JP2015151932A - 真空ポンプ、及びこの真空ポンプに用いられる断熱スペーサ - Google Patents

Abstract

【課題】ネジ溝部内でのガスの固化を抑制する真空ポンプ及び真空ポンプに用いられる断熱スペーサを提供する。
【解決手段】真空ポンプ１は、ケーシング１０とネジ溝部７１を有する外周側ステータ７０との間に介装され、ケーシング１０と外周側ステータ７０との間に隙間を空けた状態で外周側ステータ７０をロータ２０と同軸上でロータ径方向に支持し、ケーシング１０及び外周側ステータ７０より低熱伝導率の断熱スペーサ９０を備えている。
【選択図】図１

Description

本発明は、真空ポンプ及び該真空ポンプに用いられる断熱スペーサに関するものであり、特に、低真空から超高真空に亘る圧力範囲で利用可能な真空ポンプ及び該真空ポンプに用いられる断熱スペーサに関する。

メモリや集積回路等の半導体装置を製造する際、空気中の塵等による影響を避けるために高真空状態のチャンバ内で高純度の半導体基板（ウェハ）にドーピングやエッチングを行う必要があり、チャンバ内の排気には、例えば、ターボ分子ポンプ等の真空ポンプが使用されている。

このような真空ポンプとして、円筒状のケーシングと、ケーシング内に入れ子で固定されると共にネジ溝部が配設された円筒状のステータと、ステータ内で高速回転可能に支持されたロータと、ケーシングの温度を所定量以上に維持する加熱手段と、を備えているものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

この真空ポンプでは、図４に示すように、真空ポンプ１００の運転中において、ロータ１０１の熱及び該ロータ１０１を回転させる図示しない駆動モータの熱によって、ロータ１０１及びロータ１０１を囲繞するステータ１０２が昇温されると共に、図示しない加熱手段で外部から強制的にケーシング１０３を加熱することにより、ネジ溝部１０４内を圧縮されながら移送されるガスが、ネジ溝部１０４内で固化して堆積することを抑制している。

特開２００３−２７８６９２号公報。

しかしながら、上述したような真空ポンプでは、図４に示すように、ステータ１０２がロータ１０１と同軸に位置決めされるように、ステータ１０２がロータ１０１の回転軸に対して垂直なロータ径方向Ｒをケーシング１０３に支持されることにより、ステータ１０２の熱がステータ１０２とケーシング１０３との接触部分Ｃを介してステータ１０２より低温のケーシング１０３に逃熱しがちなため、ステータ１０２の温度を所望の値以上に維持し難いという問題があった。

また、ステータ１０２の温度が上昇するにしたがって、ステータ１０２が熱膨張して図４中の矢印の向きに拡径することにより、ステータ１０２とケーシング１０３とが高い接触面圧で接触し、ステータ１０２とケーシング１０３との間の接触面における熱抵抗が著しく低下するため、ステータ１０２からケーシング１０３に更に逃熱し易いという問題があった。

このように、ステータ１０２の熱がケーシング１０３に逃熱することにより、ステータ１０２の温度がガスの昇華点を下回り、ネジ溝ポンプ部１０４内を移送される高圧に圧縮されたガスが固化して堆積し、ガスの流路を狭めて、真空ポンプ１００の圧縮性能、排気性能が低下するという問題があった。

そこで、ネジ溝部内でのガスの固化を抑制するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明は、この課題を解決することを目的とする。

本発明は、上記目的を達成するために提案するものであり、請求項１記載の発明は、ケーシングと、該ケーシング内で回転可能に軸支されてロータ円筒部を有するロータと、前記ケーシングと前記ロータ円筒部との間に前記ロータと同軸上に配置された略円筒状のステータと、前記ロータ円筒部の外周面又は前記ステータの内周面の何れか一方に刻設されたネジ溝部と、を備えた真空ポンプであって、前記ケーシングと前記ステータとの間に介装され、前記ケーシングと前記ステータとの間に隙間を空けた状態で前記ステータをロータ径方向に支持し、前記ケーシング又は前記ステータの少なくとも一方より低熱伝導率の断熱スペーサを備えている真空ポンプを提供する。

