。溝部Mの深さについては、溝部Mが浅いほど研磨加工に有利となる。一方、溝部Mが深すぎると、ウェハWの割れに直結するため、例えば26MHzの水晶振動片の場合、ウェハWの厚みの30%程度が妥当である。なお、図3には、縦方向に延びる溝部Mについてのみ寸法を図示しているが、横方向に延びる溝部Mについても同様の寸法とすればよい。
次に、図1中に示す(c)の工程では、ウェハWの両面に対して厚み調整及び平坦化のための研磨(ラッピング)加工を行う。具体的には、上下一対の定盤を備えるウェハ研磨装置を用いて、互いに逆向きに回転する定盤の間でウェハWを挟み込み、ウェハWを回転させると共に、研磨液を供給しながら、ウェハWの両面を研磨する。
ここで、ウェハ研磨装置の一具体例を図4及び図5に示す。なお、図4は、ウェハ研磨装置の概略構成を示す断面図である。図5は、ウェハ研磨装置の概略構成を示す平面図である。
図4及び図5に示すウェハ研磨装置は、上下一対の下定盤101及び上定盤102と、下定盤101の上定盤102と対向する面に配置された複数(本実施形態では5つ。)のキャリア103とを備えている。
下定盤101及び上定盤102は、それぞれの中心部に設けられた回転軸101a,102aを駆動モータ(図示せず。)により回転駆動することで、互いの中心軸を一致させた状態で互いに逆向きに回転可能となっている。また、上定盤102は、下定盤101に対して上下方向に移動(昇降)可能となっている。
複数のキャリア103は、の内側において回転軸101aの周囲に並んで配置されている。また、各キャリア103の外周部には、全周に亘ってギア部105が設けられている。また、各キャリア103のギア部105と噛合された状態で、回転軸101aと共に回転するサンギア106が設けられている。また、各キャリア103のギア部105と噛合されるインターナルギア107が設けられている。
これにより、複数のキャリア103は、回転軸101aと共にサンギア106が回転すると、サンギア106及びインターナルギア107とギア部105との噛合によって、回転軸101aと同一方向に回転(公転)する。同時に、各キャリア103は、それぞれの面内で回転軸101aとは逆方向に回転(自転)する。
各キャリア103には、ウェハWを収納する複数(本実施形態では4つ。)のウェハ収納部108が設けられている。複数のウェハ収納部108は、ウェハWに対応した円形状の孔部であり、キャリア103の周方向に等間隔に並んで設けられている。
ウェハ研磨装置は、下定盤101と上定盤102との間に研磨液Lを供給する研磨液供給機構110を備えている。研磨液供給機構110は、上定盤102に接続された複数のホース111を介してキャリア103の面上に研磨液Lを供給する。なお、研磨液Lについては、特に限定されるものではなく、従来より公知のものの中からウェハWの材質に合わせて最適なものを選択して使用すればよい。
以上のような構成を有するウェハ研磨装置では、互いに逆向きに回転する下定盤101と上定盤102との間で複数のキャリア103を挟み込みながら、各キャリア103のウェハ収納部109に保持されたウェハWを回転させる。また、この状態で、研磨液供給機構110によってウェハWの面上に研磨液Lを供給しながら、ウェハWの両面を研磨する。これにより、一度に複数のウェハWの両面に対して研磨加工を行うことが可能である。
ところで、ウェハWの表面には、格子状に並ぶ複数の溝部Mの間に、圧電振動片のメサ部となる部分Sがマトリクス状に並んで形成されている。このようなウェハWを上記ウェハ研磨装置を用いて研磨した場合、各圧電振動片のメサ部となる部分Sの表面と共に、上下定盤101,102の内外周の周速差(単位時間当たりの移動量の違い、すなわち研磨の仕事量の違い)等によって、各圧電振動片のメサ部となる部分Sが研磨される。これにより、ウェハWの両面には、図1中に示す(c)の工程のように、各圧電振動片のメサ部となる部分Sに曲面Kが付与される。
ウェハWを所定の厚みとなるまで研磨した後は、必要に応じてウェハWの両面に対して鏡面研磨(ポリッシング)加工を行ってもよい。この場合、ウェハWの表面を鏡面化することができる。その後、ウェハWの各圧電振動片となる部分に電極等を形成する(図示せず。)。
次に、図1中に示す(d)の工程では、ダイシングブレードを用いて、ウェハWを溝部Mが形成された位置で圧電振動片となる部分(チップ)C毎に分割する。具体的には、図6に示すように、各溝部Mの中央部を溝部Mの幅よりも狭い幅でダイシングブレード(図示せず。)を用いて切断する。これにより、メサ部となる部分Sの周囲に溝部Mを残した状態で複数のチップCに分割される。なお、図6は、分割されるウェハWの要部を拡大した平面図であり、図6中のハッチング部分はウェハWの切断部分を示している。
また、複数のチップCに分割する際は、上述したダイシングによりウェハWを切断する方法の他にも、エッチング等によりウェハWを複数のチップCに分割することもできる。ウェハWには、圧電振動片となる部分Cを並べて形成していることから、1枚のウエハWから一度に複数の圧電振動片を作製することができる。
以上のような工程を経ることによって、圧電振動片を作製することができる。圧電振動片は、セラミックやガラス等からなるパッケージ(図示せず。)内の所定の位置に実装された後、封止される。これにより、圧電振動素子を得ることができる。なお、圧電振動片の製造時には、上述した各工程の間にウェハWを洗浄する工程を設けてもよい。
以上のように、本実施形態による圧電振動片の製造方法では、手間のかかるベベル加工を行わずに、ウェハWを分割する前に各圧電振動片のメサ部となる部分Sに対して曲面Kを付与することが可能である。また、ベベル加工では、製法上圧電振動子の割れや欠け等が発生しやすいのに対して、研磨加工により曲面Kを付与する本実施形態の製造方法では、そのような圧電振動子の割れや欠け等の発生を抑制できる。さらに、ベベル加工よりも圧電振動片の表面を滑らかに仕上げることができるため、スプリアスの発生を抑制することが可能である。
