JP2015142155A - 半導体素子モジュール及びゲート駆動回路 - Google Patents
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Abstract
【課題】駆動用素子のコレクタ−エミッタ間又はドレイン−ソース間電圧の変化を、分圧した状態で高精度に検出できる半導体素子モジュールを提供する。
【解決手段】駆動用素子2のコレクタ−エミッタ間電圧の変化を検出するために電圧変化センス素子3及び4を設け、電圧変化センス素子3及び4のそれぞれのゲートをそれぞれのエミッタに接続し、それらを直列に接続して直列回路を構成する。そして、前記直列回路を駆動用素子2に並列に接続し、当該直列回路における共通接続点を、駆動用素子2のコレクタ−エミッタ間電圧の変化を検出するための検出用端子VSとする。ゲート駆動回路9のターンオフ制御部6はターンオフが開始された段階ではゲート抵抗値を小さくしてスイッチング速度を速く設定しておき、ターンオフ期間内に、検出用端子VSの端子電圧が変化したことを検出すると、ゲート抵抗値を大きくしてスイッチング速度を遅くする。
【選択図】図1
【解決手段】駆動用素子2のコレクタ−エミッタ間電圧の変化を検出するために電圧変化センス素子3及び4を設け、電圧変化センス素子3及び4のそれぞれのゲートをそれぞれのエミッタに接続し、それらを直列に接続して直列回路を構成する。そして、前記直列回路を駆動用素子2に並列に接続し、当該直列回路における共通接続点を、駆動用素子2のコレクタ−エミッタ間電圧の変化を検出するための検出用端子VSとする。ゲート駆動回路9のターンオフ制御部6はターンオフが開始された段階ではゲート抵抗値を小さくしてスイッチング速度を速く設定しておき、ターンオフ期間内に、検出用端子VSの端子電圧が変化したことを検出すると、ゲート抵抗値を大きくしてスイッチング速度を遅くする。
【選択図】図1
Description
本発明は、電圧駆動型半導体素子からなる駆動用素子を備えてなる半導体素子モジュール,及び前記半導体素子モジュールに接続されて、駆動用素子のゲートに駆動信号を出力するゲート駆動回路に関する。
電圧駆動型半導体素子の一種であるIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)の駆動制御には、ターンオフ時に発生するスイッチング損失を低減するため、コレクタ−エミッタ間電圧をモニタしながらゲート電圧を印加する技術がある。例えば特許文献1では、IGBT2のゲート2aを分割して駆動用ゲート2b,検知用ゲート2cを設け、コレクタ電圧検知回路3が、検知用ゲート2cとコレクタ2dとの間の寄生容量Cgcを利用してコレクタ2dの電圧を検出している。
また、特許文献1には、検知用ゲート2cとグランドとの間にコンデンサ34を接続することで、コレクタ−エミッタ間電圧を寄生容量Cgcとコンデンサ34の容量Csとで分圧し、その分圧した電位をゲート駆動回路4により検出する構成も開示されている。この構成によれば、ゲート駆動回路4に、高耐圧の回路素子を用いる必要がなくなる。
上記の構成において、コレクタ−エミッタ間電圧を精度よく検出するには、寄生容量Cgcと外付け素子の容量Csと比が一定であることが望ましい。しかしながら、特許文献1の構成では、寄生容量Cgcと外付けのコンデンサ34との間に、製造上のばらつきや温度特性の相違がある。そして、寄生容量Cgcを有するIGBT2と、コンデンサ34を有するコレクタ電圧検知回路3Bが搭載される制御基板との間には、動作環境において相当の温度差があることから、総じて容量比のばらつきが大きくなる傾向にある。また、ゲート−エミッタ間が分離されているため、ノイズによる検出素子の誤オンが発生する懸念もある。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、駆動用素子のコレクタ−エミッタ間又はドレイン−ソース間電圧の変化を、分圧した状態で高精度に検出できる半導体素子モジュール,及び前記半導体素子モジュールに接続されるゲート駆動回路を提供することにある。
