JP2015176812A - 誘導加熱発熱体の製造装置及び製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ヒューズ機能部が形成された誘導加熱発熱体を、より効率よく工業的規模で量産する。【解決手段】ラミネートフィルム１０を繰り出しながら非接着部をヒートシール層から引き剥がして被加工領域とするピール機構、導電層に切断線を所定のパターンで形成する切断線パターン形成機構、ラミネートフィルム１０から発熱体形成片Ｓ０を打ち抜くトリミング機構、ヒートシール層側を対向させて発熱体形成片Ｓ０の重ね合せ、被加工領域側のヒートシール層をヒートシールし、次いで、発熱体形成片Ｓ０の上端縁部同士を部分的に溶着してヒューズ機能部を形成するヒューズ機能部形成機構を含む。【選択図】図７

Description

本発明は、電磁調理器などが備える電磁誘導加熱コイルが発する高周波磁界によって渦電流が誘起され、そのジュール熱により発熱する誘導加熱発熱体の製造装置及び製造方法に関する。

近年、ガス機器が主流であった加熱調理機器に代わって、一般に、電磁調理器と称される加熱調理機器が、安全性、清潔性、利便性、経済性などの観点から、飲食業などにおける業務用のみならず、一般家庭においても広く普及するようになってきている。

しかしながら、この種の電磁調理器は、内部に備えた電磁誘導加熱コイルにより高周波磁界を発生させ、誘起された渦電流によって生じるジュール熱により加熱対象物を加熱するというものである。
このため、炎を使わずに加熱調理を行うことができる反面、その原理上、使用できる調理器具が限られてしまい、鉄、鉄ホーローなどの磁性金属からなる専用の調理器具を用いなければならないという不利があった。

このような状況下、上記した電磁調理器の不利を解消するものとして、例えば、特許文献１には、電磁調理器から生じる渦電流により、０．１０〜１００μｍのアルミニウム箔を発熱させる電磁調理器を用いる加熱方法が提案されており、特許文献１の加熱方法によれば、非磁性の容器であっても電磁調理器を用いて内容物を容易に加熱することができるとされている。

しかしながら、このような特許文献１の加熱方法には、誤って空焚きしてしまった場合などに、アルミニウム箔が急激に昇温して容易に燃えて飛散してしまうという危険や、熱により容器が損傷してしまうおそれがあるという問題があった。

そこで、本出願人は、非磁性材料からなる容器に取り付けて、当該容器を電磁調理器による誘導加熱が可能な誘導加熱容器として使用できるようにするとともに、空焚き状態となった場合には、選択的に過剰に発熱して破断する部位（ヒューズ機能部）を設けて、これによって電磁調理器の安全機構が働いて加熱を終えるようにした誘導加熱発熱体を提案した（特許文献２等参照）。そして、特許文献３において、導電性材料を折り曲げて立ち上がり部を形成するとともに、立ち上がり部の先端部を長手方向に沿って分断して一対のヒューズ機能部形成片を形成し、一方のヒューズ機能部形成片の端縁と、他方のヒューズ機能部形成片の端縁とを揃えた状態で固定することによって、ヒューズ機能部を形成する方法を提案した。

特開２００３−３２５３２７号公報 特開２０１０−４４９２９号公報 特開２０１３−１２６５１３号公報

本発明は、このようなヒューズ機能部が形成された誘導加熱発熱体を、より効率よく工業的規模で量産するのに適した誘導加熱発熱体の製造装置及び製造方法の提供を目的とする。

本発明に係る誘導加熱発熱体の製造装置は、高周波磁界により渦電流が誘起されて発熱する導電層とヒートシール層とから成り、前記導電層が切断線によって区画され、ヒューズ機能部を備える誘導加熱発熱体の製造装置であって、前記導電層に前記ヒートシール層を積層してなるラミネートフィルムを繰り出しながら、レーザー光を照射して前記ヒートシール層の非接着部の幅方向両端に沿ってハーフカット処理を施し、次いで、前記非接着部を前記ヒートシール層から引き剥がして被加工領域を形成するピール機構、前記導電層にレーザー光を照射して前記切断線を所定のパターンで形成する切断線パターン形成機構、前記ラミネートフィルムから発熱体形成片を打ち抜くトリミング機構、前記発熱体形成片のヒートシール層側を対向させて重ね合せ、前記被加工領域側のヒートシール層をヒートシールし、次いで、前記発熱体片の上端部同士を部分的に溶着して前記ヒューズ機能部を形成するヒューズ機能部形成機構を含む構成としてある。

また、本発明に係る誘導加熱発熱体の製造方法は、高周波磁界により渦電流が誘起されて発熱する導電層とヒートシール層とから成り、前記導電層が切断線によって区画され、ヒューズ機能部を備える誘導加熱発熱体の製造方法であって、前記導電層に前記ヒートシール層を積層してなるラミネートフィルムを用意し、前記ヒートシール層の非接着部を前記ヒートシール層から引き剥がして被加工領域を形成するピール工程、前記導電層に前記切断線を所定のパターンで形成する切断線パターン形成工程、前記ラミネートフィルムから発熱体形成片を打ち抜くトリミング工程、前記発熱体形成片のヒートシール層側を対向させて重ね合せ、前記被加工領域側のヒートシール層をヒートシールし、次いで、前記発熱体形成片の上端縁部側同士を部分的に溶着して前記ヒューズ機能部を形成するヒューズ機能部形成工程を含む方法としてある。

本発明によれば、高周波磁界により渦電流が誘起されて発熱する導電性材料からなる導電層を有し、かかる導電層に、選択的に過剰に発熱して破断するヒューズ機能部が形成された誘導加熱発熱体を工業的に再現性良く製造することができる。

