JP2015146069A - 基板処理装置、基板処理装置の流体吐出監視方法、および記憶媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】処理レシピにより定義されている処理流体の吐出が適切になされているかを正確に監視する。【解決手段】基板処理が行われているときに、ログ監視部（６０２）が、各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを蓄積する。主制御部（６０１）から、少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータがログ監視部に送られる。ログ監視部において、蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、当該処理ステップが実行された時刻における処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、処理流体の吐出が処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断する。【選択図】図３

Description

本発明は、基板に処理流体を供給することにより基板に所定の処理を施す基板処理装置において、基板に適正に処理流体が供給されているか否かを監視する技術に関する。

半導体装置の製造工程には、基板例えば半導体ウエハに薬液や気体等の処理流体を供給することにより、当該ウエハにエッチング処理、洗浄処理等の処理を施す処理工程が含まれる。このような処理工程は、多数の処理ユニットを含む基板処理装置により実行される。

各処理ユニットでは、所定の処理レシピに従って、ウエハに所定の処理が施される。処理レシピとは、各処理工程において、ウエハに対して施される処理の条件を詳細に定義したデータである。処理レシピにおいて定義され処理条件は、ウエハ回転数、処理時間、処理液や気体の分配（ディスペンス）、ノズル位置等多岐にわたる。

最近では、一台の処理システムで多種多様の処理を実行できるよう、多数の処理レシピが用意される。処理レシピの数が多くなってくると、装置の使用者はレシピ実行プログラムが多数のレシピの各々を適切に実行できることを確認する動作検証に膨大な時間がかかる。

上記の課題を解決するための装置として、特許文献１には、処理レシピデータに従い基板処理装置を動作させるための動作命令を発生するレシピ実行プログラムと、このレシピ実行プログラムが実際に発生した動作命令をログデータとして出力するログ出力プログラムと、ログデータと処理レシピデータに定義された処理内容を比較する比較チェックプログラムとを備えた基板処理装置が記載されている。特許文献１に記載された技術は、装置の使用者によるレシピ実行プログラムのデバッグの大幅な省力化に寄与する。

しかし、特許文献１のような動作命令ログのチェックだけでは、処理レシピの各処理ステップにおいて定義される各デバイスの動作が実際に適切に行われたかまでは正確に判定できない。つまり特許文献１の手法では、動作命令ログにおいて動作命令が適切に発生してさえいれば、各デバイスの処理エラー（例えば、処理液を吐出すべきタイミングでノズルから液が出ていない）が生じたときでも、レシピ自体は適切に実行したと判断してしまう。

特許第４４２８７１０号公報

本発明は、処理レシピにより定義されている処理流体の吐出が適切に行われているか否かを正確に判定する技術を提供するものである。

本発明は、基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し、前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの処理ユニットと、処理レシピに基づいて前記処理ユニットの動作を制御する動作命令を発生する主制御部と、前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視部と、を備え、前記ログ監視部は、前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを蓄積し、前記主制御部は、前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記ログ監視部に送り、前記ログ監視部は、前記ログ監視部に蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断する、基板処理装置を提供する。

また、本発明は、基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し、前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの処理ユニットと、処理レシピに基づいて前記処理ユニットの動作を制御する動作命令を発生する主制御部と、前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視部と、
を備えた基板処理装置における流体吐出監視方法において、前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを前記ログ監視部に蓄積するステップと、前記主制御部により、前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記ログ監視部に送るステップと、前記ログ監視部により、前記ログ監視部に蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における前記処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、前記処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断するステップと、前記ログ監視部による判断の結果を前記主制御部に送信するステップと、を備えた流体吐出監視方法を提供する。

さらに、本発明は、基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生する基板処理制御装置と通信可能であり、前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視装置であって、前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを蓄積する蓄積部と、前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記基板処理制御装置から受信する受信部と、前記蓄積部に蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断する判断部と、前記判断部による判断の結果を前記基板処理制御装置に送信する送信部と、を備えるログ監視装置を提供する。

さらにまた、本発明は、基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生する基板処理制御装置と通信を行い、前記処理流体ノズルの吐出を監視する流体吐出監視方法であって、前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを蓄積部に蓄積する蓄積ステップと、前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記基板処理制御装置から受信する受信ステップと、前記蓄積部に蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断する判断ステップと、前記判断ステップにおける判断の結果を前記基板処理制御装置に送信する送信ステップと、を備える流体吐出監視方法を提供する。

また、本発明は、基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生する基板処理制御装置と通信を行い、前記処理流体ノズルの流体吐出を監視する上記の流体吐出監視方法を実行するプログラムを記憶した記憶媒体を提供する。

また、本発明は、基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生することができ、前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視装置と通信可能な基板処理制御装置であって、前記処理ユニットにて基板に流体処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを前記ログ監視装置に送信するログデータ送信部と、前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記ログ監視装置に送信する時刻データ送信部と、前記ログ監視装置が受信した時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断した結果を受信する受信部と、を備える基板処理制御装置を提供する。

さらにまた、本発明は、基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生し、前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視装置と通信して流体吐出の監視を行う流体吐出監視方法であって、前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを前記ログ監視装置に送信するログデータ送信ステップと、前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記ログ監視装置に送信する時刻データ送信ステップと、前記ログ監視装置が受信した時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断した結果を受信する受信ステップと、を備える流体吐出監視方法を提供する。

さらにまた、本発明は、基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生し、前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視装置と通信して流体吐出の監視を行う上記の流体吐出監視方法を実行するプログラムを記憶した記憶媒体を提供する。

