JP2015139775A - 水銀再放出制御 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】大気などの環境への水銀の放出および/または再放出を減らすために、燃料資源の燃焼によって生成される排煙から水銀量を除去するにあたり、前記排煙を湿式洗浄作業にかけて、該排煙に存在する硫黄酸化物の量を低下させる。
【選択図】図1
Description
本発明者は、1種以上のシクロデキストリン、1種以上のシクロデキストリンの誘導体、例えばα−、β−もしくはγ−シクロデキストリンとエポキシド、例えばプロピレンオキシド、イソブチレンオキシド、エピクロロヒドリンもしくは1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルなどとの縮合によって製造される誘導体といった、医薬品科学において知られるもの、またはそれらの混合物を、WFGDシステムの水性アルカリ性スラリー中の添加剤として使用することで、溶解された水銀種は、それらとの錯形成により制御でき、それにより浄化された排煙の水銀の放出および/または再放出が制御および低減されることを見出した。WFGDシステムにおいて酸性ガスの吸収のために石灰岩を使用し、かつ石膏スラリーを循環させることで、1種以上のシクロデキストリン、1種以上のシクロデキストリンの誘導体またはそれらの混合物を意味する本願で使用されるシクロデキストリン添加剤の使用は、建築乾燥壁での使用などの他の使用のために石膏副生物の品質を損なうことなく水銀の放出および/または再放出を制御する。こういったことは、硫化水素ナトリウム、硫化ナトリウム、トリメルカプトトリアジン、ポリジチオカルバメート、ジエチルジチオカルバメートなどの健康、臭気、取り扱いと類似の望ましくない問題点が懸念される化学的添加剤では決して当てはまらない。
1. 浄化された燃焼排煙中での水銀の放出または再放出のレベルを制御、低下または抑制するための方法であって、
燃焼排煙をWFGDシステムへと供給して、水性アルカリ性スラリーと直接的に接触させて該排煙から汚染物質を除去することで浄化された排煙を生成させることと、
溶解された水銀種濃度または水銀濃度を測定して、WFGDシステム中の測定濃度値を得て、予め決められた濃度値と比較することと、
WFGDシステムへと供給されるシクロデキストリン添加剤の量を調整して、前記測定濃度を増加または減少させて、生成された浄化された排煙中での水銀の放出および/または再放出のレベルを低下させることと、
を含む前記方法。
2. 前記溶解された水銀種濃度は、WFGDシステムの水性アルカリ性スラリー中で測定される、1に記載の方法。
3. 前記溶解された水銀種濃度は、スプレー塔型のWFGDシステムの水性アルカリ性スラリー中で測定される、1に記載の方法。
4. 前記水銀濃度は、WFGDシステムからの浄化された排煙中で測定される、1に記載の方法。
5. 前記水銀濃度は、スプレー塔型のWFGDシステムからの浄化された排煙中で測定される、1に記載の方法。
6. 前記シクロデキストリン添加剤は、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、α−シクロデキストリンの誘導体、β−シクロデキストリンの誘導体、γ−シクロデキストリンの誘導体、α−、β−もしくはγ−シクロデキストリンとエポキシドとの縮合によって製造されるシクロデキストリンの誘導体およびそれらの混合物からなる群から選択される1種以上の錯化剤である、1に記載の方法。
7. シクロデキストリン添加剤を水性アルカリ性スラリー中に分配する撹拌機を使用することを更に含む、1に記載の方法。
8. 浄化された燃焼排煙中での水銀の放出または再放出のレベルを低下させるためのシステムであって、
貫流する燃焼排煙と直接的に接触させるための水性アルカリ性スラリーを有するWFGDシステムと、
前記水性アルカリ性スラリーを前記燃焼排煙との直接的な接触後に回収するための回収槽であって回収された水性アルカリ性スラリー中の溶解された水銀種濃度を測定して溶解された水銀種の測定濃度を得るための前記槽内に配置された1つ以上の溶解された水銀種のセンサを有する回収槽と、
前記溶解された水銀種の測定濃度と予め決められた溶解された水銀種の濃度とを比較して、それを基礎としてデバイスを制御する制御デバイスと、
前記制御デバイスによって制御される、前記水性アルカリ性スラリーに供給されるシクロデキストリン添加剤の量を調整して、溶解された水銀種の濃度を増加または減少させて、生成された浄化された排煙中での水銀の放出および/または再放出のレベルを低下させるためのデバイスと、
を含む前記システム。
9. 前記WFGDシステムの出口に、貫流する浄化された排煙中の水銀濃度を測定して水銀の測定濃度を得るための1つ以上の水銀センサを更に含む、8に記載のシステム。
10. 貫流する浄化される排煙中の水銀濃度を測定して水銀の測定濃度を得るためのWFGDシステムの出口にある1つ以上の水銀センサを更に含み、その際、前記制御デバイスは、前記水銀の測定濃度を予め決められた水銀濃度と比較して、それを基礎として前記水性アルカリ性スラリーに供給されるシクロデキストリン添加剤の量を調整して、前記溶解された水銀種の濃度を増加または減少させて、生成された浄化された排煙中での水銀の放出および/または再放出のレベルを低下させるように作動されるデバイスを制御するように作動される、8に記載のシステム。
11. シクロデキストリン添加剤を水性アルカリ性スラリー中に分配する撹拌機を更に含む、8に記載のシステム。
12. 前記シクロデキストリン添加剤は、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、α−シクロデキストリンの誘導体、β−シクロデキストリンの誘導体、γ−シクロデキストリンの誘導体、α−、β−もしくはγ−シクロデキストリンとエポキシドとの縮合によって製造されるシクロデキストリンの誘導体およびそれらの混合物からなる群から選択される1種以上の錯化剤である、8に記載のシステム。