以上のようにして、本実施形態の製造方法では、圧電振動片の製造工程を簡素化し、スプリアスの発生を抑制した圧電振動片を安価に製造することが可能である。
(圧電振動片及び圧電振動子)
次に、本発明の一実施形態として、例えば図7及び図8に示す圧電振動片1及び圧電振動子50について説明する。なお、図7は、圧電振動片1及び圧電振動子50の構成を示す分解斜視図である。図8は、図7中に示す線分A−Aによる断面図である。
また、以下の説明では、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。具体的には、圧電振動片1の長さ方向(長手方向)をX軸方向とし、圧電振動片1の幅方向(短手方向)をY軸方向とし、圧電振動片1の高さ方向(上下方向)をZ軸方向とする。また、XYZ直交座標系における矢印の方向を+方向とし、それとは反対の方向を−方向とする。
圧電振動子50は、図7及び図8に示すように、圧電振動片1と、パッケージ2とを備え、パッケージ2の内側に圧電振動片1が実装された密封構造を有している。
圧電振動片1は、厚み滑り振動を主振動とするATカット型の水晶振動片として、ATカットされた矩形平板状の水晶からなる。また、この圧電振動片1は、メサ型の水晶振動片として、矩形平板状のメサ部3と、このメサ部3の周囲を囲む矩形枠状の周辺部4と、メサ部3と周辺部4との間でメサ部3が周辺部4よりも一段高くなった段差部5とを有している。
本実施形態の圧電振動片1では、上記実施形態の製造方法により作製されることによって、メサ部3に曲面Kが付与されている。これにより、主振動の振動エネルギーを中央部に閉じ込めることができ、スプリアスの発生を抑制しながら、安定した振動特性を確保できる。
圧電振動片1の両面には、一対の励起電極6,7と、一対のマウント電極8,9とを有している。一対の励起電極6,7は、それぞれメサ部3の両面に形成されている。一対のマウント電極8,9は、周辺部4の長手方向(X軸方向)の両端部に位置して、周辺部4の両面及び側面に亘って形成されている。また、圧電振動片1の一方の面には、一方の励起電極6と一方のマウント電極8との間で引き回された一方の引回し電極10が形成され、圧電振動片1の他方の面には、他方の励起電極7と他方のマウント電極9との間で引き回された他方の引回し電極11が形成されている。
パッケージ2は、圧電振動片1を収容する凹部12aが形成されたベース基板12と、凹部12aを閉塞するリッド基板13とを有している。ベース基板12及びリッド基板13は、セラミックやガラス等からなる。パッケージ2は、ベース基板12の凹部12aをリッド基板13で封止することによって、密閉された内部空間2aを形成している。
ベース基板2は、凹部12aの底面に一対の内部電極14,15を有している。一対の内部電極14,15は、凹部12aの長手方向(X方向)に並んで配置される。ベース基板2は、凹部12aの底面と対向する面(下面)に一対の外部電極16,17を有している。一対の外部電極16,17は、一対の内部電極14,15に対向して配置されている。さらに、一対の内部電極14,15と一対の外部電極16,17とは、ベース基板2を貫通する一対の貫通電極18,19を介して接続されている。
圧電振動片1は、内部電極14,15の面上に形成されたバンプ20を介して一対のマウント電極8,9が接続された状態で、パッケージ2内に実装されている。
以上のような構成を有する圧電振動子50では、上述した研磨加工によりメサ部に曲面Kが付与された本実施形態の圧電振動片1を備えることによって、スプリアスの発生を抑制しながら、安定した振動特性を確保することが可能である。
従来のベベル加工により曲面が付与された圧電振動片では、チップ化された後にベベル加工を施すため、メサ部だけでなく、周辺部にも曲面が付与されることになる。これに対して、本実施形態の圧電振動片1では、上述したチップ化される前に研磨加工によりメサ部3に曲面Kが付与されている。この場合、本実施形態の圧電振動片1の方が振動の鋭さを示すQ値の低下を低く抑えることが可能である。
また、ベベル加工よりも研磨加工の方が圧電振動片1の表面を滑らかに仕上げることができる。更にポリッシング加工を行った場合には、圧電振動片1の表面を鏡面化することができる。この場合、本実施形態の圧電振動片1の方がスプリアスの発生を低く抑えることが可能である。
なお、本発明は、上記実施形態のものに必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、本発明は、圧電振動片の中でもメサ型の水晶振動片に対して好適であるものの、その以外の圧電振動片に対しても本発明を適用することが可能である。また、圧電振動素子のパッケージについては、上記実施形態のものに限らず、様々な材料及び構造のパッケージを適用することが可能である。
1…圧電振動片 2…パッケージ 2a…内部空間 3…メサ部 4…周辺部 5…段差部 6,7…励起電極 8,9…マウント電極 10,11…引回し電極 12a…凹部 12…ベース基板 13…リッド基板 14,15…内部電極 16,17…外部電極 18,19…貫通電極 20…バンプ 50…圧電振動子
101…下定盤 101a…回転軸 102…上定盤 102a…回転軸 103…キャリア 104…キャリア収納部 105…ギア部 106…サンギア 107…インターナルギア 108…ウェハ収納部 109…ダミー収納部 110…研磨液供給機構 111…ホース
W…ウェハ M…溝部 S…メサ部となる部分 K…曲面 C…圧電振動子となる部分(チップ) L…研磨液