請求項1記載の半導体素子モジュールによれば、複数の電圧変化検出用素子を、それぞれのゲートを自身のエミッタ又はソースに接続し、それらを直列に接続して直列回路を構成する。そして、前記直列回路を駆動用素子に並列に接続し、当該直列回路における共通接続点の少なくとも1つが、駆動用素子のコレクタ−エミッタ間又はドレイン−ソース間電圧の変化を検出するための検出用端子として設けられている。
このように構成すれば、ゲート電圧を低下させてミラー効果が作用する領域(ミラー領域)に至ると、駆動用素子がターンオフを開始して、例えばコレクタ−エミッタ間電圧が上昇する。そして、駆動用素子が完全にオフすれば、前記コレクタの電位は付与されている電源電圧に等しくなる。この過程において、コレクタ−エミッタ間には正の電圧変化(dv/dt)が発生し、この電圧変化により、電圧変化検出用素子のコレクタ−ゲート間,コレクタ−エミッタ間に存在する寄生容量を介して、前記両端子間に電流が流れる。
すると、電圧変化検出用素子の直列回路における共通接続点には、駆動用素子のコレクタ−エミッタ間電圧が寄生容量により分圧された電位が現れる。したがって、前記共通接続点の電圧の変化をモニタすれば、駆動用素子がターンオフする過程におけるコレクタ−エミッタ間電圧の変化を、分圧された低い電圧として迅速に捉えることができる。ここで、複数の寄生容量間の製造ばらつきは小さく、またそれらは温度特性も等しいので、コレクタ−エミッタ間電圧を常に高い精度で検出できる。
そして、上記変化に応じて駆動用素子のゲート電圧を変化させれば、ターンオフ時にコレクタに発生しようとするサージ電圧を確実に低減できる。また、電圧変化検出用素子のゲートは自身のエミッタに接続されているので、上記ターンオフの過程において、電圧変化検出用素子がオンすることを確実に防止できる。
この場合、請求項2又は3に記載したように、駆動用素子と電圧変化検出用素子とを同一の半導体基板上に形成したり(請求項2),駆動用素子と電圧変化検出用素子とをそれぞれ異なる半導体基板上に形成し(請求項3)、樹脂モールドによりワンパッケージとすれば、電圧変化検出用素子を含んだ一体の半導体素子モジュールとして容易に取り扱うことができる。
請求項6記載のゲート駆動回路は、請求項1から5の何れか一項に記載の半導体素子モジュールに接続されて、駆動用素子のゲートに駆動信号を出力するもので、駆動用素子のスイッチング速度を変更可能に構成されるスイッチング速度可変手段を備える。そして、スイッチング速度制御手段は、駆動用素子のターンオフが開始された段階ではスイッチング速度を速く設定しておき、ターンオフ期間内に、検出用抵抗素子の端子電圧が変化したことを検出すると、スイッチング速度を遅くするようにスイッチング速度可変手段を制御する。これにより、駆動用素子がターンオフする期間内にスイッチング速度を低下させて、サージ電圧を低減することができる。
(第1実施形態)
図1において、半導体素子モジュール1は、駆動用素子2と電圧変化センス素子3及び4(電圧変化検出用素子)とを備えている。これらは何れも、例えばIGBT(電圧駆動型半導体素子)であり、同一のプロセスで同一の半導体チップ(半導体基板)上に形成されて、一体のICチップとして構成されている(図3参照)。尚、電圧変化センス素子3及び4のサイズは、駆動用素子2よりも小さく形成されている。また、駆動用素子2のコレクタ,エミッタ間には、フリーホイールダイオード2Dが形成されている。