本発明の実施形態が製造対象とする誘導加熱発熱体の一例が取り付けられた誘導加熱容器の概略を示す平面図である。 図1のＡ−Ａ断面を示す概略断面図である。 本発明の実施形態が製造対象とする誘導加熱発熱体の一例を示す斜視図である。 本発明の実施形態が製造対象とする誘導加熱発熱体の一例を示す斜視図である。 図４のＢ−Ｂ断面を示す概略断面図である。 本発明の実施形態におけるラミネートフィルムの一例を示す説明図である。 本発明の実施形態において、ピール工程、切断線パターン形成工程、トリミング工程までを行う装置の一例を示す平面図である。 図７のＦ−Ｆ断面図である。 本発明の実施形態において、ラミネートフィルムの連続送りと間欠送りとの送り量の差を吸収し、アキュームレーター機能を備えるダンサーローラの一例を示す斜視図である。 本発明の実施形態における切断線パターン形成機構によってラミネートフィルムに切断線を形成する工程を示す説明図である。 本発明の実施形態におけるトリミング機構によってラミネートフィルムを打ち抜き切断する工程を示す説明図である。 本発明の実施形態におけるトリミング機構の受け台の概略を示す平面図である。 図１２のＧ−Ｇ断面図である。 図１２のＨ−Ｈ断面図である。 本発明の実施形態におけるヒューズ機能部形成機構によって、合掌ユニットが発熱体形成片を重ね合せる工程を示す説明図である。 本発明の実施形態におけるヒューズ機能部形成機構によって、第一トランスファーユニットが合掌ユニットから発熱体形成片を受け取る工程を示す説明図である。 本発明の実施形態におけるヒューズ機能部形成機構によって、発熱体形成片が第一ハンドリングチャックユニットに受け渡される工程を示す説明図である。 本発明の実施形態におけるヒューズ機能部形成機構によって、第二トランスファーユニットが第一中間体を受け取る工程を示す説明図である。 本発明の実施形態におけるヒューズ機能部形成機構によって、第二ハンドリングチャックユニットに第一中間体が受け渡される工程を示す説明図である。 本発明の実施形態におけるヒューズ機能部形成機構によって、第三トランスファーユニットが第二中間体を受け取る工程を示す説明図である。 本発明の実施形態におけるヒューズ機能部形成機構によって、展開ユニットが、受け渡された第二中間体を展開する工程を示す説明図である。 本発明の実施形態におけるヒューズ機能部形成機構によって、誘導加熱発熱体を搬出する工程を示す説明図である。

以下、本発明の好ましい実施形態について、図面を参照しつつ説明する。

本実施形態が製造対象とする誘導加熱発熱体３は、非導電性材料からなる容器本体２に取り付けて、電磁調理器による誘導加熱が可能な誘導加熱容器１とするためのものである。

容器本体２は、水などの液状の被加熱物を収容できるように、内底面２１の周りを囲むようにして側壁を立設したものとすることができ、誘導加熱発熱体３は、このような容器本体２の内底面２１側に取り付けられる（図１及び図２参照）。そして、誘導加熱発熱体３は、電磁調理器などが備える電磁誘導加熱コイルが発する高周波磁界により渦電流が誘起され、その電気抵抗によりジュール熱が生じて発熱する導電性材料からなる導電層３０と、容器本体２に対してヒートシール性を有するヒートシール層３１とを含む積層体とすることができる（図５参照）。

導電層３０を形成する導電性材料としては、例えば、アルミニウム，ニッケル，金，銀，銅，白金，鉄，コバルト，錫，亜鉛などの金属、又はこれらの合金など、高周波磁界による誘導加熱によって発熱する種々の導電性材料を用いて形成することができる。より具体的には、例えば、導電性材料としてアルミニウムを用いる場合、好ましくは０．１０〜１００μｍ程度、より好ましくは１〜４０μｍ程度の厚みのアルミニウム箔を用いて導電層３０を形成することができる。

ヒートシール層３１は、容器本体２に対してヒートシール性を有するものであれば特に限定されず、容器本体２を形成する非導電性材料に応じて適宜選択することができる。前述した導電層３０と積層し易く、ヒートシール性が良好で、適度な耐熱性を有する樹脂が好ましく、特に、後述する容器本体２と同種の樹脂が好ましい。

容器本体２を形成する非導電性材料としては、ポリスチレン等のポリスチレン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂などの合成樹脂材料を好適に使用できる。容器本体２は、単層、又はこれらの樹脂同士或いは他の機能性樹脂と組み合わせた多層構成であっても良い。非導電性材料としては、紙、ガラスなども使用できるが、誘導加熱発熱体３のヒートシール層３１とのヒートシール性を考慮して、上記した合成樹脂材料が容器内面にラミネート又はコートされているのが好ましい。これらの材料にて容器本体２を形成することにより、電磁調理器を用いた加熱調理が可能な誘導加熱容器１を安価に提供することが可能となる。

また、誘導加熱発熱体３は、ほぼ円形の平板状の主部を有しており、かかる主部から径方向に沿って立ち上がるヒューズ機能部３２が設けられている（図１乃至図５参照）。

さらに、誘導加熱発熱体３の主部は、導電層３０を周方向に沿って同心円状に切断する切断線３３ａ、３３ｅによって、切断線３３ａよりも内側の中央部領域と、切断線３３ａ、３３ｅの間に位置する主加熱領域と、切断線３３ｅよりも外側の周縁部領域とに区画されている。さらに、主加熱領域は、同様の切断線３３ｂ、３３ｃ、３３ｄによって、複数の領域に区画されている（図１、図３及び図４参照）。
このような切断線３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ、３３ｅを形成することによって、導電層３０に誘起された渦電流は、切断線３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ、３３ｅを横切る方向には流れなくなる。このため、切断線３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ、３３ｅによって区画された、それぞれの領域ごとに渦電流が誘起される。

渦電流は、電磁調理器の電磁誘導加熱コイルの形状に則して誘起されるため、通常、切断線３３ａよりも内側の中央部領域に誘起される渦電流はそれほど強くはならないが、電流密度の分布がやや不安定で、より外側を流れる渦電流を乱す場合がある。このため、切断線３３ａによって中央部領域と主加熱領域とに区画することで、主加熱領域への影響を低減することができる。

また、誘起される渦電流の電流密度分布は、半径方向に対して均一ではなく、半径方向中央よりもやや外周寄りに電流密度のピークを有し、導電層３０の対応する位置が強く加熱される。このため、前述した主加熱領域を複数の領域に区画する切断線３３ｂ、３３ｃ、３３ｄは、半径方向に均等に配置するよりも、渦電流が外周寄りに集中しないように外周寄りに密に設けるのが好ましい。このようにすることで、誘起される渦電流を整えて加熱の均等化を図り、加熱ムラを抑制して水などの液状の被加熱物が局所的に急激に加熱されないようにし、突沸の発生を抑止することができる。

さらに、切断線３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ、３３ｅの端縁は、水などの液状の被加熱物が沸騰して気泡が発生する際の起点となる。このため、加熱時には沸騰石を入れた時のように小さな気泡が継続的に多数生成されて、突発的に大きな気泡が発生するのを防止する効果もあり、これによっても突沸の発生が抑止される。これにより、突沸によって飛散した被加熱物により使用者が火傷を負ってしまったり、電磁調理器周辺を汚したりするような事態を避けることができる。