本発明によれば、処理流体の吐出を監視することにより、処理レシピが適切に実行されているか否かをより確実かつ適切に判定することができる。

基板処理システムの全体構成を示す概略平面図。 処理ユニットおよびそれに付随する処理液供給手段及び制御手段。 主制御部とログ監視部との間でのデータのやりとりを説明するブロック図である。 処理レシピを説明するための図である。 ディスペンス情報を説明するための図である。 レシピステップ情報を説明するための図である。 ログ監視部において行われる判断について説明するための図である。 ログデータに基づいて作成されユーザインタフェイスに表示されるグラフの一例を示す図。

図１は、本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする。

図１に示すように、基板処理システム１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３とを備える。搬入出ステーション２と処理ステーション３とは隣接して設けられる。

搬入出ステーション２は、キャリア載置部１１と、搬送部１２とを備える。キャリア載置部１１には、複数枚のウエハＷを水平状態で収容する複数のキャリアＣが載置される。

搬送部１２は、キャリア載置部１１に隣接して設けられ、内部に基板搬送装置１３と、受渡部１４とを備える。基板搬送装置１３は、ウエハＷを保持する基板保持機構を備える。また、基板搬送装置１３は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、基板保持機構を用いてキャリアＣと受渡部１４との間でウエハＷの搬送を行う。

処理ステーション３は、搬送部１２に隣接して設けられる。処理ステーション３は、搬送部１５と、複数の処理ユニット１６とを備える。複数の処理ユニット１６は、搬送部１５の両側に並べて設けられる。

搬送部１５は、内部に基板搬送装置１７を備える。基板搬送装置１７は、ウエハＷを保持する基板保持機構を備える。また、基板搬送装置１７は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、基板保持機構を用いて受渡部１４と処理ユニット１６との間でウエハＷの搬送を行う。

処理ユニット１６は、基板搬送装置１７によって搬送されるウエハＷに対して所定の基板処理を行う。

また、基板処理システム１は、制御装置４を備える。制御装置４は、たとえばコンピュータであり、制御部１８と記憶部１９とを備える。記憶部１９には、基板処理システム１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１８は、記憶部１９に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理システム１の動作を制御する。

なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置４の記憶部１９にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。

上記のように構成された基板処理システム１では、まず、搬入出ステーション２の基板搬送装置１３が、キャリア載置部１１に載置されたキャリアＣからウエハＷを取り出し、取り出したウエハＷを受渡部１４に載置する。受渡部１４に載置されたウエハＷは、処理ステーション３の基板搬送装置１７によって受渡部１４から取り出されて、処理ユニット１６へ搬入される。

処理ユニット１６へ搬入されたウエハＷは、処理ユニット１６によって処理された後、基板搬送装置１７によって処理ユニット１６から搬出されて、受渡部１４に載置される。そして、受渡部１４に載置された処理済のウエハＷは、基板搬送装置１３によってキャリア載置部１１のキャリアＣへ戻される。

次に、処理ユニット１６の概略構成について図２を参照して説明する。図２は、処理ユニット１６の概略構成を示す図である。

図２に示すように、処理ユニット１６は、チャンバ２０と、基板保持機構３０と、処理流体供給部４０と、回収カップ５０とを備える。

チャンバ２０は、基板保持機構３０と処理流体供給部４０と回収カップ５０とを収容する。チャンバ２０の天井部には、ＦＦＵ（Fan Filter Unit）２１が設けられる。ＦＦＵ２１は、チャンバ２０内にダウンフローを形成する。

基板保持機構３０は、保持部３１と、支柱部３２と、駆動部３３とを備える。保持部３１は、ウエハＷを水平に保持する。支柱部３２は、鉛直方向に延在する部材であり、基端部が駆動部３３によって回転可能に支持され、先端部において保持部３１を水平に支持する。駆動部３３は、支柱部３２を鉛直軸まわりに回転させる。かかる基板保持機構３０は、駆動部３３を用いて支柱部３２を回転させることによって支柱部３２に支持された保持部３１を回転させ、これにより、保持部３１に保持されたウエハＷを回転させる。

処理流体供給部４０は、ウエハＷに対して処理流体を供給する。処理流体供給部４０は、処理流体供給源７０に接続される。

回収カップ５０は、保持部３１を取り囲むように配置され、保持部３１の回転によってウエハＷから飛散する処理液を捕集する。回収カップ５０の底部には、排液口５１が形成されており、回収カップ５０によって捕集された処理液は、かかる排液口５１から処理ユニット１６の外部へ排出される。また、回収カップ５０の底部には、ＦＦＵ２１から供給される気体を処理ユニット１６の外部へ排出する排気口５２が形成される。

次に、処理流体供給部４０について詳述する。処理流体供給部４０は、ウエハＷの表面に薬液Ａ例えばＤＨＦ（希フッ酸）を供給する薬液ノズル４１０Ａ（ノズル１とも呼ぶ）、ウエハＷの表面にリンス液としてのＤＩＷ（純水）を供給するリンスノズル（ノズル２とも呼ぶ）４２０Ａ、ウエハＷの裏面に薬液Ａを供給する薬液ノズル４１０Ｂ、及びウエハＷの裏面にリンス液としてのＤＩＷ（純水）を供給するリンスノズル４２０Ｂを有する。処理流体供給部４０には、スピン乾燥処理を行う際にウエハＷの表裏面にそれぞれ窒素ガスを供給するガスノズルも含まれるが、図示は省略している。

