JP2015153782A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】サポート基板を半導体ウエハから適切に剥離するための技術を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法であって、第1表面22と第1表面22に対して傾斜する第2表面24を有するサポート基板20の第2表面24をコーティング剤30でコーティングする工程と、コーティングする工程の後に、接着剤50によって第1表面22に半導体ウエハ10を固定する工程と、サポート基板20側から第1表面22着している接着剤50に向かって、サポート基板20に対して透過性を有する波長のレーザビーム70を照射することによって、サポート基板20を半導体ウエハ10から剥離する工程、を有する。接着剤50は、第1表面22に対する接着性よりも、コーティング剤30に対する接着性が低い。
【選択図】図5
【解決手段】半導体装置の製造方法であって、第1表面22と第1表面22に対して傾斜する第2表面24を有するサポート基板20の第2表面24をコーティング剤30でコーティングする工程と、コーティングする工程の後に、接着剤50によって第1表面22に半導体ウエハ10を固定する工程と、サポート基板20側から第1表面22着している接着剤50に向かって、サポート基板20に対して透過性を有する波長のレーザビーム70を照射することによって、サポート基板20を半導体ウエハ10から剥離する工程、を有する。接着剤50は、第1表面22に対する接着性よりも、コーティング剤30に対する接着性が低い。
【選択図】図5
Description
本明細書では、半導体装置の製造方法に関する。
特許文献1には、ウエハの加工方法が開示されている。当該加工方法では、耐熱性ボンド剤によってウエハに補強プレートが固定された状態で、ウエハを加工する。補強プレートによってウエハが補強されるため、加工中にウエハが破損し難い。加工後に、補強プレート側から補強プレートを透過するレーザビームを照射し、耐熱性ボンド剤の接着力を低下させる。これによって、補強プレートをウエハから除去する。
補強プレートのウエハ接着面が、ウエハに平行な平面と、その平面に対して傾斜する傾斜面を有する場合がある。このような構成によれば、補強プレートの破損を抑止することができる。しかしながら、このような構成によると、レーザビームの進行方向は、前記平面に対して垂直となるが、前記傾斜面に対しては垂直とならない。そのため、レーザビームは、前記傾斜面で散乱され、前記傾斜面に接着している接着剤の接着力を十分に低下させることができない。このため、ウエハを補強プレートから適切に剥離させることができない場合がある。
本明細書では、サポート基板を半導体ウエハから適切に剥離するための技術を提供する。
本明細書によって開示される半導体装置の製造方法は、第1表面と第1表面に対して傾斜する第2表面を有するサポート基板の第2表面をコーティング剤でコーティングする工程と、コーティングする工程の後に、接着剤によって第1表面に半導体ウエハを固定する工程と、サポート基板側から第1表面に接着している接着剤に向かって、サポート基板に対して透過性を有する波長のレーザビームを照射することによって、サポート基板を半導体ウエハから剥離する工程、を有する。接着剤の第1表面に対する接着性よりも、接着剤のコーティング剤に対する接着性が低い。
なお、上記の「接着剤のコーティング剤に対する接着性が低い」とは、接着剤がコーティング剤に付着し難いこと、または、コーティング剤に付着した状態の接着剤がコーティング剤から剥離し易い(より弱い力で剥離する)ことを意味する。
上記の構成によると、サポート基板の第2表面がコーティング剤でコーティングされることにより、固定する工程において、接着剤が第2表面に付着しにくくなっているか、接着剤が第2表面に接着していても剥離し易い状態となっている。そのため、第1表面に接着している接着剤にレーザビームを照射することで、半導体ウエハをサポート基板から容易に剥離することができる。
固定する工程において、接着剤が第2表面に接着しなくてもよい。また、コーティング剤が前記接着剤に対して撥水性を有していてもよい。
(第1実施例)
本実施例に係る製造方法では、図1に示す半導体ウエハ10を用いて半導体装置を製造する。半導体ウエハ10は、略円板状であり、上面12と下面14を有する。半導体ウエハ10は、例えば、シリコン(Si)炭化ケイ素(SiC)、又は、窒化ガリウム(GaN)等の半導体材料により構成されている。
本実施例に係る製造方法では、図1に示す半導体ウエハ10を用いて半導体装置を製造する。半導体ウエハ10は、略円板状であり、上面12と下面14を有する。半導体ウエハ10は、例えば、シリコン(Si)炭化ケイ素(SiC)、又は、窒化ガリウム(GaN)等の半導体材料により構成されている。