Claims (4)

  1. 円板状のウェハの両面に圧電振動片のメサ部となる部分を区画する複数の溝部を形成する工程と、
    互いに逆向きに回転する定盤の間で前記ウェハを挟み込み、前記ウェハを回転させながら、研磨液を供給して前記ウェハの表面を研磨する工程と、
    前記ウェハを所定の厚みとなるまで研磨した後に、前記ウェハを前記複数の溝部が形成された位置で前記圧電振動片となる部分毎に分割する工程と、を含むことを特徴とする圧電振動片の製造方法。
  2. 前記ウェハを研磨した後に、前記ウェハをポリッシングする工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の圧電振動片の製造方法。
  3. 請求項1又は2に記載の製造方法により製造される圧電振動片であって、
    前記複数の溝部によって区画されたメサ部に曲面が付与されていることを特徴とする圧電振動片。
  4. 請求項3に記載の圧電振動片を備える圧電振動子。
JP2014061694A 2014-03-25 2014-03-25 圧電振動片の製造方法 Active JP6383164B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014061694A JP6383164B2 (ja) 2014-03-25 2014-03-25 圧電振動片の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014061694A JP6383164B2 (ja) 2014-03-25 2014-03-25 圧電振動片の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015186089A true JP2015186089A (ja) 2015-10-22
JP6383164B2 JP6383164B2 (ja) 2018-08-29

