JP2015185655A - 発光素子およびその製造方法 - Google Patents
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11:n型層
12:発光層
13:p型層
14:透明電極
15:p電極
16:n電極
17:誘電体多層膜
27:単層AR膜
Claims (8)
- サファイア基板の一方の表面上にIII 族窒化物半導体からなるn型層、発光層、p型層が順に積層されたフェイスアップ型の発光素子の製造方法において、
前記サファイア基板の他方の表面に、希ガスまたは酸素のイオン照射を行い、表面再構成を生じさせて平坦化する第1工程と、
前記第1工程後、前記サファイア基板の他方の表面に、光の干渉を利用して光取り出し側へ光を反射させる誘電体からなる反射膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする発光素子の製造方法。 - サファイア基板の一方の表面上にIII 族窒化物半導体からなるn型層、発光層、p型層が順に積層されたフリップチップ型の発光素子の製造方法において、
前記サファイア基板の他方の表面に、希ガスまたは酸素のイオン照射を行い、表面再構成を生じさせて平坦化する第1工程と、
前記第1工程後、前記サファイア基板の他方の表面に、光の干渉を利用して光取り出し側とは反対方向への光の反射を防止する誘電体からなる反射防止膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする発光素子の製造方法。 - 前記反射膜は、酸化ケイ素と酸化チタンを交互に繰り返し積層したDBR構造である、ことを特徴とする請求項1に記載の発光素子の製造方法。
- 前記第1工程は、加速エネルギーを0.08〜0.15keVとして、5〜10分間、イオン照射を行う、ことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の発光素子の製造方法。
- 前記イオン照射により、前記サファイア基板の他方の表面のRa(算術平均粗さ)を0.2nm以下、RMS(二乗平均平方根粗さ)を0.2nm以下、Rz(十点平均粗さ)を5nm以下、とする、ことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の発光素子の製造方法。
- 前記第1工程の前に、前記サファイア基板の他方の表面を研磨して、前記サファイア基板を薄くする工程を有する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の発光素子の製造方法。
- サファイア基板の一方の表面上にIII 族窒化物半導体からなるn型層、発光層、p型層が順に積層されたフェイスアップ型の発光素子において、
前記サファイア基板の他方の表面に、光の干渉を利用して光取り出し側へ光を反射させる誘電体からなる反射膜が設けられ、
前記サファイア基板の他方の表面は、算術平均粗さが0.2nm以下、二乗平均平方根粗さが0.2nm以下、十点平均粗さが5nm以下である、
ことを特徴とする発光素子。 - サファイア基板の一方の表面上にIII 族窒化物半導体からなるn型層、発光層、p型層が順に積層されたフリップチップ型の発光素子において、
前記サファイア基板の他方の表面に、光の干渉を利用して光取り出し側とは反対方向への光の反射を防止する誘電体からなる反射防止膜が設けられ、
前記サファイア基板の他方の表面は、算術平均粗さが0.2nm以下、二乗平均平方根粗さが0.2nm以下、十点平均粗さが5nm以下である、
ことを特徴とする発光素子。
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