続いて、本実施例の半導体装置の製造方法で利用されるサポート基板20について説明する。図2に示すサポート基板20は、半導体ウエハ10を固定するための基板である。サポート基板20は、略円板状である。サポート基板20の上面は、第1表面22と第2表面24を有する。第1表面22は平坦な平面である。本実施例では、第1表面22の直径は、半導体ウエハ10の直径よりも大きい。そのため、第1表面22に半導体ウエハ10を固定した場合に、半導体ウエハ10は第1表面22からはみ出さない。第2表面24は、第1表面22よりも外周側に配置されている。第2表面24は、第1表面22の周囲を一巡するように形成されている。半導体ウエハ10をその径方向に見たときに、第2表面24は、第1表面22に対して傾斜している。より詳細には、第1表面22を上方に向けて水平に載置した際に、第2表面24が第1表面22から斜め下方に伸びている。サポート基板20の裏面は、第3表面26と第4表面28を有している。第3表面26は、第1表面22に平行な平面である。第4表面28は、第2表面24の裏側に位置する。第4表面28は、第3表面26に対して傾斜している。すなわち、第2表面24及び第4表面28は、テーパ状に形成されており、これによって、第2表面24及び第4表面28に相当する部分のサポート基板20の厚みが薄くなっている。このようにサポート基板20の外周近傍の表面が面取りされていることで、サポート基板20のチッピングが抑制される。サポート基板20は、ガラス又はサファイアを材料とする。
続いて、本実施例の半導体装置の製造方法を説明する。まず、サポート基板20の第2表面24をコーティング剤30でコーティングする。コーティング剤30は、フッ素樹脂又は金を材料とする。
具体的には、コーティングする工程は、以下の手順で実施される。まず、図2に示すように、サポート基板20を回転ステージ32に載置する。回転ステージ32は、略円形の水平面を有する。回転ステージ32は、鉛直方向の軸34を回転軸として回転運動可能である。サポート基板20は、サポート基板20の重心が軸34の上方に位置するように回転ステージ32に載置される。コーティング剤30は、吐出孔44から鉛直下向きに吐出される。吐出孔44は、サポート基板20が回転ステージ32に載置された状態で、第2表面24の上方に位置する。吐出孔44は、回転ステージ32の径方向に移動可能である。コーティング剤30が吐出孔44から吐出している状態で、回転ステージ32を回転させつつ、吐出孔44を第2表面24の上方の範囲で移動させることによって、第2表面24をコーティング剤30でコーティングする。なお、過剰なコーティング剤30は、遠心力によってサポート基板20の外側に流れ落ちる。これによって、第2表面24が好適にコーティングされる。また、第1表面22は、コーティング剤30によってその外周部のみが部分的にコーティングされるが、第1表面22の中心側の大部分はコーティングされない。
次いで、コーティング済みのサポート基板20に対して焼き付けを行う。具体的には、コーティング済みのサポート基板20をベーク炉に入れて加熱する。これにより、コーティング剤30は、サポート基板20の第2表面24に定着する。
次いで、図3に示されるように、接着剤50をサポート基板20上に塗布する。接着剤50は、ポリイミド等の有機系接着剤である。
具体的には、接着剤50を接着する工程は、以下の手順で実施される。まず、サポート基板20を回転ステージ32に載置し、回転ステージ32によってサポート基板20を回転させる。次に、サポート基板20が回転している状態で、吐出孔54からサポート基板20の第1表面22に向けて接着剤を吐出する。吐出孔54は、サポート基板20が回転ステージ32に載置された状態で、第1表面22の上方(軸34の上方)に位置する。したがって、吐出孔54から吐出された接着剤50は、サポート基板20の中心付近に付着する。次いで、接着剤50は、遠心力によってサポート基板20の外側に向かって流れる。これにより、接着剤50は、第1表面22全体に付着する。また、コーティング剤30は、接着剤50に対して撥水性を有する。したがって、第2表面24まで流れた接着剤50は、第2表面24上に留まることなく、サポート基板20の外側に流れ落ちる。即ち、接着剤50は、コーティング剤30に付着しない。
次いで、サポート基板20をベーク炉に入れて加熱する。これによって、サポート基板20に接着した接着剤50に含まれる溶剤を揮発させる。これによって、接着剤50は、ある程度の弾性を有するとともに、粘着性を有する層となる。
次いで、図4に示されるように、接着剤50を介してサポート基板20に半導体ウエハ10を固定する。
具体的には、固定する工程は、以下の手順で実施される。まず、半導体ウエハ10を、上面12を上向きにして、張り合わせステージ60上に載置する。次いで、接着剤50を塗布済みのサポート基板20を、第1表面22(即ち、接着剤50が塗布された面)を下向きにして、サポート基板20上に載置する。さらに、サポート基板20の第3表面26上に張り合わせプレート62を載置する。次に、張り合わせプレート62に鉛直下向きに圧力を加える。その結果、半導体ウエハ10とサポート基板20によって接着剤50が加圧され、接着剤50が半導体ウエハ10に対して隙間なく密着する。これにより、半導体ウエハ10がサポート基板20に接着される。
張り合わせプレート62に圧力を加える際、接着剤50は、半導体ウエハ10に押圧されてサポート基板20上に広がる。しかしながら、接着剤50がコーティング剤30に付着し難いため、接着剤50がコーティング剤30まで広がることが抑制される。この場合、接着剤50が半導体ウエハ10の周囲において下側(半導体ウエハ10の厚み方向)に盛り上がる。このように接着剤50盛り上がると、半導体ウエハ10の外周面の一部にも接着剤50が付着する。これによって、この外周面が接着剤50で保護され、後述する半導体ウエハ10に対する加工において、半導体ウエハ10が破損し難くなる。