薬液ノズル４１０Ａ、４１０Ｂには、処理流体供給源７０の一部を成す薬液供給源４１１から、薬液供給機構４１２を介して薬液が供給される。薬液供給機構４１２は、薬液ノズル４１０Ａ、４１０Ｂにそれぞれ接続される薬液供給ライン４１３Ａ、４１３Ｂを有しており、これらの薬液供給ラインには、上流側から順にＬＦＣ（液体フローコントローラ）４１４Ａ、４１４Ｂ及び開閉弁４１５Ａ、４１５Ｂがそれぞれ介設されている。薬液供給ライン４１３Ａ、４１３Ｂからそれぞれ、ドレンライン４１６Ａ、４１６Ｂが分岐しており、これらのドレンラインには開閉弁４１７Ａ、４１７Ｂが介設されている。

リンスノズル４２０Ａ、４２０Ｂには、処理流体供給源７０の一部を成すリンス液供給源４２１から、リンス液供給機構４２２を介してリンス液が供給される。リンス液供給機構４２２は、リンスノズル４２０Ａ、４２０Ｂにそれぞれ接続されるリンス液供給ライン４２３Ａ、４２３Ｂを有しており、これらの供給ラインには、上流側から順にＬＦＣ４２４Ａ、４２４Ｂ及び開閉弁４２５Ａ、４２５Ｂがそれぞれ介設されている。リンス液供給ライン４２３Ａ、４２３Ｂからそれぞれ、ドレンライン４２６Ａ、４２６Ｂが分岐しており、これらのドレンラインには開閉弁４２７Ａ、４２７Ｂが介設されている。

図２では長方形で概略的に示したＬＦＣ（４１４Ａ、４１４Ｂ、４２４Ａ、４２４Ｂ）は、フローメータ（流量計）および流量制御弁若しくは圧力制御弁を備えており、当該ＬＦＣが介設されたラインを所定の流量の液体が流れるように制御するデバイスである。

薬液ノズル４１０Ａ及びリンスノズル４２０Ａは、ノズルアーム４３０Ａに取り付けられている。ノズルアーム４３０Ａは、ウエハＷの中心部の上方に薬液ノズル４１０Ａ及びリンスノズル４２０Ａを位置させる処理ポジション（Ｃ）と、薬液ノズル４１０Ａ及びリンスノズル４２０ＡをウエハＷの上方から外れた位置に位置させるホームポジション（Ｈ）の間を移動する。本例では、薬液ノズル４１０Ｂ及びリンスノズル４２０Ｂは、固定されていて動かないノズルであるものとする。

この処理ユニット１６は、さらに別の処理液をウエハＷに供給する処理液ノズルを保持する別のノズルアーム４３０Ｂを有している。本明細書において、ノズルアーム４３０Ｂをアーム１、ノズルアーム４３０Ａをアーム２と呼ぶこともある。

次に、図１に概略的に示された基板処理システム１の制御装置４の詳細について図２を参照して説明する。

制御装置４は、基板処理システム１の全体の動作を制御する主制御部（ＭＣ）６０１と、ログ監視部（ＴＬ）６０２とを有している。主制御部６０１は、当該主制御部６０１の下位コントローラとして薬液供給機構４１２及びリンス液供給機構４２２の動作を制御する流れ制御部６０３を有している。流れ制御部６０３は、処理ユニット（「モジュール」とも呼ぶ）１６毎に設けられている。従って、基板処理システム１は、処理ユニット１６の数に応じた流れ制御部６０３、６０３’を有する。

主制御部６０１及びログ監視部６０２は、別々のコンピュータ、すなわち主制御部６０１としての機能を実現するためのレシピ実行プログラムをインストールした１つのコンピュータと、ログ監視部６０２としての機能を実現するためのログ監視プログラムをインストールした他の１つのコンピュータとから構成することができる。この場合、主制御部６０１とログ監視部６０２は、有線通信例えば通信ケーブル、または無線通信により交信することができる。主制御部６０１には、ログ出力プログラムもインストールされている。

主制御部６０１及びログ監視部６０２をレシピ実行プログラム及びログ監視プログラム等がインストールされた１つのコンピュータにより構成することも可能である。

複数の基板処理システム１が設置された半導体製造工場においては、基板処理システム１毎に主制御部６０１（６０１’）及びログ監視部６０２（６０２’）が設けられる。各主制御部６０１（６０１’）及びログ監視部６０２（６０２’）は、例えば、ローカルエリアネットワークを介してホストコンピュータ（ＨＯＳＴ）６１０に接続されている。各基板処理システム１の主制御部６０１は、上位コンピュータであるホストコンピュータ６１０の指令に基づき、当該基板処理システム１に様々な処理を行わせる。

次に、基板処理システム１の作用について説明する。ここで、これから基板処理システム１は、図1に示した複数の処理ユニット１６のうちのいずれか一つを用いて、図４に記載された処理レシピにて定義された一連の処理をウエハＷに施そうとしているものとする。

図４に記載された処理レシピは、基板処理システム１において、ウエハＷに対して、薬液Ａを用いた洗浄処理、ＤＩＷを用いたリンス処理、及び振り切り乾燥処理を順次行わせるためのものである。図４に記載された処理レシピは、説明の簡略化のため一部が省略されている。