また、切断線３３ａよりも内側の中央部領域は、径方向に延在する切断線３４ａにより周方向に複数に区画されている。同様に、切断線３３ｅよりも外側の周縁部領域は、径方向に延在する切断線３４ｃにより周方向に複数に区画されている。これらの領域を周方向に複数に区画することで、電磁調理器が備える電磁誘導加熱コイルの中心回りの強い渦電流は誘起されなくなり、複数の小さな領域に区画されたそれぞれの領域は、それほど高温にならない。したがって、これらの領域におけるヒートシール層３１でヒートシールして、誘導加熱発熱体３を容器本体２に取り付ければ、容器本体２への伝熱を抑制でき、容器本体２の損傷を防止することができる。

さらに、主加熱領域に形成した切断線３３ｂ、３３ｃとの間の領域にあっても、径方向に延在する切断線３４ｂにより周方向に複数に区画し、当該領域での発熱を抑制し、当該領域におけるヒートシール層３１で容器本体２とヒートシールしている。

このように、誘導加熱発熱体３の中央部領域と周縁部領域だけでなく、主加熱領域の切断線３３ｂ、３３ｃとの間の領域に発熱が抑制された領域を形成し、当該領域におけるヒートシール層３１でも容器本体２とヒートシールすることで、被加熱物の対流や流動、又は電磁誘導加熱コイルとの斥力による誘導加熱発熱体３の浮き上がり、又は波打ちを有効に抑止することができ、より安定した加熱が可能になる。

また、容器本体２の損傷を防止するため、誘導加熱発熱体３の裏面側に被加熱物が停滞せずに対流を促すように、誘導加熱発熱体３には、対流孔として抜き孔、又は貫通するスリット３５が形成されている。

さらに、前述した誘導加熱発熱体３の主部から径方向に沿って立ち上がるヒューズ機能部３２は、加熱調理に際して、液状の被加熱物が沸騰して減少していく過程で、容器内の被加熱物が所定量よりも少なくなったときや、容器内に被加熱物が収容されておらず、被加熱物への熱移動がなされない空焚きの状態となったときに、選択的に過剰に発熱して破断する部位として設けられる。このようにヒューズ機能部３２を設けることで、空焚きを防止したり、加熱時間を制御したりすることができる。

ヒューズ機能部３２は、例えば、径方向に沿って立ち上るように導電層３０が谷折りされた一対のヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂを形成し、図３乃至図５に示すように、一方のヒューズ機能部形成片３２ａと他方のヒューズ機能部形成片３２ｂとを重ね合わせるとともに、部分的に溶着することによって形成される。
このとき、ヒューズ機能部３２が破断する際の熱によるヒートシール層３１の損傷を防ぐために、ヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂの基部３２０側を残してヒートシール層３１を除去し、ヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂの基部３２０同士をヒートシールすることで、ヒューズ機能部３２の形状を保持することができる。

そして、ヒューズ機能部３２の形状を保持し、導電層３０同士を確実に接触させて渦電流の導通を確保するため、ヒューズ機能部３２の上端縁部側に超音波溶着によって、ヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂ同士を部分的に溶着した溶着部３２３を形成する（図３乃至図５参照）。
尚、図３は、誘導加熱発熱体３をヒューズ機能部形成片３２ａ側から見た斜視図であり、図４は、誘導加熱発熱体３をヒューズ機能部形成片３２ｂ側から見た斜視図である。

また、導電層３０の主加熱領域を複数の領域に区画する切断線３３ｂ、３３ｃ、３３ｄは、ヒューズ機能部３２のヒューズ機能部形成片３２ａに、その上端縁部に向かって延び、０．５〜１ｍｍ程度の残部を残して延長して形成する（図３及び図４参照）。ヒューズ機能部３２のヒューズ機能部形成片３２ａに、切断線３３ｂ、３３ｃ、３３ｄを延長して形成することにより、複数の領域に区画されたそれぞれの領域ごとに渦電流が誘起され、前述したヒューズ機能部３２の溶着部３２３に効率良く導通させることができる。

一方、他方のヒューズ機能部形成片３２ｂに、主加熱領域の切断線３３ａ、３３ｂで区画される領域と、切断線３３ｃ、３３ｄで区画される領域と、切断線３３ｄ、３３ｅで区画される領域のそれぞれに、両側辺が弧状又はテーパ状、上辺が直線状で、ヒューズ機能部形成片３２ａよりも０．５〜１ｍｍ程度低い導電層３０から成る突片３８を形成する（図４参照）。
さらに、ヒューズ機能部形成片３２ｂの突片３８を除く導電層３０を、前述したヒートシール層３１の残部の高さと同等、又は若干高い導電層３０とし、ヒューズ機能部３２のヒートシール部からの樹脂の飛び出しを防止する。

このようにヒューズ機能部３２の導電層３０を部分的に除去してヒューズ機能部形成片３２ｂを形成することにより、当該ヒューズ機能部形成片３２ｂの突片３８に誘起されるとともに増加する渦電流よって、前述したヒューズ機能部３２の溶着部３２３に効率良く、安定して確実に導通させることができる。

また、ヒューズ機能部３２には、誘導加熱発熱体３の主部において主加熱領域を区画する切断線３３ａ、３３ｅの延長上に、スリット３２１、３２２を形成し、ヒューズ機能部３２のうち主加熱領域上に位置する部分に、主加熱領域で誘起された渦電流が集中するようにして、当該部分におけるヒューズ機能部３２の機能を効率よく発現することができる。

次に、このような誘導加熱発熱体３を製造対象とする本発明の実施形態に係る誘導加熱発熱体の製造装置及び製造方法について説明するが、本発明の製造対象は前述した誘導加熱発熱体３に限定されるものではない。

本実施形態において、誘導加熱発熱体３を製造するには、ヒューズ機能部３２を形成する被加工領域３０ａが、好ましくは４〜３０ｍｍの幅Ｗ_１で導電層３０に帯状に設けられる。そして、導電層３０を形成する導電性材料（例えば、アルミニウム箔）と、ヒートシール層３１を形成する樹脂フィルム（例えば、ポリプロピレン樹脂フィルム）との少なくとも一方に、当該被加工領域３０ａを除いて形成した接着剤層３１ｂを介して、両者を積層したラミネートフィルム１０を用意する。かかるラミネートフィルム１０において、被加工領域３０ａにおけるヒートシール層３１の非接着部３１ａは、ヒートシール層３１から取り除かれる（図６参照）。