この構成によれば、ステータが低熱伝導率の断熱スペーサを介してロータ径方向に支持されていることにより、ステータがロータ径方向でケーシングに間接的に支持されるため、ステータの熱がケーシングに逃熱することを抑制することができる。

また、断熱スペーサがステータとケーシングとの間に隙間を確保した状態でステータをロータ径方向に支持するため、ステータが熱膨張して拡径する場合であっても、ステータがケーシングを強く押圧することを回避して、ステータとケーシングとの間の接触抵抗が著しく低下することに起因するステータの逃熱を抑制することができる。

請求項２記載の発明は、請求項１記載の真空ポンプの構成に加えて、前記断熱スペーサは、前記ステータをロータ軸方向にも支持している真空ポンプを提供する。

この構成によれば、ステータが低熱伝導率の断熱スペーサを介してケーシングにロータ径方向及びロータ軸方向に夫々支持されることにより、ステータがロータ径方向及びロータ軸方向でケーシングに直接接触することなく収容されるため、ステータの逃熱を更に抑制することができる。

請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の真空ポンプの構成に加えて、前記ケーシングは、円筒部と、該円筒部の下部に設けられたベースと、を備え、前記断熱スペーサは、ロータ軸方向に沿って延伸され、前記ベースと前記ステータの外周面に周設されたフランジとの間に介装される略円筒状の軸方向支持部と、該軸方向支持部の外周面に周設され、前記ケーシングの内周面に当接する第１の径方向支持部と、前記軸方向支持部の内周面に周設され、前記ステータの外周面に当接する第２の径方向支持部と、を備えている真空ポンプを提供する。

この構成によれば、軸方向支持部がステータをロータ軸方向に支持すると共に、第１の径方向支持部と第２の径方向支持部とがステータをロータ径方向に支持することにより、ステータが低熱伝導率の断熱スペーサを介してケーシングに直接接触することなく収容されるため、ステータの逃熱を抑制することができる。

請求項４記載の発明は、請求項３記載の真空ポンプの構成に加えて、前記第１の径方向支持部は、前記軸方向支持部の一方端側に配置され、前記第２の径方向支持部は、前記軸方向支持部の他方端側に配置されている真空ポンプを提供する。

この構成によれば、断熱スペーサ内の伝熱経路が長くなるため、ステータの逃熱を更に抑制することができる。

請求項５記載の発明は、請求項３又は４記載の真空ポンプの構成に加えて、前記軸方向支持部は、前記第１の径方向支持部より低剛性に形成され、前記ステータの熱膨張に応じて前記ロータ径方向に撓む真空ポンプを提供する。

この構成によれば、軸方向支持部がステータの熱膨張に応じてロータ径方向の外側に撓むことができるため、ステータが熱膨張して拡径する場合であっても、ステータと第２の径方向支持部とが過度に密着してステータと断熱スペーサとの間の接触抵抗が著しく低下することに起因するステータの逃熱を抑制することができる。

請求項６記載の発明は、請求項３乃至５の何れか１項記載の真空ポンプの構成に加えて、前記軸方向支持部の一方端は、前記第１の径方向支持部よりも前記ロータ軸方向の下方に延伸され、前記ベースに当接している真空ポンプを提供する。

この構成によれば、軸方向支持部が第１の径方向支持部よりロータ軸方向の下方に延伸されていることにより、ベースと第１の径方向支持部との間に隙間が確保されることにより、第１の径方向支持部とベースとが省面積で接触するため、ステータの逃熱を更に抑制することができる。

請求項７記載の発明は、請求項１乃至６の何れか１項記載の真空ポンプに用いられる断熱スペーサを提供する。

この構成によれば、ステータ及びケーシングより低熱伝導率の断熱スペーサが、ステータからケーシングへの逃熱を抑制すると共にステータとケーシングとの間に隙間を確保しながらステータをロータ径方向に支持可能なため、ステータの熱がケーシングに逃熱することを抑制することができる。