本例では、処理レシピは１０工程（１０個のステップ）を含んでいる。

各ステップにおいて、時間（秒）、ウエハ回転数（ｒｐｍ）、ディスペンス状態、流量（ｍｌ／ｍｉｎ）（ミリリットル／分）、アーム１，２の位置、カップ状態が定義される。

上記の項目について説明する。
「時間」はそのステップの開始から終了までの時間を意味する。
「ウエハ回転数」はそのステップ中におけるウエハＷの回転数を意味する。なお、１ステップ中に回転数の増減がある場合もあり、その場合には回転加速度も定義されるが、ここでは説明の簡略化のため回転数は一定とした。
「ディスペンス状態」では、処理流体（処理液）を吐出しているノズル及びそのノズルから吐出される処理液の種類が定義される。
「流量」は対応するノズルからの単位時間当たりの吐出流量を意味する。
「アーム位置」はアーム１、２の位置を意味し、本例では処理ポジション（Ｃ）及びホームポジション（Ｈ）がある。
「カップ状態」は図２には詳細に図示されていない回収カップ５０の状態を定義している。
なお、図４には記載していないが、処理レシピにはＦＦＵ２１の運転状態や、他の図示していないデバイスの状態も含めることができる。

具体的には、例えば、ステップ１において、項目「ディスペンス状態」「２０／アーム２・ノズル１／薬液Ａ」というのは、「アーム２（第２ノズルアーム４３０Ａ）のノズル１（薬液ノズル４１０Ａ）を用いて薬液Ａを吐出する」という処理液のディスペンス状態を意味しており、左端の「２０」は、当該ディスペンス状態に付与されたＩＤ番号である。ＩＤ番号は、異なるディスペンス状態を区別するためのものであり、同じディスペンス状態に対しては同じＩＤ番号が割り当てられる。

また、ステップ１の、「３４／裏面ノズル／薬液Ａ」というのは、「裏面ノズル（薬液ノズル４１０Ｂ）を用いて薬液Ａを吐出する」という処理液のディスペンス状態を意味しており、左端の「３４」は、当該ディスペンス状態に付与されたＩＤ番号である。

ステップ１では、５秒間の間、ウエハＷを３００ｒｐｍで回転させ、薬液ノズル４１０Ａ（ノズル１）から流量１５００ｍｌ／ｍｉｎでウエハＷの表面に薬液Ａを供給するとともに、薬液ノズル４１０Ｂ（裏面ノズル）から流量１０００ｍｌ／ｍｉｎでウエハＷの表面に薬液Ａを供給する。このとき、薬液ノズル４１０Ａを保持する第２ノズルアーム４３０Ａ（アーム２）がウエハ中央部上方の処理ポジション（Ｃ）に位置し、別のノズルアーム４３０Ｂがホームポジション（Ｈ）に位置している。

ステップ２以降についても簡単に説明する。ステップ２は、ステップ１に対して、時間及びウエハ回転数のみが異なり他はステップ１と同じである。

ステップ３では、ステップ１では、７秒間の間、ウエハＷを５００ｒｐｍで回転させ、リンスノズル４２０Ａ（ノズル２）から流量１５００ｍｌ／ｍｉｎでウエハＷの表面にリンス液であるＤＩＷ）を供給するとともに、リンスノズル４２０Ｂ（裏面ノズル）から流量１０００ｍｌ／ｍｉｎでウエハＷの表面にＤＩＷを供給する。このときも、薬液ノズル４１０Ａを保持する第２ノズルアーム４３０Ａ（アーム２）がウエハ中央部上方の処理ポジション（Ｃ）に位置し、別のノズルアーム４３０Ｂがホームポジション（Ｈ）に位置している。

上記と並行して、薬液Ａの吐出を終了した薬液ノズル４１０Ａ、薬液ノズル４１０Ｂに関連する供給ライン４１３Ａ，４１３Ｂに接続されたドレンライン４１６Ａ，４１６Ｂに介設された開閉弁４１７Ａ，４１７Ｂが開かれ、ドレンライン４１６Ａ，４１６Ｂのドレンが行われる。この操作と関連するディスペンス状態のＩＤ番号は「５９」と「４５」である。

図４の表に示したステップ９、１０は、リンス処理を終えた後に、ウエハＷを高速回転させることにより行われる振り切り乾燥工程である。ステップ４〜８の記載は省略している。

主制御部６０１は、レシピ実行プログラムを実行することにより、上記の処理レシピに基づいて前記処理ユニットの動作を制御する動作命令を発生する。

上記の各ステップにおける各ノズルからの処理液の吐出操作、並びにドレン操作は、主制御部６０１の下位の制御部である流れ制御部６０３が、上記の動作命令に基づいてＬＦＣ（４１４Ａ、４１４Ｂ、４２４Ａ、４２４Ｂ）、開閉弁（４１５Ａ、４１５Ｂ、４２５Ａ、４２５Ｂ、４１７Ａ、４１７Ｂ、４２７Ａ、４２７Ｂ）等を制御することにより行われる。流れ制御部６０３は、これらのＬＦＣ及び開閉弁に制御信号を送信し、また、ＬＦＣに含まれるフローメータ（図示せず）から流量検出信号（流量値を表す信号）を受け取ることができる。

流れ制御部６０３が受け取った流量検出信号は主制御部６０１に送られ、主制御部６０１は、ログ出力プログラムの実行により、流量検出信号をログ監視部６０２に送ることができる。