図1において、半導体素子モジュール1は、駆動用素子2と電圧変化センス素子3及び4(電圧変化検出用素子)とを備えている。これらは何れも、例えばIGBT(電圧駆動型半導体素子)であり、同一のプロセスで同一の半導体チップ(半導体基板)上に形成されて、一体のICチップとして構成されている(図3参照)。尚、電圧変化センス素子3及び4のサイズは、駆動用素子2よりも小さく形成されている。また、駆動用素子2のコレクタ,エミッタ間には、フリーホイールダイオード2Dが形成されている。
駆動用素子2のゲート(導通制御端子),コレクタ(導通端子),エミッタ(基準電位側導通端子)は、それぞれ半導体素子モジュール1の外部端子G,C,Eに接続されている。電圧変化センス素子3及び4は直列に接続されており、電圧変化センス素子3のコレクタは、上記外部端子Cに接続されている。また、ゲートは、自身のエミッタと共に半導体素子モジュール1の外部端子VS(検出用端子)に接続されている。電圧変化センス素子4のゲートは、自身のエミッタと共に半導体素子モジュール1の外部端子Eに接続されている。
外部端子VSは、コンパレータ5の反転入力端子に接続されており、コンパレータ5の非反転入力端子には、基準電圧Vrefが与えられている。基準電圧Vrefの基準電位は、外部端子E’(回路グランド)となっている。尚、外部端子E’は、半導体素子モジュール1の内部で外部端子Eと接続されている端子であるから、必ずしも独立して設ける必要はない。
コンパレータ5の出力端子は、ターンオフ制御部6(スイッチング速度制御手段)の入力端子に接続されている。半導体素子モジュール1の外部端子Gと、外部端子E’との間には、抵抗素子R1及びスイッチ7の直列回路(スイッチング速度可変手段)と、抵抗素子R2及びスイッチ8の直列回路(スイッチング速度可変手段)とが並列に接続されている。
ターンオフ制御部6には、駆動用素子2の駆動信号(ゲート制御信号)が与えられており、駆動信号がローレベルで且つコンパレータ5の出力電圧がハイレベルであれば、スイッチ7及び8を同時にオンする。また、駆動信号がローレベルで且つコンパレータ5の出力電圧がローレベルであれば、スイッチ7のみをオンする。以上において、半導体素子モジュール1を除いたものがゲート駆動回路9を構成しており、ゲート駆動回路9は、制御基板10に各素子が搭載されて構成されている。
尚、ゲート駆動回路9については、駆動用素子2をターンオフさせるための構成部分のみを示しており、駆動用素子2をターンオンさせる際には、図示しない信号経路により外部端子Gにハイレベル信号が印加される(この時、スイッチ7及び8は何れもオフされる)。
尚、ゲート駆動回路9については、駆動用素子2をターンオフさせるための構成部分のみを示しており、駆動用素子2をターンオンさせる際には、図示しない信号経路により外部端子Gにハイレベル信号が印加される(この時、スイッチ7及び8は何れもオフされる)。
図3に示すように、駆動用素子2と電圧変化センス素子3及び4とは、同一の半導体チップ11に形成されており、半導体チップ11は、リードフレーム12に搭載された状態で、モールド樹脂13によりモールドされてワンパッケージのICとなっている。
次に、本実施形態の作用について説明する。図2は、半導体素子モジュール1の駆動用素子2をターンオフさせる場合の(a)ゲート−エミッタ間電圧VGE,(b)コレクタ−エミッタ間電圧VCE,(c)センス端子S−エミッタ間電圧VSEを示している。電圧VGEをハイレベルからローレベルに変化させる途中で、ミラー領域において当該電圧波形はほぼフラットになる。その後、駆動用素子2がターンオフを開始して、電圧VCEが上昇し、最終的にはコレクタに付与されている電源電圧(システム電圧)に到達する。
上記の過程において、半導体素子モジュール1の端子G−E’間に接続されているのが、一貫して抵抗素子R2及びR3の並列回路であれば、電圧VCEは実線で示すように変化し、駆動用素子2が完全にオフしようとする際に、コレクタにはインダクタンス成分によってサージ電圧が発生する。