本実施形態にあっては、先ず、ロール状に巻き取られた長尺のラミネートフィルム１０を連続的に繰り出しながら、導電層３０の被加工領域３０ａにおけるヒートシール層３１の非接着部３１ａを、ヒートシール層３１から取り除くピール工程、導電層３０に前述した切断線３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ、３３ｅ、３４ａ、３４ｂ、３４ｃを所定のパターンで形成し、さらに、ラミネートフィルム１０を貫通するスリット３５を形成する切断線パターン形成工程、ラミネートフィルム１０から誘導加熱発熱体３の製造に必要な部分を切り抜くトリミング工程を行い、次いで、導電層３０の被加工領域３０ａに、ヒューズ機能部３２を形成するヒューズ機能部形成工程を行うことによって誘導加熱発熱体３を製造する。
このようなピール工程、切断線パターン形成工程、トリミング工程、ヒューズ機能部形成工程は、本実施形態に係る誘導加熱発熱体の製造装置のピール機構、切断線パターン形成機構、トリミング機構、ヒューズ機能部形成機構で行われる。

［ピール機構］
被加工領域３０ａは、誘導加熱発熱体３の導電層３０にヒューズ機能部３２を形成するために設けられるものであり、ヒューズ機能部３２を形成するに先立ち、ピール機構では、被加工領域３０ａにおけるヒートシール層３１の非接着部３１ａを、ヒートシール層３１から取り除き、被加工領域３０ａを剥き出し状態にするピール工程が行われる。このため、本実施形態にあっては、ロール状に巻き取られたラミネートフィルム１０を、供給装置５００にセットして連続的に繰り出し、レーザー照射装置５０７からレーザー光を照射してヒートシール層３１の非接着部３１ａの幅方向両端に沿ってハーフカット処理を施し、ヒートシール層３１に図６（ｂ）に示す切り込みを入れる（図７及び図８参照）。レーザー照射装置５０７としては、ヒートシール層３１を形成する樹脂材料を溶断し、導電層３０に影響を与えない特性を有するレーザー、例えば、ＣＯ_２レーザー等のガスレーザーを利用することができる。
なお、図示する例では、二機のレーザー照射装置５０７を、非接着部３１ａの幅方向両端に沿ってレーザー光を照射する際に、互いに干渉し合わないように、ラミネートフィルム１０の繰り出し方向に沿ってずらして配置してある。

供給装置５００からラミネートフィルム１０を繰り出すにあたり、ラミネートフィルム１０の巻芯５０２にはブレーキモータが接続されている。ラミネートフィルム１０は、送りローラ５０３を介して、駆動モータに接続されたフィードローラ５０４によって繰り出され、巻芯５０２とフィードローラ５０４との間でラミネートフィルム１０に適度の張力をかけた状態でハーフカット処理を施す。
また、供給装置５００から繰り出されたラミネートフィルム１０の蛇行を検知カメラ５０１が検知すると、供給装置５００全体が繰り出し方向の直交方向に移動してラミネートフィルム１０の蛇行を抑止し、これによって、ハーフカット処理の位置ズレが防止される（図６及び図８参照）。

幅方向両端に沿ってハーフカット処理が施されたヒートシール層３１の非接着部３１ａは、ヒートシール層３１から引き剥がされる。非接着部３１ａをヒートシール層３１から引き剥がす際の振動等によって、ラミネートフィルム１０に蛇行が生じないように、非接着部３１ａの引き剥がしは、フィードローラ５０４を通過してから行う。このようにして、フィードローラ５０４とニップローラ５０５とで挟まれた部位よりも送り方向上流側に、非接着部３１ａを引き剥がす際の振動等による影響が及ばないようにし、ラミネートフィルム１０の蛇行を抑止することができる。そして、フィードローラ５０４通過後に、リングブロワー５０８で非接着部３１ａを吸い込んで、ヒートシール層３１から引き剥がし、フィードローラ５０４を通過したラミネートフィルム１０は、ダンサーローラ５０６によって、ラミネートフィルム１０を繰り出す際のフィードローラ５０４による連続送りと、後述するトリミング機構の送り機構７０６のフィードローラ７６０による間欠送りとの送り量の差が吸収される。

ラミネートフィルム１０の送り量の差を吸収するダンサーローラ５０６は、ピール機構と切断線パターン形成機構との間に設ける。そして、このダンサーローラ５０６はアキュームレーター機能を備え、図９に示すように、直線的に上下動自在、且つ自転自在に支持される。
本実施形態においては、ダンサーローラ５０６の両端部を回転自在に支持する軸受５０６ａを、直動ガイドレール５０６ｂにより上下方向に移動可能に配置することで、ダンサーローラ５０６は滑らかに上下に平行移動する。このダンサーローラ５０６の上下動により、ラミネートフィルム１０の前述した送り量の差が吸収され、その自重によってラミネートフィルム１０に張力がかかる。
また、軸受５０６ａの支持は、特に直動ガイドレール５０６ｂに限定するものではなく、その他の直線スライド機構等によりダンサーローラ５０６が直線的に上下動自在、且つ自転自在に支持され、ダンサーローラ５０６が滑らかに平行移動できれば良い。

そして、軸受５０６ａに、支持プーリ５０６ｄに巻き掛けた荷重調節用ワイヤ５０６ｃの一端を取り付けると共に、荷重調節用ワイヤ５０６ｃの他端に、ウェイト５０６ｅを取り付ける。ウェイト５０６ｅは、ダンサーローラ５０６とこれを支持する軸受５０６ａの自重により、これらに鉛直方向下向きに作用する力とのバランスを取るために取り付けられる。これにより、ウェイト５０６ｅの重量を増減させることによって、ラミネートフィルム１０にかかる張力を調節することができ、複雑な張力変動吸収機構や張力制御装置が不要となる。
尚、条件に応じて、荷重調節用ワイヤ５０６ｃの軸受５０６ａ側にウェイト５０６ｅを取り付けても良い。

［切断線パターン形成機構］
導電層切断線パターン形成機構では、図１０に示すように、ラミネートフィルム１０の誘導加熱発熱体３の主部となる位置に、切断線３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ、３３ｅ、３４ａ、３４ｂ、３４ｃを所定のパターンで形成すると共に、被加工領域３０ａにヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂの上端縁部の形状が形成されるように搬送方向に沿って二ヶ所で溶断（分断）し、さらに、前述した抜き孔、又は貫通するスリット３５を形成する導電層切断線パターン形成工程が行われる。
導電層切断線パターンは、導電層３０の導電性材料を溶断し、ヒートシール層３１の樹脂材料を透過する特性のレーザー、例えば、ＹＡＧレーザー、ガラスレーザー等の固体レーザーを利用して導電層３０を選択的に切断することによって形成される。