以下に流量監視に関する一連にデータ処理の流れについて、図３〜図７を参照して説明する。

ウエハＷが処理ユニット１６に搬入されるに先立ち、主制御部６０１は、ログ監視部６０２に「ディスペンス情報」を送信する（ステップＳ１０１）。本実施形態では、「ディスペンス情報」は、主制御部６０１とログ監視部６０２が起動したタイミングで一度だけ送信されるが、これに限定されず、実際に液処理のためにウエハＷが処理ユニット１６に搬入される直前に送信するようにしても良い。ディスペンス情報は、概念として図５の表で示されるようなものであり、ディスペンス状態のＩＤ番号と、そのディスペンス状態が実現されているときに、ウエハＷに向けて吐出されている処理液の流量を検出することができるフローメータを内蔵したＬＦＣ（４１４Ａ、４１４Ｂ、４２４Ａ、４２４Ｂ）の番号を関連付ける（紐付けする）ものである。例えば、「ディスペンス状態」のＩＤ番号が「２０」のときには、薬液ノズル４１０Ａから薬液Ａが吐出され、その吐出流量を測定しうるのはＬＦＣ４１４Ａを構成するフローメータであることが、図５の表の最上段に示されている。このディスペンス情報は、ログ監視部６０２の記憶領域に記憶される。なお、ディスペンス情報は各処理ユニット１６に紐付く情報である。例えば、各処理ユニット１６で薬液ノズル種類が異なれば、ディスペンス情報も異なる。

ウエハＷが基板搬送装置１７（図１を参照）により処理ユニット１６に搬入され、主制御部６０１はログ監視部６０２に「トレースデータ」を送信する（ステップＳ１０２）。トレースデータには、処理ユニット１６内の各種デバイスの運転状態を示すさまざまなパラメータ値が含まれる。トレースデータには、例えば、処理ユニット１６内に設けられた任意のセンサの検出データ（アーム位置、駆動部（モータ）３３の回転数、ウエハＷ周辺温度／湿度等）を含めることができる。本実施形態においては、トレースデータは、少なくともＬＦＣ４１４Ａ、４１４Ｂ、４２４Ａ、４２４Ｂのフローメータの検出値を含んでいる。

ログ監視部６０２は、受け取ったトレースデータを処理液の吐出のログデータとして記憶領域に蓄積する。トレースデータは、後述の監視結果判定を行うに必要十分な精度で判定が行われるような一定の時間間隔、具体的には例えば１秒おきに、主制御部６０１からログ監視部６０２に送信される。なお、本実施形態では、トレースデータの送信は、常時実行されているものとするが、これに限らず、ウエハＷが処理ユニット１６に搬入され、処理ユニット１６から搬出されるまでの期間のみ継続されるよう構成してもよい。

ここで、上記のように１秒おきにトレースデータが送信される場合には、時刻ＨＨ時ＭＭ分ＳＳ秒０００ミリ秒から時刻ＨＨ時ＭＭ分ＳＳ秒９９９ミリ秒までの１秒間の時間区間における検出値を、時刻ＨＨ時ＭＭ分ＳＳ秒におけるトレースデータとして送信するものとする。具体的には例えば、１６時４８分４４秒３００ミリ秒から１６時４８分４５秒７００ミリ秒までの間にＬＦＣ４１４Ａにおいて継続的に流れが検出され、１６時４８分４４秒３００ミリ秒から１６時４８分４４秒９９９ミリ秒までの間に５００ｍｌの流量が検出され、１６時４８分４５秒０００ミリ秒から１６時４８分４５秒７００ミリ秒までの間に６００ｍｌの流量が検出されたとするなら、ＬＦＣ４１４Ａの検出値についてのトレースデータは「１６時４８分４４秒／５００ｍｌ」、「１６時４８分４５秒／６００ｍｌ」という形式となる。なお、ログ監視部６０２が流れ制御部６０３からの流量検出信号を主制御部６０１を介さずに直接受け取ることができるよう構成するのであれば、ログ監視部６０２自体が上記のような検出値と時刻との関連付けを行ってもよい。

処理ユニット１６に搬入されたウエハＷに対して、レシピ実行プログラムを実行する主制御部６０１の制御の下で、図４に示された処理レシピに従った一連の処理が施される。

処理が開始されると同時に（あるいはその前後に）、主制御部６０１はログ監視部６０２に「レシピ情報」を送信し、ログ監視部６０２はこれを受信する（ステップＳ１０３）。レシピ情報とは、図４に示したようなレシピの情報である。

一枚のウエハＷに対する一連の処理が終了すると、主制御部６０１はログ監視部６０２に「レシピステップ情報」及び「ディスペンス吐出監視結果要求」を送信し、ログ監視部６０２はこれを受信する（ステップＳ１０４）。

レシピステップ情報とは概念として図６の表で示されるようなものであり、各ステップの開始時刻と終了時刻のデータを含んでいる。なお、開始時刻及び終了時刻は、トレースデータと同様に、１秒単位とすることが好ましい。すなわち、開始時刻（終了時刻）が時刻ＨＨ時ＭＭ分ＳＳ秒０００ミリ秒から時刻ＨＨ時ＭＭ分ＳＳ秒９９９ミリ秒までの間にあれば、時刻ＨＨ時ＭＭ分ＳＳ秒を開始時刻（終了時刻）とするものとする。

ディスペンス吐出監視結果要求を受け取ったログ監視部６０２は、前述した「レシピ情報」（図４参照）、「ディスペンス情報」（図５参照）、ログ監視部６０２に蓄積されたＬＦＣ４１４Ａ、４１４Ｂ、４２４Ａ、４２４Ｂのフローメータの検出値に関連する「トレースデータ」、並びに「レシピステップ情報」に基づいて、ディスペンス（ノズル４１０Ａ，４１０Ｂ，４２０Ａ，４２０ＢからのウエハＷへの処理液の吐出）が適正に行われているか否かを判定する。