一方、ゲート駆動回路9により電圧VCEが上昇する過程で、コレクタ−エミッタ間には正の電圧変化(dv/dt)が発生する。図1に示すように、電圧変化センス素子3,4のコレクタ−ゲート間には、それぞれ寄生容量Ccg3,Ccg4が存在する(尚、図示はしないが、寄生容量はコレクタ−エミッタ間にも存在する)。このため、上記電圧変化により、寄生容量Ccg3及びCcg4を介して外部端子C−E(及びE’)間に電流が流れる。このとき、電圧VCEは、寄生容量Ccg3及びCcg4により分圧されるので、端子VSの電圧VSEはより低いレベルとなる。
そして、電圧VSEが上昇して基準電圧Vrefを超えるとコンパレータ5の出力電圧はローレベルに変化し、ターンオフ制御部6はスイッチ8をオフするので、これ以降、駆動用素子2のゲートは抵抗素子R2のみを介して放電される。
つまり、駆動用素子2をターンオフさせる途中で、ゲートを放電させる経路中の抵抗値が上昇することになり、スイッチング速度が低下する。この作用により、電圧VGEが低下する勾配が緩やかになり、電圧VCEの変化が緩和されるため、破線で示すようにサージ電圧の振幅が低減される。尚、図2(c)に示す「ゲート抵抗切替え遅延時間」は、コンパレータ5の出力電圧がローレベルに変化してから、電圧VCEが電源電圧に到達する直前にゲート抵抗値を切り替えることで、サージ電圧を効果的に抑制するための時間を考慮して設定すれば良く、必要であれば、遅延回路を用いて調整すれば良い。
以上のように本実施形態によれば、駆動用素子2のコレクタ−エミッタ間電圧の変化を検出するために電圧変化センス素子3及び4を設け、電圧変化センス素子3及び4のそれぞれのゲートをそれぞれのエミッタに接続し、それらを直列に接続して直列回路を構成する。そして、前記直列回路を駆動用素子2に並列に接続し、当該直列回路における共通接続点を、駆動用素子2のコレクタ−エミッタ間電圧の変化を検出するための検出用端子VSとした。
このように構成すれば、ゲート電圧を低下させることで駆動用素子2がターンオフを開始し、コレクタ−エミッタ間電圧が上昇する過程において、コレクタ−エミッタ間には正の電圧変化(dv/dt)が発生するので、この電圧変化により、電圧変化センス素子3及び4のコレクタ−ゲート間,コレクタ−エミッタ間に存在する寄生容量を介して前記両端子間に電流が流れる。
すると、電圧変化検出用素子3及び4の直列回路における共通接続点には、駆動用素子2のコレクタ−エミッタ間電圧が寄生容量Ccg3及びCcg4により分圧された電位が現れる。したがって、前記共通接続点の電圧の変化をモニタすれば、駆動用素子2がターンオフする過程におけるコレクタ−エミッタ間電圧の変化を、分圧された低い電圧として迅速に捉えることができる。寄生容量Ccg3及びCcg4間の製造ばらつきは小さく、またそれらは温度特性も等しいので、コレクタ−エミッタ間電圧を常に高い精度で検出できる。そして、その変化に応じて駆動用素子2のゲート電圧を変化させれば、ターンオフ時にコレクタに発生しようとするサージ電圧を確実に低減できる。また、電圧変化検出用素子3及び4のゲートはそれぞれ自身のエミッタに接続されているので、上記ターンオフの過程において、電圧変化検出用素子3及び4がオンすることを確実に防止できる。
また、駆動用素子2と電圧変化検出用素子3及び4とを同一の半導体チップ11上に形成し、樹脂モールドによりワンパッケージとしたので、電圧変化検出用素子3及び4を含んだ一体の半導体素子モジュール1として容易に取り扱うことができる。
そして、ゲート駆動回路9のターンオフ制御部6は、ターンオフが開始された段階ではゲート抵抗値を小さくしてスイッチング速度を速く設定しておき、ターンオフ期間内に、検出用端子VSの電圧が変化したことを検出すると、ゲート抵抗値を大きくしてスイッチング速度を遅くするようにした。これにより、駆動用素子2がターンオフする期間内にスイッチング速度を低下させて、サージ電圧を低減することができる。