本実施形態にあっては、二つのレーザー照射装置６０１、６０２を併設しているが（図７及び図８参照）、一方のレーザー照射装置６０１でラミネートフィルム１０の導電層３０に、切断線３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ、３３ｅ、３４ａ、３４ｂ、３４ｃを形成する。また、ラミネートフィルム１０の中央部のヒートシール層３１を取り除いた導電層３０の被加工領域３０ａに、後述するトリミング機構を経て二片の発熱体形成片Ｓ_０とするための切断線Ｃ、Ｃ（図１０参照）を、図示するように、ヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂの上端縁部の形状が形成されるように、その搬送方向に沿って二か所形成する。その後、他方のレーザー照射装置６０２によって、ラミネートフィルム１０の導電層３０とヒートシール層３１を貫通するスリット（対流孔）３５を形成する。このように二つのレーザー照射装置６０１、６０２で分担してレーザー照射を行うことで、効率的に切断線パターンを形成することができる。

［トリミング機構］
トリミング工程では、打ち抜き切断装置７００によって、誘導加熱発熱体３の製造に必要な部分が、発熱体形成片Ｓ_０としてラミネートフィルム１０から打ち抜かれるトリミング工程が行われる（図７、図８及び図１１参照）。

打ち抜き切断装置７００は、切断刃としてのトムソン刃７２１が取り付けられた切断型７０２と、トムソン刃７２１を受ける受け台７０３とを備えている。トムソン刃７２１は、帯状の刃を折り曲げ加工して所定の打ち抜き形状に形成したものであり、切断型７０２の受け台７０３との対向面に取り付けられている。

また、打ち抜き切断装置７００には、フィードローラ７６０とニップローラ７６１とからなる送り機構７０６が、切断型７０２、受け台７０３を間に挟んでラミネートフィルム１０の供給方向の上流側と下流側にそれぞれ設けられている。ラミネートフィルム１０の打ち抜きを行なうにあたり、ラミネートフィルム１０は、このような二つの送り機構７０６によって、弛みの無い緊張状態で受け台７０３上に間欠的に供給される。

切断型７０２は、油圧シリンダなどの駆動機構７２０によって昇降可能とされ、切断型７０２に取り付けられたトムソン刃７２１の刃先が、ラミネートフィルム１０の表面に平行になるように、受け台７０３の上方に配置されている。これにより、切断型７０２を下降させて、受け台７０３上でトムソン刃７２１の刃先の全長をラミネートフィルム１０に対して押し付けることによって、ラミネートフィルム１０から所定の打ち抜き形状の発熱体形成片Ｓ_０が、後述する受け台７０３の搬送方向と直交方向に分断された二片に打ち抜かれる。

受け台７０３の上面には吸引孔７３０が穿設されており、図示しないバキューム装置が、ホース７０７を介して当該吸引孔７３０に連通する通気口７３１に接続されている（図１２及び図１３参照）。これにより、受け台７０３には、受け台７０３の上面に穿設された吸引孔７３０から吸引して、受け台７０３上に供給されたラミネートフィルム１０を固定する。そして、その状態でトムソン刃７２１を押し付けてラミネートフィルム１０を打ち抜き切断した後に、打ち抜かれた発熱体形成片Ｓ_０を、捲れ、或いは位置ずれを生じること無く、そのままの状態で受け台７０３上に保持する。

また、受け台７０３は、例えば、高精度のリニアガイドからなるガイドレール７０８に案内されて移動して、受け台７０３上で打ち抜かれた二片の発熱体形成片Ｓ_０を、そのままの状態で受け台７０３上に保持しながら搬送する搬送機構を有している。そして、ラミネートフィルム１０を打ち抜く際には、切断型７０２の打ち抜き荷重を受ける受け台７０３の負荷が、ガイドレール７０８にダメージを与えないように、受け台７０３がガイドレール７０８から浮き上がった状態となるように、受け台７０３を荷重受けブロック７０５に支持させる。このため、受け台７０３の下方には、エアシリンダなどを備えた昇降機構７０４が設置されており、昇降機構７０４を上昇作動させて受け台７０３を持ち上げつつ、その下方に荷重受けブロック７０５を受け台７０３に摺接することなく移動させ、次いで、昇降機構７０４を下降作動させることによって、受け台７０３が荷重受けブロック７０５に着座し支持される。

受け台７０３を次工程に移動するための駆動手段は特に限定されないが、図示する例では、スライダ型電動シリンダ（例えば、ロボシリンダ（登録商標））７０９を駆動手段として備え（図７参照）、このスライダ型電動シリンダ７０９のスライダに固定された台座７９１を介して受け台７０３を取り付けてある。台座７９１には、受け台７０３を昇降させる昇降機構７０４の動作を妨げないように逃げ部７９２が設けられているとともに、受け台７０３の四隅に穿設された挿通孔７３２に挿通されるガイドピン７９３が垂直に立設されている。台座７９１に立設されたガイドピン７９３を受け台７０３に穿設された挿通孔７３２に挿通することにより、受け台７０３が台座７９１を介してスライダ型電動シリンダ７０９に取り付けられ、これによって、受け台７０３を昇降させる際の水平方向の位置ズレを抑止しつつ、スライダ型電動シリンダ７０９による受け台７０３の移動を可能にしている。

このように、受け台７０３の上面に吸引して保持された発熱体形成片Ｓ_０はラミネートフィルム１０から打ち抜かれ、二片に分断された状態のまま、捲れ、位置ずれを生じること無く所定の方向に搬送される。このため、当該発熱体形成片Ｓ_０を、次工程で精度良く位置決めされるように搬送することができる。
尚、本トリミング機構において、前述した切断線パターン形成機構のレーザー照射装置６０２によるラミネートフィルム１０へのスリット（対流孔）３５の形成を行なっても良い。

［ヒューズ機能部形成機構］
ヒューズ機能部形成機構では、次のようなヒューズ機能部形成工程が行われる。
すなわち、ヒューズ機能部形成機構では、まず、トリミング工程を終え、受け台７０３によって搬送、保持されている二片に分断（受け台７０３の搬送直交方向）された発熱体形成片Ｓ_０を、合掌ユニット８１０で受け取ってヒートシール層３１側を対向させ、
非接着部３１ａが取り除かれたヒートシール層３１の残部の端縁（当該端縁を図６中鎖線で示す）を揃えて二片に分断された発熱体形成片Ｓ_０を重ね合せる（図１５参照）。次いで、重ね合された二片の発熱体形成片Ｓ_０は、第一トランスファーユニット８２０を介して第一ハンドリングチャックユニット８３０に受け渡されて（図１６及び図１７参照）、ヒートシール層３１の当該端縁側、すなわち、ヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂ同士の基部３２０に相当する部分（図５参照）をヒートシールして第一中間体Ｓ_１とする。