この判定にあたっては、概念として図７に示されるような表が用いられる。 前述したように、各ＬＦＣの検出データは、時刻と流量を関連付けたトレースデータとしてログ監視部６０２に蓄積されている。レシピ情報により、各ステップにおいて処理液の吐出に関連するディスペンス状態のＩＤ番号がわかり、ディスペンス情報によりＩＤ番号と対応付けすべきＬＦＣ（４１４Ａ、４１４Ｂ、４２４Ａ、４２４Ｂのいずれか）がわかる。さらに、レシピステップ情報により各ステップの実行時刻がわかる。このため、図７の表に示されるような関係を把握することができる。

ここで、図７において、太い黒枠で囲んだ４つの領域Ｒ４１４Ａ、Ｒ４１４Ｂ、Ｒ４２４Ａ、Ｒ４２４Ｂに着目（抽出）する。

領域Ｒ４１４Ａ、Ｒ４１４Ｂには、ディスペンス状態のＩＤ番号２０、３４（すなわち薬液ノズル４１０Ａ、４１０Ｂからの薬液ＡのウエハＷへの供給に対応）に関連するＬＦＣ４１４Ａ、４１４Ｂのフローメータの検出値からなるトレースデータが並んでいる。両方の領域Ｒ４１４Ａ、Ｒ４１４Ｂにおいて、薬液Ａの流れが、時刻１６：４８：４６、１６：４８：４７、１６：４８：４８において確認されている。この場合、薬液ノズル４１０Ａ、４１０Ｂから薬液Ａが吐出されていることは明らかであるので、判定結果は「ＯＫ」とする。

なお、本実施形態においては、薬液Ａの総流量までは問題としないものとするが、総流量を監視するようにしても良い。その場合、薬液Ａの総流量が所定範囲内にあるか否かを判断基準とするなら、トレースデータ送信及び蓄積の時間間隔を大幅に短くして検出値の時間に関する積分値を求めることにより精度の高い総流量値を求め基準値と比較しなければならない。

領域Ｒ４２４Ａ、Ｒ４２４Ｂには、ディスペンス状態のＩＤ番号３２、３８（すなわちリンスノズル４２０Ａ、４２０ＢからのＤＩＷのウエハＷへの供給に対応）に関連するＬＦＣ４２４Ａ、４２４Ｂのフローメータの検出値からなるトレースデータが並んでいる。

領域Ｒ４２４Ｂにおいて、ＤＩＷの流れが、時刻１６：４９：０６、１６：４９：０７、１６：４９：０８において確認されている。この場合、リンスノズル４１０ＢからＤＩＷが吐出されていることは明らかであるので、判定結果は「ＯＫ」とする。なお、本実施形態においては、上記と同様の理由により、ＤＩＷの総流量までは問題としないものとする。

一方、領域Ｒ４２４Ａにおいて、ＤＩＷの流れが、ステップ３の実行時間である時刻１６：４９：０４〜１６：４９：０９の間に全く確認されず、この間のトレースデータは全てゼロである。この場合、リンスノズル４１０ＡからのＤＩＷが吐出されていないこと明らかであるので、判定結果は「ＮＧ」とする。本実施形態では、ゼロの値をとる検出値の存否を判断の基準としているが、これに限らず、所定値、例えば１０ｍｌを閾値としてそれ以下の検出値の存否で判断するようにしても良い。また、トレースデータが全てゼロ（所定値以下）の場合に限らず、ステップ期間中における、ゼロ（所定値以下）の検出値が占める割合（例えば、期間中の全検出値の個数が６個であれば半分の３個以上等）等に基づき判断するようにしても良い。

ログ監視部６０２は、上記の監視結果を主制御部６０１に送信する。判定結果にＮＧが含まれるため、ウエハＷは適正に処理されていないことが明らかである。この場合、主制御部６０１は、処理ユニット１６からのウエハＷの搬出を禁止するとともに、図示しないユーザインタフェイス（ディスプレイ等）あるいは警報装置により、オペレータに処理不良があることを伝える。

なお、ログ監視部６０２が処理不良が生じた時刻の前後のログデータを用いて図８に示すようなグラフを作成して主制御部６０１に送り、主制御部６０１が不図示のユーザインタフェイスに表示するようにしても良い。図８は、ステップ３、すなわち、時刻１６：４９：０４〜１６：４９：０９までの、リンスノズル４２０Ａと４２０Ｂの吐出量を並べて示すグラフである。この様なグラフを視覚的に示すことで、装置の使用者は、リンスノズル４２０Ａと４２０Ｂのどちらに問題があったか、互いの吐出動作に関連性があるか等を明確に知ることができ、その後の対処に活かすことができる。

一方、判定結果が全てＯＫの場合には、主制御部６０１は、処理ユニット１６からのウエハＷの搬出を許容するとともに、次に処理すべきウエハＷの処理ユニット１６内への搬入も許容する。新しいウエハＷが処理されるときには、上述したものと同様の吐出監視手順が実行される。

なお、上記の説明より明らかなように、基板処理制御装置である主制御部（６０１）は、
− 処理ユニット（１６）にてウエハ（Ｗ）に流体処理が行われているときに、各処理流体ノズル（４１０Ａ等）からの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサ（ＬＦＣ４１４Ａ等のフローメータ）の検出値を時刻と関連付けたログデータ（上記トレースデータに対応）をログ監視装置（ログ監視部６０２）に送信するログデータ送信部（６０１ａ）と、
− 処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータ（上記レシピステップ情報に対応）をログ監視装置（ログ監視部６０２）に送信する時刻データ送信部（６０１ｂ）と、
− ログ監視装置が受信した時刻と関連付けられたログデータから、処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し（例えば図７に示した形式で抽出する）、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断した結果を受信する受信部（６０１ｃ）と、
を有していることになる（図２を参照）。