本発明に係る真空ポンプは、ステータからケーシングへの逃熱が抑制されることにより、ステータの温度がネジ溝部内を移送されるガスの昇華点以下に低下することが抑制されるため、ネジ溝部内でのガスの固化を抑制することができる。

本発明に係る断熱スペーサは、ステータからケーシングへの逃熱が抑制されることにより、ステータの温度がネジ溝部内を移送されるガスの昇華点以下に低下することが抑制されるため、ネジ溝部内でのガスの固化を抑制することができる。

本発明の一実施例に係る真空ポンプを示す断面図。 図１に示す断熱スペーサの図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）中のＩＩＢ線断面図、（ｃ）は（ｂ）の断面要部拡大図。 図１に示す真空ポンプの断熱スペーサの作用を説明する模式図であり、（ａ）は、外周側ステータが熱膨張する前の状態を示す図、（ｂ）は、外周側ステータが熱膨張した後の状態を示す図。 従来の真空ポンプに適用されるケーシングとステータとの組み付け状態を示す模式図。

本発明は、ネジ溝部内でのガスの固化を抑制するという目的を達成するために、ケーシングと、ケーシング内で回転可能に軸支されてロータ円筒部を有するロータと、ケーシングとロータ円筒部との間にロータと同軸上に配置された略円筒状のステータと、ロータ円筒部の外周面又はステータの内周面の何れか一方に刻設されたネジ溝部と、を備えた真空ポンプであって、ケーシングとステータとの間に介装され、ケーシングとステータとの間に隙間を空けた状態でステータをロータ径方向に支持し、ケーシング又はステータの少なくとも一方より低熱伝導率の断熱スペーサを備えていることにより実現した。

また、本発明は、ネジ溝部内でのガスの固化を抑制するという目的を達成するために、ケーシングと、ケーシング内で回転可能に軸支されてロータ円筒部を有するロータと、ケーシングとロータ円筒部との間にロータと同軸上に配置された略円筒状のステータと、ロータ円筒部の外周面又はステータの内周面の何れか一方に刻設されたネジ溝部と、を備えた真空ポンプに用いられる断熱スペーサであって、断熱スペーサは、ケーシングとステータとの間に介装され、ケーシングとステータとの間に隙間を空けた状態でステータをロータ径方向に支持し、ケーシング及びステータより低熱伝導率に設定されていることにより実現した。

以下、本発明の第１実施例に係る真空ポンプについて、図１乃至図３に基づいて説明する。なお、以下において、「上」、「下」の語は、上下方向における上方、下方に対応するものである。

真空ポンプ１は、略円筒状のケーシング１０内に収容されたターボ分子ポンプ機構ＰＡとネジ溝ポンプ機構ＰＢとから成る複合ポンプである。

真空ポンプ１は、ケーシング１０と、ケーシング１０内に回転可能に支持されたロータシャフト２１を有するロータ２０と、ロータシャフト２１を回転させる駆動モータ３０と、ロータシャフト２１の一部及び駆動モータ３０を収容するステータコラム４０とを備えている。

ケーシング１０は、有底円筒状に形成されている。ケーシング１０は、ガス排気口１１ａが下部側方に形成されたベース１１と、ガス吸気口１２ａが上部に形成されると共にベース１１上に載置された状態でボルト１３を介して固定された円筒部１２とで構成されている。なお、図１中の符号１４は、裏蓋である。

ベース１１は、ベース１１内に埋設された図示しないヒータを備えている。ヒータは、図示しない温度調整手段によりベース１１の温度を所定の温度（例えば、８０℃）に維持するようになっている。

円筒部１２は、フランジ１２ｂを介して図示しないチャンバ等の真空容器に取り付けられる。ガス吸気口１２ａは、真空容器に接続され、ガス排気口１１ａは、図示しない補助ポンプに連通するように接続される。