Family

ID=54352180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014061694A Active JP6383164B2 (ja) 2014-03-25 2014-03-25 圧電振動片の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6383164B2 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001038607A (ja) * 1999-07-28 2001-02-13 Okayama Prefecture 高周波用水晶振動子の加工方法
JP2009194631A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Seiko Instruments Inc ウエハ、ウエハ研磨装置、ウエハ研磨方法、圧電振動子の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計
JP2011199608A (ja) * 2010-03-19 2011-10-06 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 圧電振動子及び電子部品並びに発振器
JP2012199606A (ja) * 2011-03-18 2012-10-18 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 水晶振動片及び水晶デバイス
JP2012209690A (ja) * 2011-03-29 2012-10-25 Seiko Instruments Inc ウエハの研磨方法、圧電振動片の製造方法、パッケージの製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器および電波時計
JP2014143588A (ja) * 2013-01-24 2014-08-07 Daishinku Corp 水晶振動子とその製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001038607A (ja) * 1999-07-28 2001-02-13 Okayama Prefecture 高周波用水晶振動子の加工方法
JP2009194631A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Seiko Instruments Inc ウエハ、ウエハ研磨装置、ウエハ研磨方法、圧電振動子の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計
JP2011199608A (ja) * 2010-03-19 2011-10-06 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 圧電振動子及び電子部品並びに発振器
JP2012199606A (ja) * 2011-03-18 2012-10-18 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 水晶振動片及び水晶デバイス
JP2012209690A (ja) * 2011-03-29 2012-10-25 Seiko Instruments Inc ウエハの研磨方法、圧電振動片の製造方法、パッケージの製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器および電波時計
JP2014143588A (ja) * 2013-01-24 2014-08-07 Daishinku Corp 水晶振動子とその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6383164B2 (ja) 2018-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI591868B (zh) Piezoelectric quartz wafer with double convex structure and processing method thereof
JP2011193175A (ja) 水晶振動板及びその製造方法
CN109391241A (zh) 弹性波器件用基板的制造方法
JP4997780B2 (ja) 圧電振動片の製造方法
JP6226774B2 (ja) 複合基板の製法及び複合基板
JP6383164B2 (ja) 圧電振動片の製造方法
JP2013151040A (ja) ウエハ研磨装置及び研磨パッド
TWI652839B (zh) Piezoelectric quartz wafer with single convex structure
JP5823908B2 (ja) ウエハー加工方法
JP2001053036A (ja) ダイシングブレード及び圧電素板
JP2014172148A (ja) キャリア
JP4706286B2 (ja) 圧電振動片の製造方法、及びその製造装置
JP5435060B2 (ja) 振動片
JP2013086208A (ja) ウェーハの加工方法、電子部品の製造方法及び電子部品
JP4868043B2 (ja) 圧電素子片及び圧電振動片の製造方法
JP2008042877A (ja) 圧電薄膜デバイス
JP2003060481A (ja) 圧電振動素子とその製造方法、および圧電デバイス
JP2014230053A (ja) 圧電素子ウエハ形成方法
JP5288920B2 (ja) 水晶振動用素子の製造方法
JP7501889B2 (ja) 接合ウエハの製造方法と弾性波デバイスの製造方法
JP7423231B2 (ja) 圧電振動片の製造方法、圧電振動片および圧電振動子
JP4398344B2 (ja) 圧電体ウエハの研磨方法
JPH10209785A (ja) 振動子の製造方法
JP4260761B2 (ja) 円板形状水晶素板の製造方法
JP5872660B2 (ja) 水晶振動片

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170110

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20170913

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180213

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180410

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180529

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180719

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180731

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180803

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6383164

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250