また、ログ監視装置であるログ監視部（６０２）は、
− 処理ユニット（１６）にてウエハ（Ｗ）に処理が行われているときに、各処理流体ノズル（４１０Ａ等）からの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサ（ＬＦＣ４１４Ａ等のフローメータ）の検出値を時刻と関連付けたログデータを蓄積する蓄積部（６０２ａ）と、
− 処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータ（上記レシピステップ情報に対応）を基板処理制御装置（主制御部６０１）から受信する受信部（６０２ｂ）と、
− 蓄積部（６０２ｂ）に蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し（例えば図７に示した形式で抽出）、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断する判断部（６０２ｃ）と、
− 判断部（６０２ｃ）による判断の結果を基板処理制御装置（主制御部６０１）に送信する送信部（６０２ｄ）と、
を有していることになる（図２を参照）。

上記主制御部６０１及びログ監視部６０２に含まれる上記の機能を実現する各部６０１ａ〜６０１ｃ及び６０２ａ〜６０２ｄは、コンピュータハードウエア上で実行されるプログラムにより実現することができる。

上記の実施形態によれば、レシピ実行プログラムから独立したログ監視プログラムにより処理液の吐出を監視することにより、処理レシピが適切に実行されているか否かをより確実かつ適切に判定することができる。レシピに基づきレシピ実行プログラムが発生させた液吐出の動作命令を下位のデバイス制御プログラムが受け取った後で、下位のデバイス制御プログラムが処理液ノズルが“所定の条件を満たさない”と判定しために動作命令どおりに動かさないことがある。この様な場合、引用文献１の手法を用いると、レシピ実行プログラムの動作命令のログデータ上では正しく動作命令が発行したことになりレシピは適切に実行されたことになる。本実施形態では、レシピ実行プログラムが動作命令のログデータを監視してレシピ実行の適切さを判断するのではなく、ログ監視プログラムがフローメータの検出値をログデータとして監視しレシピ実行の適切さを判断するようにした。したがって、上記のように実際に液吐出動作が実行されなかった事実を漏らすことなく検出することができ、レシピが適切に実行されたか否かを判断できる。なお、ここでの処理液ノズルの“所定の条件を満たさない”とは、例えば、「ウエハの上方に処理液ノズルが無いときに処理液の吐出をしないこと」といった、レシピ上では管理しきれない機構上の条件等である。

また、本実施形態では、レシピ実行プログラムに不具合があったとしても、その不具合を原因とする処理不良の発生を最小限に抑制することができる。また、レシピ実行プログラムから処理液吐出監視機能を除外するか必要最低限のものとして、レシピ実行プログラムの構成を単純化することができるため、レシピ実行プログラムの実行速度、安定性を高めることもできる。

また、ログ監視部６０２からホストコンピュータ６１０に処理液の吐出の不具合があった旨を通知することにより、ホストコンピュータ６１０が同じレシピを実行しているか実行しようとしている他の基板処理システムに警告を送るか、当該他の基板処理システムでの処理を禁止する制御信号を送信することができ、これにより、処理不良が生じる可能性のある処理の実行を未然に防止することができる。

上記実施形態においては、１つの処理レシピに含まれる処理ステップの全てが実行されてから吐出の不具合の有無を判定したが、これに限定されるものではなく、１つの処理ステップが終了する度に吐出の不具合の有無を判定してもよい。

上記実施形態において、「時刻」は、時分秒により表される絶対時刻である必要はない。ある基準となる時点からの経過時間が表現されている数値は「時刻と解釈することができる。

上記実施形態においては、処理対象の基板は半導体ウエハであったが、これに限定されるものではなく、ガラス基板、セラミック基板等の他の基板であってもよい。また、上記実施形態では、処理液の吐出を監視対象としていたが、これに限定されるものではなく、Ｎ_２ガスやＩＰＡ蒸気等の気体も、ノズルから吐出される処理流体として監視対象としても良い。

１ 基板処理装置（基板処理システム）
１６ 処理ユニット
４０，４１２，４２２ 処理液供給機構
４１０Ａ，４１０Ｂ，４２０Ａ，４２０Ｂ 処理液ノズル
４１４Ａ，４１４Ｂ，４２４Ｂ，４２４Ｂ 流量センサ（を含むＬＦＭ）
６０１ 主制御部、基板処理制御装置
６０１ａ ログデータ送信部
６０１ｂ 時刻データ送信部
６０１ｃ 受信部
６０２ ログ監視部、ログ監視装置
６０２ａ 蓄積部
６０２ｂ 受信部
６０２ｃ 判断部
６０２ｄ 送信部

Claims (15)