ロータ２０は、ロータシャフト２１と、ロータシャフト２１の上部に固定されてロータシャフト２１の軸心に対して同心円状に並設された回転翼２２と、を備えている。

ロータシャフト２１は、磁気軸受５０により非接触支持されている。磁気軸受５０は、ラジアル電磁石５１と、アキシャル電磁石５２と、を備えている。ラジアル電磁石５１及びアキシャル電磁石５２は、図示しない制御ユニットに接続されている。

制御ユニットは、ラジアル方向変位センサ５１ａ及びアキシャル方向変位センサ５２ａの検出値に基づいて、ラジアル電磁石５１、アキシャル電磁石５２の励磁電流を制御することにより、ロータシャフト２１が所定の位置に浮上した状態で支持されるようになっている。

ロータシャフト２１の上部及び下部は、タッチダウン軸受２３内に挿通されている。ロータシャフト２１が制御不能になった場合には、高速で回転するロータシャフト２１がタッチダウン軸受２３に接触して真空ポンプ１の損傷を防止するようになっている。

回転翼２２は、ボス孔２４にロータシャフト２１の上部を挿通した状態で、ボルト２５をロータフランジ２６に挿通すると共にシャフトフランジ２７に螺着することで、ロータシャフト２１に一体に取り付けられている。以下、ロータシャフト２１の軸線方向をロータ２０のロータ軸方向Ａと称し、ロータシャフト２１の径方向をロータ２０のロータ径方向Ｒと称す。

駆動モータ３０は、ロータシャフト２１の外周に取り付けられた回転子３１と、回転子３１を取り囲むように配置された固定子３２とで構成されている。固定子３１は、上述した図示しない制御ユニットに接続されており、制御ユニットによってロータ２０の回転が制御されている。

ステータコラム４０は、ベース１１上に載置された状態で、下端部をボルト４１を介してベース１１に固定されている。

次に、真空ポンプ１の略上半分に配置されたターボ分子ポンプ機構ＰＡについて説明する。

ターボ分子ポンプ機構ＰＡは、ロータ２０の回転翼２２と、回転翼２２の間に隙間を空けて配置された固定翼６０とで構成されている。回転翼２２と固定翼６０とは、上下方向Ｈに沿って交互にかつ多段に配列されており、本実施例では、回転翼２２が５段、固定翼６０が４段ずつ配列されている。

回転翼２２は、所定の角度で傾斜したブレードからなり、ロータ２０の上部外周面に一体に形成されている。また、回転翼２２は、ロータ２０の軸線回りに放射状に複数設置されている。

固定翼６０は、回転翼２２とは反対方向に傾斜したブレードからなり、円筒部１２の内壁面に段積みで設置されているスペーサ６１により上下方向Ｈに挟持されて位置決めされている。また、固定翼６０も、ロータ２０の軸線回りに放射状に複数設置されている。

回転翼２２と固定翼６０との間の隙間は、上下方向Ｈの上方から下方に向かって徐々に狭くなるように設定されている。また、回転翼２２及び固定翼６０の長さは、上下方向Ｈの上方から下方に向かって徐々に短くなるように設定されている。

上述したようなターボ分子ポンプ機構ＰＡは、回転翼２２の回転により、ガス吸気口１２ａから吸入されたガスを上下方向Ｈの上方から下方に移送するようになっている。

次に、真空ポンプ１の略下半分に配置されたネジ溝ポンプ機構ＰＢについて説明する。

ネジ溝ポンプ機構ＰＢは、ロータ２０の下部に設けられて上下方向Ｈに沿って延びたロータ円筒部２８と、ロータ円筒部２８の外周面２８ａを囲んで配置された略円筒状の外周側ステータ７０と、ロータ円筒部２８内に配置された略円筒状の内周側ステータ８０と、を備えている。

