JP2015146392A - リソグラフィ装置、リソグラフィシステム及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
塗布現像装置20から露光装置10にレジストが塗布された基板(未露光の基板)を搬入(搬送)するための搬入部134は、プロセス処理(温度調整、プリアライメントなど)を行うプロセス処理部の機能を備えていてもよい。また、露光装置10から塗布現像装置20に露光された基板(露光済の基板)を搬出(搬送)するための搬出部135も同様に、周辺露光などのプロセス処理を行うプロセス処理部の機能を備えていてもよい。
Claims (9)
- 基板にレジストを塗布する塗布装置から搬送された基板にパターンを形成する処理を行うリソグラフィ装置であって、
前記塗布装置でレジストが塗布されて前記処理を行うべき複数の基板のうち前記塗布装置から前記リソグラフィ装置に搬送される処理対象の基板を特定する第1特定情報を、前記塗布装置から取得する取得部と、
前記第1特定情報に基づいて、前記複数の基板のそれぞれに対応する複数のオフセット補正情報から前記処理対象の基板に対応するオフセット補正情報を選択し、選択したオフセット補正情報を用いて前記処理対象の基板に前記処理を行う処理部と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第1特定情報は、基板を識別するための基板識別子、及び、基板が収納されていたスロットを示すスロット番号の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記オフセット補正情報は、前記処理を行う際の基板の位置決めに用いられる情報を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記取得部は、前記複数の基板のそれぞれを特定する第2特定情報を前記リソグラフィ装置に接続されたホストコンピュータから取得し、
前記リソグラフィ装置は、前記第1特定情報及び前記第2特定情報に基づいて、前記複数の基板のうち前記塗布装置から前記リソグラフィ装置に搬送されなくなった基板を検知する検知部を更に有することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 基板にレジストを塗布する塗布装置から搬送された基板にパターンを形成する処理を行うリソグラフィ装置であって、
前記塗布装置でレジストが塗布されて前記処理を行うべき複数の基板のそれぞれを特定する第1特定情報を前記リソグラフィ装置に接続されたホストコンピュータから取得し、前記複数の基板のうち前記塗布装置から前記リソグラフィ装置に搬送される処理対象の基板を特定する第2特定情報を前記塗布装置から取得する取得部と、
前記第1特定情報及び前記第2特定情報に基づいて、前記複数の基板のうち前記塗布装置から前記リソグラフィ装置に搬送されなくなった基板を検知する検知部と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記検知部の検知結果に基づいて、前記複数の基板のそれぞれに対応する複数のオフセット補正情報から、前記処理対象の基板とオフセット補正情報とが整合するように、1つのオフセット補正情報を選択し、選択したオフセット補正情報を用いて前記処理を行う処理部を更に有することを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記処理部は、前記パターンに対応する像を前記処理対象の基板に投影する投影光学系を含むことを特徴とする請求項1乃至4及び6のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 基板にレジストを塗布する塗布装置と、前記塗布装置から搬送された基板にパターンを形成する処理を行うリソグラフィ装置とを有するリソグラフィシステムであって、
前記塗布装置は、前記塗布装置でレジストが塗布されて前記処理を行うべき複数の基板のうち前記塗布装置から前記リソグラフィ装置に搬送される処理対象の基板を特定する第1特定情報を前記リソグラフィ装置に通知する通知部を有し、
前記リソグラフィ装置は、前記通知部で通知された前記第1特定情報に基づいて、前記複数の基板のそれぞれに対応する複数のオフセット補正情報から前記処理対象の基板に対応するオフセット補正情報を選択し、選択したオフセット補正情報を用いて前記処理対象の基板に前記処理を行う処理部を有する、
ことを特徴とするリソグラフィシステム。 - 請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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