1. 基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し、前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの処理ユニットと、
   処理レシピに基づいて前記処理ユニットの動作を制御する動作命令を発生する主制御部と、
   前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視部と、
   を備え、
   前記ログ監視部は、前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを蓄積し、
   前記主制御部は、前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記ログ監視部に送り、
   前記ログ監視部は、前記ログ監視部に蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断する、基板処理装置。
2. 前記ログ監視部は、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における所定値以下でない流量を示すログデータの存否の状態に応じて、当該処理ステップにおける処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断する、請求項１記載の基板処理装置。
3. 前記ログ監視部は、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻においてゼロでない流量を示すログデータが存在するときには、当該処理ステップにおける処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたものと判断し、ゼロでない流量を示すログデータが１つも存在しないときには、当該処理ステップにおける処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されなかったものと判断する、請求項２記載の基板処理装置。
4. 前記ログ監視部は、前記処理液の吐出を伴う前記処理ステップが複数の時刻にわたって実行されている場合、前記複数の時刻のうちの少なくとも１つの時刻においてゼロでない流量を示すログデータが存在するときには、当該処理ステップにおける処理液の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたものと判断し、ゼロでない流量を示すログデータが１つも存在しないときには、当該処理ステップにおける処理液の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されなかったものと判断する、請求項２記載の基板処理装置。
5. 前記主制御部は、予め定められた時間間隔を空けて前記センサの出力値を前記ログ監視部に出力し、前記ログ監視部は、前記予め定められた時間間隔と同じ時間間隔で前記制御部から受け取った検出値を前記ログデータとして蓄積する、請求項１記載の基板処理装置。
6. 前記主制御部は、前記処理流体の吐出を伴う処理ステップにおいて基板に処理流体を吐出するノズルに対応するセンサを特定するための情報を、前記ログ監視部に送信する、請求項１記載の基板処理装置。
7. 前記主制御部及び前記ログ監視部は、それぞれ別のコンピュータにより構成され、有線または無線通信により相互に交信可能である、請求項１から６のうちのいずれか一項に記載の基板処理装置。
8. 前記主制御部及び前記ログ監視部は、同一のコンピュータ上で実行される主制御プログラムとログ監視プログラムにより実現される、請求項１から６のうちのいずれか一項に記載の基板処理装置。
9. 基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し、前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの処理ユニットと、
   処理レシピに基づいて前記処理ユニットの動作を制御する動作命令を発生する主制御部と、
   前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視部と、
   を備えた基板処理装置における流体吐出監視方法において、
   前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを前記ログ監視部に蓄積するステップと、
   前記主制御部により、前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記ログ監視部に送るステップと、
   前記ログ監視部により、前記ログ監視部に蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における前記処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、前記処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断するステップと、
   前記ログ監視部による判断の結果を前記主制御部に送信するステップと、
   を備えた流体吐出監視方法。
10. 基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生する基板処理制御装置と通信可能であり、前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視装置であって、
    前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを蓄積する蓄積部と、
    前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記基板処理制御装置から受信する受信部と、
    前記蓄積部に蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断する判断部と、
    前記判断部による判断の結果を前記基板処理制御装置に送信する送信部と、を備えるログ監視装置。
11. 基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生する基板処理制御装置と通信を行い、前記処理流体ノズルの吐出を監視する流体吐出監視方法であって、
    前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを蓄積部に蓄積する蓄積ステップと、
    前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記基板処理制御装置から受信する受信ステップと、
    前記蓄積部に蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断する判断ステップと、
    前記判断ステップにおける判断の結果を前記基板処理制御装置に送信する送信ステップと、を備える流体吐出監視方法。
12. 基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生する基板処理制御装置と通信を行い、前記処理流体ノズルの流体吐出を監視する流体吐出監視方法を実行するプログラムを記憶した記憶媒体であって、流体吐出監視方法は、
    前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを蓄積部に蓄積する蓄積ステップと、
    前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記基板処理制御装置から受信する受信ステップと、
    前記蓄積部に蓄積された時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断する判断ステップと、
    前記判断ステップにおける判断の結果を前記基板処理制御装置に送信する送信ステップと、を備える記憶媒体。
13. 基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生することができ、前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視装置と通信可能な基板処理制御装置であって、
    前記処理ユニットにて基板に流体処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを前記ログ監視装置に送信するログデータ送信部と、
    前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記ログ監視装置に送信する時刻データ送信部と、
    前記ログ監視装置が受信した時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断した結果を受信する受信部と、
    を備える基板処理制御装置。
14. 基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生し、前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視装置と通信して流体吐出の監視を行う流体吐出監視方法であって、
    前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを前記ログ監視装置に送信するログデータ送信ステップと、
    前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記ログ監視装置に送信する時刻データ送信ステップと、
    前記ログ監視装置が受信した時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断した結果を受信する受信ステップと、
    を備える流体吐出監視方法。
15. 基板に処理流体を吐出する少なくとも１つの処理流体ノズルと、前記各処理流体ノズルに処理流体を供給する処理流体供給機構とを有し前記処理流体により基板に処理を施す少なくとも１つの前記処理ユニットの動作を処理レシピに基づいて制御する動作命令を発生し、前記処理ユニットの動作に関するログデータを監視するログ監視装置と通信して流体吐出の監視を行う流体吐出監視方法を実行するプログラムを記憶した記憶媒体であって、流体吐出監視方法は、
    前記処理ユニットにて基板に処理が行われているときに、前記各処理流体ノズルからの処理流体の吐出流量に対応する流量を検出するセンサの検出値を時刻と関連付けたログデータを前記ログ監視装置に送信するログデータ送信ステップと、
    前記処理レシピにより定義される複数の処理ステップのうちの少なくとも処理流体の吐出を伴う処理ステップが実行された時刻のデータを前記ログ監視装置に送信する時刻データ送信ステップと、
    前記ログ監視装置が受信した時刻と関連付けられたログデータから、前記処理流体の吐出を伴う前記処理ステップが実行された時刻における当該処理流体の吐出に関連するログデータを抽出し、この抽出したログデータに基づいて、当該処理流体の吐出が前記処理レシピに定義されている通りに実行されたか否かを判断した結果を受信する受信ステップと、
    を備える記憶媒体。

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