ロータ円筒部２８の外周面２８ａ及び内周面２８ｂは、平面な円筒面に形成されている。ロータ円筒部２８の外周面２８ａは、外周側ステータ７０のロータ円筒部２８の外周面２８ａに対向する対向面である内周面７０ａと所定の間隙を介して対向している。また、ロータ円筒部２８の内周面２８ｂは、内周側ステータ８０のロータ円筒部２８の内周面２８ｂに対向する対向面である外周面８０ａと所定の間隙を介して対向している。

外周側ステータ７０は、後述する断熱スペーサ９０を介してベース１１上に載置され、図示しないボルトを介してベース１１に固定されている。外周側ステータ７０は、内周面７０ａに刻設された外周側ネジ溝部７１を備えている。また、外周側ステータ７０は、ベース１１内に入れ子で収容される小径円筒部７２と、円筒部１２内に入れ子で収容される大径円筒部７３と、を備えている。

内周側ステータ８０は、ボルト１5を介してベース１１に固定されている。内周側ステータ８０は、外周面８０ａに刻設された内周側ネジ溝部８１を備えている。

上述したようなネジ溝ポンプ機構ＰＢは、ガス吸気口１２ａから上下方向Ｈの下方に移送されたガスを、ロータ円筒部２８の高速回転によるドラッグ効果によって圧縮して、ガス排気口１１ａに向かって移送する。
具体的には、ガスは、ロータ円筒部２８と外周側ステータ７０との隙間に移送された後に外周側ネジ溝部７１内で圧縮されてガス排気口１１ａに移送されるか、または、連通孔２９を介してロータ円筒部２８と内周側ステータ８０との隙間に移送された後に内周側ネジ溝部８１で圧縮されてガス排気口１１ａに移送される。

次に、断熱スペーサ９０の具体的構成について、図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に基づいて説明する。

断熱スペーサ９０は、ステンレス製であり、アルミニウム製のケーシング１０及び外周側ステータ７０より低い熱伝導率を示す。なお、断熱スペーサ９０の具体的な材質は、外周側ステータ７０又はベース１１の何れか一方より低い熱伝導率を示すものであれば、如何なるものであっても良く、望ましくは、外周側ステータ７０及びベース１１より低い熱伝導率を示すものが好ましい。

断熱スペーサ９０は、略円筒状の軸方向支持部９１と、軸方向支持部９１の外周面９１ａに周設された第１の径方向支持部９２と、軸方向支持部９１の内周面９１ｂに周設された第２の径方向支持部９３と、を備えている。

軸方向支持部９１は、ロータ軸方向Ａに一致する軸方向に沿って延伸されている。軸方向支持部９１は、第１の径方向支持部９２より薄厚に形成されており、第１の径方向支持部９２より剛性が低く設定されている。

第１の径方向支持部９２は、軸方向支持部９１の下端側に配置されて、外周面９１ａからフランジ状に延出されている。なお、第１の径方向支持部９２は、軸方向支持部９１の下端９１ｃから僅かに隙間を空けた配置されるのが好ましい。これにより、断熱スペーサ９０とベース１１とが省面積で接触し、即ち、第１の径方向支持部９２が部分的にベース１１に接触して第１の径方向支持部９２とベース１１との接触面積が少ないため、断熱スペーサ９０からベース１１への逃熱を抑制することができる。

第２の径方向支持部９３は、軸方向支持部９１の上端側に配置されている。本実施例では、第２の径方向支持部９３は、軸方向支持部９１の上端で内周面９１ｂから立設されている。第２の径方向支持部９３の長さ寸法は、後述するベース１１と小径円筒部７２との隙間Ｇを確保可能な範囲で設定される。

次に、外周側ステータ７０が熱膨張により拡径する際の断熱スペーサ９０の作用について、図３（ａ）、（ｂ）に基づいて説明する。なお、図３（ａ）、（ｂ）では、本願の特徴を理解し易く示すために、第２の径方向支持部９３の長さを誇張して示している。