(第2実施形態)
以下、第1実施形態と同一部分には同一符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。図4に示すように、第2実施形態の半導体素子モジュール14は、駆動用素子2を半導体チップ15上に形成し、電圧変化検出用素子3及び4を別の半導体チップ16上に形成し、樹脂モールド13によりワンパッケージとしたものである。斯様に構成した第2実施形態による場合も、第1実施形態と同様の効果が得られる。
以下、第1実施形態と同一部分には同一符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。図4に示すように、第2実施形態の半導体素子モジュール14は、駆動用素子2を半導体チップ15上に形成し、電圧変化検出用素子3及び4を別の半導体チップ16上に形成し、樹脂モールド13によりワンパッケージとしたものである。斯様に構成した第2実施形態による場合も、第1実施形態と同様の効果が得られる。
(第3実施形態)
図5に示すように、第3実施形態のゲート駆動回路21は、抵抗素子R2及びスイッチ7の直列回路と、抵抗素子R3及びスイッチ8の直列回路とが削除されており、これらに替えて可変定電流源22(スイッチング速度可変手段)が配置されている。
図5に示すように、第3実施形態のゲート駆動回路21は、抵抗素子R2及びスイッチ7の直列回路と、抵抗素子R3及びスイッチ8の直列回路とが削除されており、これらに替えて可変定電流源22(スイッチング速度可変手段)が配置されている。
また、ターンオフ制御部6に替わるターンオフ制御部23(スイッチング速度制御手段)は、駆動用素子2の駆動信号がローレベルで且つコンパレータ5の出力電圧がハイレベルであれば、例えば出力信号をローレベルにする。このとき、可変定電流源22が流す定電流値は大きく設定されており、駆動用素子2のゲートは急速に放電されてスイッチング速度は比較的速くなる。そして、駆動信号がローレベルで且つコンパレータ5の出力電圧がローレベルであれば、ターンオフ制御部23は出力信号をハイレベルにする。このとき、可変定電流源22が流す定電流値は小さくなるように設定されており、駆動用素子2のゲートは緩慢に放電されるようになり、スイッチング速度は比較的遅くなる。
以上のように構成される第3実施形態によれば、ゲート駆動回路21は、可変定電流源22が流す定電流値を変化させることで、駆動用素子2をターンオフさせる際のスイッチング速度を変化させるので、第1実施形態と同様の効果が得られる。
以上のように構成される第3実施形態によれば、ゲート駆動回路21は、可変定電流源22が流す定電流値を変化させることで、駆動用素子2をターンオフさせる際のスイッチング速度を変化させるので、第1実施形態と同様の効果が得られる。
(第4実施形態)
図6に示すように、第4実施形態の半導体素子モジュール1Aは、電圧変化検出用素子4のエミッタを電圧変化検出用素子3のエミッタに接続し、コレクタを外部端子Eに接続した構成である。斯様に構成した第3実施形態による場合も、第1実施形態と同様の効果が得られる。
図6に示すように、第4実施形態の半導体素子モジュール1Aは、電圧変化検出用素子4のエミッタを電圧変化検出用素子3のエミッタに接続し、コレクタを外部端子Eに接続した構成である。斯様に構成した第3実施形態による場合も、第1実施形態と同様の効果が得られる。
(第5実施形態)
図7に示すように、第5実施形態の半導体素子モジュール31は、電圧変化検出用素子3に対して並列に、電圧変化検出用素子32を接続した構成である。斯様に構成した第5実施形態による場合も、第1実施形態と同様の効果が得られる。
図7に示すように、第5実施形態の半導体素子モジュール31は、電圧変化検出用素子3に対して並列に、電圧変化検出用素子32を接続した構成である。斯様に構成した第5実施形態による場合も、第1実施形態と同様の効果が得られる。