次いで、サポート基板20の第1表面22に半導体ウエハ10を固定した状態で、半導体ウエハ10を加工する。具体的には、イオン注入、半導体ウエハ10の裏面の研削(すなわち、半導体ウエハ10の薄板化)等を行い、半導体ウエハ10内に半導体装置の構造を形成する。
次いで、図5に示されるように、サポート基板20を半導体ウエハ10から剥離する。剥離する工程では、レーザビーム70が利用される。レーザビーム70は、サポート基板20に対して透過性を有する波長を有する。
剥離する工程は、具体的には、以下の手順で実施される。まず、サポート基板20を、第3表面26を下向きにして載置する。次いで、サポート基板20側から、第1表面22に接着している接着剤50に向かって、鉛直上向きにレーザビーム70を照射する。レーザビーム70は、水平方向に走査可能である。レーザビーム70は、第3表面26に対して垂直にサポート基板20内に入射する。レーザビーム70は、サポート基板20内を通過し、第1表面22に接着している(即ちサポート基板20に接着している)接着剤50に照射される。なお、レーザビーム70は、第1表面22及び第3表面26に対して垂直に照射されるために、第1表面22及び3表面26によって散乱されにくい。したがって、十分な強度のレーザビーム70を接着剤50に照射することができる。レーザビーム70の照射を受けることで、接着剤50が変質し、その接着力が低下する。
次いで、剥離済みの半導体ウエハ10に残存する接着剤50をメチルエチルケトン等の溶剤で洗浄する。これにより、残存する接着剤50が、半導体ウエハ10から除去される。その後、必要な加工を行い、半導体ウエハ10をダイシングすることで、半導体装置が製造される。
本実施例の製造方法によると、サポート基板20の第2表面24をコーティング剤30でコーティングした後に、接着剤50によって第1表面22に半導体ウエハ10を固定する。さらに、サポート基板20側から第1表面22に接着している接着剤50に向かって、サポート基板20に対して透過性を有する波長のレーザビーム70を照射することによって、サポート基板20を半導体ウエハ10から剥離する。固定する工程では、第2表面24がコーティング剤30でコーティングされることにより、第2表面24に接着剤が付着することが防止される。このため、剥離する工程において、第1表面22に接着している接着剤50に向けてレーザビームを照射するだけで、半導体ウエハ10をサポート基板20から剥離させることができる。
なお、上述した実施例では、接着剤50を塗布する工程及びサポート基板20に半導体ウエハ10を固定する工程においてコーティング剤30に接着剤50が付着しなかったが、これらの工程においてコーティング剤30の一部または全体に接着剤が付着してもよい。このような場合でも、コーティング剤30と接着剤50の間の接着力が弱ければ、剥離する工程においてコーティング剤30から接着剤50を容易に剥離させることができる。
また、コーティング剤30に接着剤50が接着している場合には、剥離する工程において、レーザビーム70をコーティング剤30に接着している接着剤50に向けて照射してもよい。第2表面24及び第4表面28が傾斜しているため、レーザビーム70は第2表面24及び第4表面28で散乱され、コーティング剤30に接着している接着剤50に照射されるレーザビーム70の強度は弱い。しかしながら、コーティング剤30と接着剤50の間の接着力が弱いため、強度が弱いレーザビーム70を照射することでも、コーティング剤30に接着している接着剤50を容易に剥離させることができる。
また、上述した実施例では、第1表面22が部分的にコーティングされていたが、第2表面24のみをコーティングするようにしてもよい。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
10:半導体ウエハ、12:上面、14:下面、20:サポート基板、22:第1表面、24:第2表面、26:第3表面、28第4表面、32:回転ステージ、34:軸、44、54:吐出孔、60:ステージ、62:プレート、70:レーザビーム
Claims (3)
- 半導体装置の製造方法であって、
第1表面と第1表面に対して傾斜する第2表面を有するサポート基板の前記第2表面をコーティング剤でコーティングする工程と、
コーティングする前記工程の後に、接着剤によって前記第1表面に半導体ウエハを固定する工程と、
前記サポート基板側から前記第1表面に接着している前記接着剤に向かって、前記サポート基板に対して透過性を有する波長のレーザビームを照射することによって、前記サポート基板を前記半導体ウエハから剥離する工程、
を有し、
前記接着剤の前記第1表面に対する接着性よりも、前記接着剤の前記コーティング剤に対する接着性が低い、
製造方法。 - 前記固定する工程において、前記接着剤が第2表面に接着しない請求項1の製造方法。
- 前記コーティング剤が前記接着剤に対して撥水性を有する請求項1又は2の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014023861A JP2015153782A (ja) | 2014-02-10 | 2014-02-10 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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