図３（ａ）に示すように、ケーシング１０のベース１１と外周側ステータ７０の小径円筒部７２との間に隙間Ｇを設けた状態で、第１の径方向支持部９２が、ケーシング１０の内周面１０ａに当接し、第２の径方向支持部９３が、小径円筒部７２の外周面７２ａに当接している。これにより、外周側ステータ７０は、ロータ２０と同軸に位置決めされた状態で、ケーシング１０内に入れ子で収納されている。

また、軸方向支持部９１は、外周側ステータ７０の被支持部としての大径円筒部７３の底面７３ａとベース１１の頂面１１ｂとの間に挟装され、外周側ステータ７０をロータ軸方向Ａに支持している。なお、軸方向支持部９１は、真空ポンプ１の運転前において、ロータ軸方向Ａに沿って直線状に形成されている。

真空ポンプ１が運転し始めると、ロータ２０や駆動モータ３０の発熱によりロータ円筒部２８が高温（例えば、１３０℃）に達する。これにより、外周側ステータ７０は、ロータ円筒部２８の熱を輻射受熱して徐々に昇温され、ロータ径方向Ｒの外側に向かって熱膨張し始める。

外周側ステータ７０が熱膨張により拡径すると、第２の径方向支持部９３がロータ径方向Ｒの外側の押圧力を受け、図３（ｂ）に示すように、軸方向支持部９１が第１の径方向支持部９２を支点にしてロータ径方向Ｒの外側に撓む。なお、外周側ステータ７０の熱膨張の前後に亘って、第２の径方向支持部９３が、外周側ステータ７０をロータ径方向Ｒに支持し続けるため、外周側ステータ７０は、ロータ２０に同軸上に配置された状態が維持される。

第２の径方向支持部９３がロータ径方向Ｒの外側に撓む際、ベース１１と外周側ステータ７０との間に隙間Ｇを設けたことにより、外周側ステータ７０がベース１１に高い接触面圧で密着してケーシング１０と外周側ステータ７０との間の接触面における熱抵抗が過度に低くなることが抑制される。これにより、外周側ステータ７０の熱が断熱スペーサ９０を介してケーシング１０に逃げることが抑制される。

また、断熱スペーサ９０がケーシング１０及び外周側ステータ７０より低熱伝導率に設定されていることにより、外周側ステータ７０から断熱スペーサ９０への入熱は少ないため、外周側ステータ７０の逃熱が抑制される。

さらに、断熱スペーサ９０が断面略Ｌ字状に形成されていることにより、断熱スペーサ９０内の伝熱経路が長くなり、外周側ステータ７０からケーシング１０への逃熱を更に抑制することができる。

これにより、例えば、ベース１１が８０℃に温度制御されると共にロータ２０が少なくとも１３０℃に昇温される真空ポンプにおいて、従来のように外周側ステータがケーシングに直接接触して収容される場合には、外周側ステータの温度が１００℃まで低下してガスの昇華点を下回る虞があるのに対し、外周側ステータ７０が断熱スペーサ９０を介してケーシング１０内に収容される場合には、外周側ステータ７０の温度は、約１１０℃以上で安定してガスの昇華点以上に維持される。

このようにして、本実施例に係る断熱スペーサ９０は、外周側ステータ７０をケーシング１０内でロータ径方向Ｒに支持しながら、外周側ステータ７０からケーシング１０への逃熱を抑制することにより、外周側ステータ７０の温度が外周側ネジ溝部７１内を移送されるガスの昇華点以上に維持され易くなり、外周側ネジ溝部７１内でのガスの固化や堆積を抑制することができる。