(第6実施形態)
図8に示すように、第6実施形態の半導体素子モジュール41は、駆動用素子2のコレクタと、電圧変化検出用素子3のコレクタとの間に、もう1つの電圧変化検出用素子423を接続して3直列構成としたものである。斯様に構成した第6実施形態によれば、駆動用素子2のコレクタ−エミッタ間電圧をより低い電位に分圧することができる。
図8に示すように、第6実施形態の半導体素子モジュール41は、駆動用素子2のコレクタと、電圧変化検出用素子3のコレクタとの間に、もう1つの電圧変化検出用素子423を接続して3直列構成としたものである。斯様に構成した第6実施形態によれば、駆動用素子2のコレクタ−エミッタ間電圧をより低い電位に分圧することができる。
(第7実施形態)
図9に示すように、第7実施形態の半導体素子モジュール51は、第4実施形態の半導体素子モジュール1Aにおける電圧変化検出用素子3及び4のエミッタ間に、抵抗素子52を接続したものである。また、電圧変化検出用素子4のエミッタ,コレクタ間には、ダイオード53が接続されている。斯様に構成した第7実施形態によれば、寄生容量Ccg3が破壊された場合でも、抵抗素子52によりコンパレータ5等の保護を図ることができる。
図9に示すように、第7実施形態の半導体素子モジュール51は、第4実施形態の半導体素子モジュール1Aにおける電圧変化検出用素子3及び4のエミッタ間に、抵抗素子52を接続したものである。また、電圧変化検出用素子4のエミッタ,コレクタ間には、ダイオード53が接続されている。斯様に構成した第7実施形態によれば、寄生容量Ccg3が破壊された場合でも、抵抗素子52によりコンパレータ5等の保護を図ることができる。
(第8実施形態)
図10に示す第8実施形態は、本発明の半導体モジュールを、インバータ回路の入力電圧を検出するために適用した場合を示す。インバータ回路60は、6個のスイッチング素子(例えばIGBT)61〜66を3相ブリッジ接続して構成されており、これらのうち負側に配置されているスイッチング素子64〜66に対して、例えば第1実施形態の半導体モジュール1U,1V,1Wがそれぞれ並列に接続されている。
図10に示す第8実施形態は、本発明の半導体モジュールを、インバータ回路の入力電圧を検出するために適用した場合を示す。インバータ回路60は、6個のスイッチング素子(例えばIGBT)61〜66を3相ブリッジ接続して構成されており、これらのうち負側に配置されているスイッチング素子64〜66に対して、例えば第1実施形態の半導体モジュール1U,1V,1Wがそれぞれ並列に接続されている。
半導体モジュール1U,1V,1Wの各外部端子VS1,VS2,V3Sは、インバータ入力電圧検出回路67の入力端子にそれぞれ接続されている。負側に配置されているスイッチング素子64〜66には、正側のスイッチング素子61〜63側がオンしている期間に入力電圧が印加される。したがって、インバータ入力電圧検出回路67は、上記オン期間に、半導体モジュール1U,1V,1Wにより分圧された入力電圧を検出することができる。
本発明は上記した、又は図面に記載した実施形態にのみ限定されるものではなく、以下のような変形又は拡張が可能である。
電圧駆動型半導体素子は、その他MOSFETなどでも良い。
第1実施形態において、例えば抵抗素子R2の抵抗値を低く,抵抗素子R3の抵抗値を高く設定しておき、ターンオフの開始時には抵抗素子R2のみを接続し、ターンオフ動作の途中で抵抗素子R3側に接続を切り替えるように制御しても良い。
電圧駆動型半導体素子は、その他MOSFETなどでも良い。
第1実施形態において、例えば抵抗素子R2の抵抗値を低く,抵抗素子R3の抵抗値を高く設定しておき、ターンオフの開始時には抵抗素子R2のみを接続し、ターンオフ動作の途中で抵抗素子R3側に接続を切り替えるように制御しても良い。