次に、第一中間体Ｓ_１は、第二トランスファーユニット８４０を介して第二ハンドリングチャックユニット８５０に受け渡されて（図１８及び図１９参照）、ヒューズ機能部３２の上端縁部側の相当する部位に、超音波溶着によって、ヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂ同士を部分的に溶着した溶着部３２３（図３乃至図５参照）が形成されて第二中間体Ｓ_２とされる。これに続いて、第二中間体Ｓ_２は第三トランスファーユニット８６０を介して展開ユニット８７０に受け渡されて（図２０及び図２１参照）、第二中間体Ｓ_２を展開して、ヒューズ機能部３２が形成された誘導加熱発熱体３とする（図５、図２１及び図２２参照）。

そして、前述した合掌ユニット８１０は、一対の保持アーム８１１を有している。保持アーム８１１の先端側には、基部８１２を介して櫛歯状の保持部８１３が取り付けられており、図示する例では、五本の櫛歯が列設されている。それぞれの保持部８１３の保持面には内部に連通する吸引孔が穿設され、図示しないバキューム装置によって当該吸引孔から吸引することによって、発熱体形成片Ｓ_０を保持できるようになっている。

このような合掌ユニット８１０は、保持部８１３が水平に開いた状態で待機する。発熱体形成片Ｓ_０を保持する受け台７０３が所定の位置に達すると（図１５（ａ）参照）、合掌ユニット８１０は下降して、受け台７０３上に保持された発熱体形成片Ｓ_０を吸引する（図１５（ｂ）参照）。そして、これと入れ替わりに受け台７０３からの吸引を停止することによって、発熱体形成片Ｓ_０の受け渡しがなされ、合掌ユニット８１０は、発熱体形成片Ｓ_０を保持して上昇する（図１５（ｃ）参照）。次いで、所定の位置まで合掌ユニット８１０が上昇すると、保持部８１３が合掌するように一対の保持アーム８１１を対称に回動して、二片の発熱体形成片Ｓ_０を重ね合せて（図１５（ｄ）参照）、吸引を停止する。

次に、第一トランスファーユニット８２０は、合掌ユニット８１０によって重ね合された発熱体形成片Ｓ_０を、第一ハンドリングチャックユニット８３０に受け渡すために、合掌ユニット８１０と第一ハンドリングチャックユニット８３０との間を往復移動し、その移動方向に直交して近接、離間する一対の基部８２１を有している。かかる基部８２１には、櫛歯状に垂下する保持部８２２の櫛歯が、合掌ユニット８１０の保持部８１３に列設された櫛歯の間に入り込んで、互いに干渉し合わない配列で設けられ、図示する例では、四本の櫛歯が列設されている。

この第一トランスファーユニット８２０は、その基部８２１を離間させて保持部８２２が開いた状態で（図１６（ａ）参照）、当該保持部８２２を構成する櫛歯が、合掌ユニット８１０の保持部８１３の櫛歯と互い違いとなる位置まで移動する（図１６（ｂ）参照）。次いで、基部８２１を近接させて保持部８２２を閉じることにより、当該保持部８２２の櫛歯が、合掌ユニット８１０の保持部８１３の櫛歯の間に入り込んで、互いに干渉することなく重ね合された発熱体形成片Ｓ_０を保持する（図１６（ｃ）参照）。これに続いて、合掌ユニット８１０の保持アーム８１１を回動させて保持部８１３を開いて、合掌ユニット８１０を退避させる（図１６（ｄ）参照）。その後、第一トランスファーユニット８２０を移動させて（図１６（ｅ）参照）、第一ハンドリングチャックユニット８３０の待機位置まで発熱体形成片Ｓ_０を重ね合された状態で搬送し、退避した合掌ユニット８１０は待機位置まで戻って前述の動作を繰り返す。

次に、第一ハンドリングチャックユニット８３０は、二片の発熱体形成片Ｓ_０の搬送方向に直交して近接、離間すると共に、対称に回動して開閉する一対の基部８３１に櫛歯状の保持部８３２を有している。かかる保持部８３２の櫛歯は、第一トランスファーユニット８２０の保持部８２２の櫛歯の間に入り込んで互いに干渉し合わないように、前述した合掌ユニット８１０の保持部８１３と同じ配列で設けられている。

そして、第一ハンドリングチャックユニット８３０は、保持部８３２が水平に開いた状態で待機して（図１７（ａ）参照）、発熱体形成片Ｓ_０を重ね合された状態で保持する第一トランスファーユニット８２０が、その保持部８２２の櫛歯と、第一ハンドリングチャックユニット８３０の保持部８３２の櫛歯とが互い違いとなる位置まで移動してくると(図１７（ｂ）参照)、保持部８３２が合掌するように閉じる(図１７（ｃ）参照)。これにより、第一ハンドリングチャックユニット８３０は、その保持部８３２の櫛歯が、第一トランスファーユニット８２０の保持部８２２の櫛歯の間に入り込んで、互いに干渉することなく二片の発熱体形成片Ｓ_０を保持する。
次いで、第一トランスファーユニット８２０の基部８２１を離間させて保持部８２２を開いて（図１７（ｄ）参照）、第一トランスファーユニット８２０を退避させる（図１７（ｅ）参照）。これによって、第一ハンドリングチャックユニット８３０への発熱体形成片Ｓ_０の受け渡しが完了し、退避した第一トランスファーユニット８２０は待機位置まで戻って前述の動作を繰り返す。

そして、第一ハンドリングチャックユニット８３０に受け渡された発熱体形成片Ｓ_０は、ヒートシール装置に搬送されて、ヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂ同士の基部３２０に相当する部分（図５参照）がヒートシールされて第一中間体Ｓ_１とされる。このとき、第一ハンドリングチャックユニット８３０は、ヒートシール装置のヒートシールバーと干渉しないように、ヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂ同士の基部３２０に相当する部分を含む発熱体形成片Ｓ_０の上端縁側を残して二片の発熱体形成片Ｓ_０を保持している。
その後、第一ハンドリングチャックユニット８３０は、第一中間体Ｓ_１を第二トランスファーユニット８４０まで搬送する。

次に、第二トランスファーユニット８４０は、固定された位置で第一ハンドリングチャックユニット８３０から第二ハンドリングチャックユニット８５０への第一中間体Ｓ_１の受け渡しを行うが、これ以外は、第一トランスファーユニット８２０と同様の構成を備えている。