上述した実施例では、外周側ネジ溝部を外周側ステータの内周面に設けているが、外周側ネジ溝部をロータ円筒部の外周面に設けても構わない。

また、本発明は、ネジ溝ポンプ機構を備えるものであれば適用可能であり、複合ポンプの他、ネジ溝式ポンプに適用しても構わない。

なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が該改変されたものにも及ぶことは当然である。

１ ・・・ 真空ポンプ
１０・・・ ケーシング
１０ａ・・・内周面
１１・・・ ベース
１１ａ・・・ガス排気口
１１ｂ・・・頂面
１２・・・ 円筒部
１２ａ・・・ガス吸気口
１２ｂ・・・フランジ
１３・・・ ボルト
２０・・・ ロータ
２１・・・ ロータシャフト
２２・・・ 回転翼
２３・・・ タッチダウン軸受
２８・・・ ロータ円筒部
２８ａ・・・外周面
２８ｂ・・・内周面
３０・・・ 駆動モータ
３１・・・ 回転子
３２・・・ 固定子
４０・・・ ステータコラム
５０・・・ 磁気軸受
５１・・・ ラジアル電磁石
５２・・・ アキシャル電磁石
６０・・・ 固定翼
６１・・・ スペーサ
７０・・・ 外周側ステータ
７０ａ・・・（外周側ステータの）内周面
７１・・・ 外周側ネジ溝部
７２・・・ 小径円筒部
７２ａ・・・（小径円筒部の）外周面
７３・・・ 大径円筒部
７３ａ・・・（大径円筒部の）底面
８０・・・ 内周側ステータ
８０ａ・・・（内周側ステータの）外周面
８１・・・ 内周側ネジ溝部
９０・・・ 断熱スペーサ
９１・・・ 軸方向支持部
９１ａ・・・外周面
９１ｂ・・・内周面
９２・・・ 第１の径方向支持部
９３・・・ 第２の径方向支持部
Ａ ・・・ ロータ軸方向
Ｒ ・・・ ロータ径方向
ＰＡ・・・ ターボ分子ポンプ機構
ＰＢ・・・ ネジ溝ポンプ機構

Claims (7)

1. ケーシングと、該ケーシング内で回転可能に軸支されてロータ円筒部を有するロータと、前記ケーシングと前記ロータ円筒部との間に前記ロータと同軸上に配置された略円筒状のステータと、前記ロータ円筒部の外周面又は前記ステータの内周面の何れか一方に刻設されたネジ溝部と、を備えた真空ポンプであって、
   前記ケーシングと前記ステータとの間に介装され、前記ケーシングと前記ステータとの間に隙間を空けた状態で前記ステータをロータ径方向に支持し、前記ケーシング又は前記ステータの少なくとも一方より低熱伝導率の断熱スペーサを備えていることを特徴とする真空ポンプ。
2. 前記断熱スペーサは、前記ステータをロータ軸方向にも支持していることを特徴とする請求項１記載の真空ポンプ。
3. 前記ケーシングは、
   円筒部と、
   該円筒部の下部に設けられたベースと、
   を備え、
   前記断熱スペーサは、
   ロータ軸方向に沿って延伸され、前記ベースと前記ステータの外周面に周設された被支持部との間に介装される略円筒状の軸方向支持部と、
   該軸方向支持部の外周面に周設され、前記ケーシングの内周面に当接する第１の径方向支持部と、
   前記軸方向支持部の内周面に周設され、前記ステータの外周面に当接する第２の径方向支持部と、
   を備えていることを特徴とする請求項１又は２記載の真空ポンプ。
4. 前記第１の径方向支持部は、前記軸方向支持部の一方端側に配置され、
   前記第２の径方向支持部は、前記軸方向支持部の他方端側に配置されていることを特徴とする請求項３記載の真空ポンプ。
5. 前記軸方向支持部は、前記第１の径方向支持部より低剛性に形成され、前記ステータの熱膨張に応じて前記ロータ径方向に撓むことを特徴とする請求項３又は４記載の真空ポンプ。
6. 前記軸方向支持部の一方端は、前記第１の径方向支持部よりも前記ロータ軸方向の下方に延伸され、前記ベースに当接していることを特徴とする請求項３乃至５の何れか１項記載の真空ポンプ。
7. 請求項１乃至６の何れか１項記載の真空ポンプに用いられることを特徴とする断熱スペーサ。
   

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