第3〜第7実施形態に、第2実施形態のパッケージ構成や、第3実施形態のゲート駆動回路21を用いても良い。
第5実施形態において、電圧変化センス素子32を、電圧変化センス素子4に並列に接続しても良い。また、電圧変化センス素子3,4のそれぞれに並列に接続しても良い。
第8実施形態と同様にして、ハーフブリッジ回路やHブリッジ回路の入力電圧を検出しても良い。
第5実施形態において、電圧変化センス素子32を、電圧変化センス素子4に並列に接続しても良い。また、電圧変化センス素子3,4のそれぞれに並列に接続しても良い。
第8実施形態と同様にして、ハーフブリッジ回路やHブリッジ回路の入力電圧を検出しても良い。
図面中、1は半導体素子モジュール、2は駆動用素子、3,4は電圧変化センス素子(電圧変化検出用素子)、6はターンオフ制御部(スイッチング速度制御手段)、7,8はスイッチ(スイッチング速度可変手段)、9はゲート駆動回路、11は半導体チップ(半導体基板)、R1,R2は抵抗素子(スイッチング速度可変手段)を示す。
Claims (8)
- 電圧駆動型半導体素子からなる駆動用素子(2)と複数の電圧変化検出用素子(3,4,42)とを備え、
前記複数の電圧変化検出用素子は、直列に接続されて直列回路を構成していると共に、それぞれのゲートが自身のエミッタ又はソースに接続されており、
前記直列回路は、前記駆動用素子に並列に接続され、
前記直列回路における共通接続点の少なくとも1つが、前記駆動用素子のコレクタ−エミッタ間又はドレイン−ソース間電圧の変化を検出するための検出用端子として設けられていることを特徴とする半導体素子モジュール(1,1A,14,31,41,51)。 - 前記駆動用素子と前記電圧変化検出用素子とが同一の半導体基板(11)上に形成され、樹脂モールドによりワンパッケージされていることを特徴とする請求項1記載の半導体素子モジュール(1)。
- 前記駆動用素子と前記電圧変化検出用素子とがそれぞれ異なる半導体基板(15,16)上に形成され、樹脂モールドによりワンパッケージされていることを特徴とする請求項1記載の半導体素子モジュール(14)。
- 前記直列回路を構成する電圧変化検出用素子の少なくとも1つに、更に電圧変化検出用素子(32)を並列に接続したことを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の半導体素子モジュール(31)。
- 前記直列回路を構成する電圧変化検出用素子の間に、抵抗素子(52)又はダイオードを挿入したことを特徴とする請求項1から4の何れか一項に記載の半導体素子モジュール(51)。
- 請求項1から5の何れか一項に記載の半導体素子モジュールに接続されて、前記駆動用素子のゲートに駆動信号を出力するゲート駆動回路であって、
前記駆動用素子のスイッチング速度を変更可能に構成されるスイッチング速度可変手段(7,8,R1,R2,22)と、
前記駆動用素子のターンオフが開始された段階では前記スイッチング速度を速く設定しておき、前記ターンオフ期間内に、前記半導体素子モジュールの検出用端子の電圧が変化したことを検出すると、前記スイッチング速度を遅くするように前記スイッチング速度可変手段を制御するスイッチング速度制御手段(6,23)とを備えたことを特徴とするゲート駆動回路(9,21)。 - 前記スイッチング速度可変手段(7,8,R1,R2)は、前記駆動用素子のゲート抵抗値を変化させることで、前記スイッチング速度を変更することを特徴とする請求項6記載のゲート駆動回路(9)。
- 前記スイッチング速度可変手段(22)は、前記駆動用素子のゲートを放電する電流量を変化させることで、前記スイッチング速度を変更することを特徴とする請求項6記載のゲート駆動回路(21)。
Priority Applications (4)
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