この第二トランスファーユニット８４０は、その基部８４１を離間させて保持部８４２が開いた状態で待機し（図１８（ａ）参照）、第一中間体Ｓ_１を保持する第一ハンドリングチャックユニット８３０が、その保持部８３２と、第二トランスファーユニット８４０の保持部８４２を構成する櫛歯とが互い違いとなる位置まで移動してくると（図１８（ｂ）参照）、基部８４１を近接させることによって保持部８４２を閉じる。これにより、第二トランスファーユニット８４０は、その保持部８４２の櫛歯が、第一ハンドリングチャックユニット８３０の保持部８３２の櫛歯の間に入り込んで、互いに干渉することなく第一中間体Ｓ_１を保持する（図１８（ｃ）参照）。

次いで、第一ハンドリングチャックユニット８３０の保持部８３２を開いて（図１８（ｄ）参照）、第一ハンドリングチャックユニット８３０を退避させる（図１８（ｅ）参照）。退避した第一ハンドリングチャックユニット８３０は、待機位置まで戻って前述の動作を繰り返す。

次に、第二ハンドリングチャックユニット８５０は、第一ハンドリングチャックユニット８３０と同様の構成とされ、櫛歯状の保持部８５２が水平に開いた状態で（図１９（ａ）参照）、その保持部８５２の櫛歯が、第二トランスファーユニット８４０の保持部８４２の櫛歯と互い違いとなる位置まで移動する（図１９（ｂ）参照）。次いで、保持部８５２が合掌するように閉じることにより(図１９（ｃ）参照)、保持部８５２の櫛歯が、第二トランスファーユニット８４０の保持部８４２の櫛歯の間に入り込んで、互いに干渉することなく第一中間体Ｓ_１を保持する。
次いで、第二トランスファーユニット８４０の基部８４１を離間させて保持部８４２を開くことによって（図１９（ｄ）参照）、第二ハンドリングチャックユニット８５０への第一中間体Ｓ_１の受け渡しが完了する。

そして、第二ハンドリングチャックユニット８５０に受け渡された第一中間体Ｓ_１は、超音波融着装置に搬送されて、ヒューズ機能部３２の上端縁部側の部位を超音波溶着し、ヒューズ機能部形成片３２ａ，３２ｂ同士を部分的に溶着した溶着部３２３（図３乃至図５参照）を形成して第二中間体Ｓ_２とする。
このような溶着部３２３は、例えば、超音波ホーンとアンビルとの間に第一中間体Ｓ_１のヒューズ機能部３２の上端縁部側の相当する部位を挟み、超音波振動によって導電層３０同士を部分的に溶融、圧着することによって形成することができる。
その後、第二ハンドリングチャックユニット８５０は、第二中間体Ｓ_２を第三トランスファーユニット８６０まで搬送する。

次に、第三トランスファーユニット８６０は、第二中間体Ｓ_２の移送方向に直交して近接、離間する一対の基部８６１を有しているが、他のトランスファーユニットのように保持部８６２は櫛歯状になっていない。
このような第三トランスファーユニット８６０は、その基部８６１を離間させて保持部８６２が開いた状態で待機する（図２０（ａ）参照）。そして、第二中間体Ｓ_２を保持する第二ハンドリングチャックユニット８５０が、その待機位置まで移動してくると（図２０（ｂ）参照）、基部８６１を近接させることによって保持部８６２を閉じて第二中間体Ｓ_２の上縁側を保持する（図２０（ｃ）参照）。
次いで、第二ハンドリングチャックユニット８５０の保持部８５２を開いて（図２０（ｄ）参照）、第二ハンドリングチャックユニット８５０を退避させる（図２０（ｅ）参照）。退避した第二ハンドリングチャックユニット８５０は待機位置まで戻って前述の動作を繰り返す。

そして、この第三トランスファーユニット８６０は、第二中間体Ｓ_２を展開ユニット８７０に受け渡すために、第二ハンドリングチャックユニット８５０から受け取った第二中間体Ｓ_２を、展開ユニット８７０の待機位置まで搬送する。
次に、展開ユニット８７０は、前述した合掌ユニット８１０と同様の構成とされ、櫛歯状の保持部８７３が水平に開いた状態で待機する（図２１（ａ）参照）。次いで、展開ユニット８７０の保持部８７３の間に、第三トランスファーユニット８６０に保持された第二中間体Ｓ_２が搬送されてくると（図２１（ｂ）参照）、保持部８７３が合掌するように一対の保持アーム８７１が対称に回動して、第二中間体Ｓ_２に保持部８７３が押し当てられる（図２１（ｃ）参照）。次いで、その状態で吸引を開始して、保持アーム８７１を回動させて保持部８７３を開くことにより（図２１（ｄ）参照）、第二中間体Ｓ_２は、第三トランスファーユニット８６０の下端縁に沿って図５に示すように折り曲げられながら展開され、第三トランスファーユニット８６０で保持された上縁側の部分がヒューズ機能部３２として形成される。
尚、展開ユニット８７０の保持部８７３は、必ずしも櫛歯状とする必要はない。

この第二中間体Ｓ_２の展開が完了すると、第三トランスファーユニット８６０の基部８６１を離間させて保持部８６２を開いて（図２１（ｅ）参照）、第三トランスファーユニット８６０を退避させる（図２２（ａ）参照）。退避した第三トランスファーユニット８６０は待機位置まで戻って前述の動作を繰り返す。

次いで、展開ユニット８７０は、ヒューズ機能部３２が形成された誘導加熱発熱体３を吸引したまま下降して、搬出台８８０が誘導加熱発熱体３を吸引するのと入れ替わりに、展開ユニット８７０の吸引を停止して、当該誘導加熱発熱体３を搬出台８８０に受け渡す（図２２（ｂ）参照）。その後、展開ユニット８７０は上昇し（図２２（ｃ）参照）、待機位置まで戻って前述の動作を繰り返す。
また、搬出台８８０は、前述した打ち抜き切断装置７００が備える受け台７０３と同様の構成とされ、搬出台８８０上に誘導加熱発熱体３を吸引して保持する。さらに、搬出台８８０は、図示しない搬送機構によって移動可能とされ、展開ユニット８７０から受け渡された誘導加熱発熱体３を、例えば、容器本体２に取り付けるヒートシール工程へと搬出する。

そして、そのヒートシール工程は図示しないが、前述した誘導加熱発熱体３の、電磁調理器が備える電磁誘導加熱コイルの中心回りの強い渦電流が誘起されず、それほど高温とならない切断線３３ａよりも内側の切断線３４ａによって複数に区画された中央部領域、切断線３３ｅよりも外側の切断線３４ｃによって複数に分割された周縁部領域、及び発熱を抑制した切断線３３ｂ、３３ｃとの間の切断線３４ｂによって複数に分割された主加熱領域におけるヒートシール層３１を、容器本体２にヒートシールする。
尚、容器本体２と誘導加熱発熱体３のヒートシールは、前述した中央部領域、周縁部領域、或いは主加熱領域を適宜選択して行ってもよい。
このように、誘導加熱発熱体３を容器本体２にヒートシールことにより、加熱時の容器本体２の損傷が防止される。

このような本実施形態に係る誘導加熱発熱体の製造装置及び製造方法によれば、高周波磁界により渦電流が誘起されて発熱する導電性材料からなる導電層３０を有し、かかる導電層３０に、選択的に過剰に発熱して破断するヒューズ機能部３２が形成された誘導加熱発熱体３を、工業的に再現性良く製造することができる。

以上、本発明について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。

以上説明したように、本発明は、市販の電磁調理器により、安全、かつ、手軽に、被加熱物を加熱することができる誘導加熱容器に用いられる誘導加熱発熱体が提供される。

１０ ラミネートフィルム
３ 誘導加熱発熱体
３０ 導電層
３０ａ 被加工領域
３１ ヒートシール層
３１ａ 非接着部
３１ｂ 接着剤層
３２ ヒューズ機能部
３２ａ，３２ｂ ヒューズ機能部形成片
３２３ 溶着部
３３ａ〜３３ｅ 切断線
３４ａ〜３４ｃ 切断線
７００ 打ち抜き切断装置
７０２ 切断型
７２１ トムソン刃（切断刃）
７０３ 受け台
７３０ 吸引孔
７３２ 挿通孔
７０４ 昇降機構
７０５ 荷重受けブロック
８１０ 合掌ユニット
８２０ 第一トランスファーユニット
８３０ 第一ハンドリングチャックユニット
８４０ 第二トランスファーユニット
８５０ 第二ハンドリングチャックユニット
８６０ 第三トランスファーユニット
８７０ 展開ユニット
Ｓ_０ 発熱体形成片
Ｓ_１ 第一中間体
Ｓ_２ 第二中間体

Claims (7)

1. 高周波磁界により渦電流が誘起されて発熱する導電層とヒートシール層とから成り、前記導電層が切断線によって区画され、ヒューズ機能部を備える誘導加熱発熱体の製造装置であって、
   前記導電層に前記ヒートシール層を積層してなるラミネートフィルムを繰り出しながら、レーザー光を照射して前記ヒートシール層の非接着部の幅方向両端に沿ってハーフカット処理を施し、次いで、前記非接着部を前記ヒートシール層から引き剥がして被加工領域を形成するピール機構、
   前記導電層にレーザー光を照射して前記切断線を所定のパターンで形成する切断線パターン形成機構、
   前記ラミネートフィルムから発熱体形成片を打ち抜くトリミング機構、
   前記発熱体形成片のヒートシール層側を対向させて重ね合せ、前記被加工領域側のヒートシール層をヒートシールし、次いで、前記発熱体片の上端部同士を部分的に溶着して前記ヒューズ機能部を形成するヒューズ機能部形成機構
   を含むことを特徴とする誘導加熱発熱体の製造装置。
2. 前記ピール機構と前記切断線パターン形成機構の間にダンサーローラを設け、前記ダンサーローラを直線的に上下動自在、且つ自転自在に支持し、自重によって前記ラミネートフィルムにかかる張力を、前記ダンサーローラにウェイトを取り付けて調節可能とした請求項１に記載の誘導加熱発熱体の製造装置。
3. 前記トリミング機構が、
   切断刃が取り付けられた切断型と、前記切断刃を受ける受け台とを備え、
   前記受け台が、ガイドレールに案内されて前記発熱体形成片を前記受け台上に保持しながら搬送する搬送機構を有するとともに、
   前記ラミネートフィルムを打ち抜き切断する際に、前記受け台が前記ガイドレールから浮き上がった状態となるように、前記受け台を支持する荷重受けブロックを有する請求項１又は２に記載の誘導加熱発熱体の製造装置。
4. 前記受け台が、前記受け台の上面に穿設された吸引孔から吸引して、前記受け台上に供給された前記ラミネートフィルムを固定し、前記ラミネートフィルムから打ち抜かれた発熱体形成片を、前記受け台上に保持する吸引機構を有する請求項３に記載の誘導加熱発熱体の製造装置。
5. 前記ヒューズ機能部形成機構が、
   前記合掌ユニットにより重ね合された前記発熱体形成片を、第一トランスファーユニットを介して第一ハンドリングチャックユニットに受け渡して、前記第一ハンドリングチャックユニットに保持された前記発熱体形成を、前記ヒートシール層の前記端縁側をヒートシールして第一中間体とし、
   前記第一中間体を、第二トランスファーユニットを介して第二ハンドリングチャックユニットに受け渡して、前記第二ハンドリングチャックユニットに保持された前記第一中間体を、超音波溶着によって前記溶着部が形成された第二中間体とし、
   前記第二中間体を、第三トランスファーユニットを介して展開ユニットに受け渡し、前記展開ユニットにより前記第二中間体を前記第三トランスファーユニットの下端縁に沿って折り曲げながら展開し、前記第三トランスファーユニットで保持された上縁側の部分をヒューズ機能部として形成する請求項１乃至４のいずれか一項に記載の誘導加熱発熱体の製造装置。
6. 前記合掌ユニット、第一トランスファーユニット、第一ハンドリングチャックユニット、第二トランスファーユニット、及び第二ハンドリングチャックユニットに櫛歯状の保持部を設け、前記保持部を開閉させる請求項５に記載の誘導加熱発熱体の製造装置。
7. 高周波磁界により渦電流が誘起されて発熱する導電層とヒートシール層とから成り、前記導電層が切断線によって区画され、ヒューズ機能部を備える誘導加熱発熱体の製造方法であって、
   前記導電層に前記ヒートシール層を積層してなるラミネートフィルムを用意し、前記ヒートシール層の非接着部を前記ヒートシール層から引き剥がして被加工領域を形成するピール工程、
   前記導電層に前記切断線を所定のパターンで形成する切断線パターン形成工程、
   前記ラミネートフィルムから発熱体形成片を打ち抜くトリミング工程、
   前記発熱体形成片のヒートシール層側を対向させて重ね合せ、前記被加工領域側のヒートシール層をヒートシールし、次いで、前記発熱体形成片の上端縁部側同士を部分的に溶着して前記ヒューズ機能部を形成するヒューズ機能部形成工程
   を含むことを特徴とする誘導加熱発熱体の製造方法。

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