13. 浄化された燃焼排煙中での水銀の放出または再放出のレベルを低下させるためのシステムであって、
貫流する燃焼排煙と直接的に接触させるための水性アルカリ性スラリーを有するWFGDシステムと、
前記水性アルカリ性スラリーを前記燃焼排煙との直接的な接触後に回収するための回収槽であって生成された浄化された排煙中の水銀濃度を測定して水銀の測定濃度を得るための前記槽内に配置された1つ以上の水銀センサを有する回収槽と、
前記水銀の測定濃度と予め決められた水銀濃度とを比較して、それを基礎としてデバイスを制御する制御デバイスと
前記制御デバイスによって制御される、前記水性アルカリ性スラリーに供給されるシクロデキストリン添加剤の量を調整して、前記水性アルカリ性スラリー中に溶解された水銀種の濃度を増加または減少させて、生成された浄化された排煙中での水銀の放出および/または再放出のレベルを低下させるためのデバイスと、
を含む前記システム。
14. 溶解された水銀種の濃度を測定して溶解された水銀種の測定濃度を得るための水性アルカリ性スラリー中の1つ以上の溶解された水銀種のセンサを更に含み、その際、前記制御デバイスは、前記溶解された水銀種の測定濃度を予め決められた溶解された水銀種の濃度と比較して、それを基礎として前記水性アルカリ性スラリーに供給されるシクロデキストリン添加剤の量を調整して、溶解された水銀種の濃度を増加または減少させて、生成された浄化された排煙中での水銀の放出および/または再放出のレベルを低下させるように作動される、13に記載のシステム。
15. 前記シクロデキストリン添加剤は、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、α−シクロデキストリンの誘導体、β−シクロデキストリンの誘導体、γ−シクロデキストリンの誘導体、α−、β−もしくはγ−シクロデキストリンとエポキシドとの縮合によって製造されるシクロデキストリンの誘導体およびそれらの混合物からなる群から選択される1種以上の錯化剤である、13に記載のシステム。
Claims (15)
- 浄化された燃焼排煙中での水銀の放出または再放出のレベルを制御、低下または抑制するための方法であって、
燃焼排煙をWFGDシステムへと供給して、水性アルカリ性スラリーと直接的に接触させて該排煙から汚染物質を除去することで浄化された排煙を生成させることと、
溶解された水銀種濃度または水銀濃度を測定して、WFGDシステム中の測定濃度値を得て、予め決められた濃度値と比較することと、
WFGDシステムへと供給されるシクロデキストリン添加剤の量を調整して、前記測定濃度を増加または減少させて、生成された浄化された排煙中での水銀の放出および/または再放出のレベルを低下させることと、
を含む前記方法。 - 前記溶解された水銀種濃度は、WFGDシステムの水性アルカリ性スラリー中で測定される、請求項1に記載の方法。
- 前記溶解された水銀種濃度は、スプレー塔型のWFGDシステムの水性アルカリ性スラリー中で測定される、請求項1に記載の方法。
- 前記水銀濃度は、WFGDシステムからの浄化された排煙中で測定される、請求項1に記載の方法。
- 前記水銀濃度は、スプレー塔型のWFGDシステムからの浄化された排煙中で測定される、請求項1に記載の方法。
- 前記シクロデキストリン添加剤は、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、α−シクロデキストリンの誘導体、β−シクロデキストリンの誘導体、γ−シクロデキストリンの誘導体、α−、β−もしくはγ−シクロデキストリンとエポキシドとの縮合によって製造されるシクロデキストリンの誘導体およびそれらの混合物からなる群から選択される1種以上の錯化剤である、請求項1に記載の方法。
- シクロデキストリン添加剤を水性アルカリ性スラリー中に分配する撹拌機を使用することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 浄化された燃焼排煙中での水銀の放出または再放出のレベルを低下させるためのシステムであって、
貫流する燃焼排煙と直接的に接触させるための水性アルカリ性スラリーを有するWFGDシステムと、
前記水性アルカリ性スラリーを前記燃焼排煙との直接的な接触後に回収するための回収槽であって回収された水性アルカリ性スラリー中の溶解された水銀種濃度を測定して溶解された水銀種の測定濃度を得るための前記槽内に配置された1つ以上の溶解された水銀種のセンサを有する回収槽と、
前記溶解された水銀種の測定濃度と予め決められた溶解された水銀種の濃度とを比較して、それを基礎としてデバイスを制御する制御デバイスと、
前記制御デバイスによって制御される、前記水性アルカリ性スラリーに供給されるシクロデキストリン添加剤の量を調整して、溶解された水銀種の濃度を増加または減少させて、生成された浄化された排煙中での水銀の放出および/または再放出のレベルを低下させるためのデバイスと、
を含む前記システム。 - 前記WFGDシステムの出口に、貫流する浄化された排煙中の水銀濃度を測定して水銀の測定濃度を得るための1つ以上の水銀センサを更に含む、請求項8に記載のシステム。
- 貫流する浄化される排煙中の水銀濃度を測定して水銀の測定濃度を得るためのWFGDシステムの出口にある1つ以上の水銀センサを更に含み、その際、前記制御デバイスは、前記水銀の測定濃度を予め決められた水銀濃度と比較して、それを基礎として前記水性アルカリ性スラリーに供給されるシクロデキストリン添加剤の量を調整して、前記溶解された水銀種の濃度を増加または減少させて、生成された浄化された排煙中での水銀の放出および/または再放出のレベルを低下させるように作動されるデバイスを制御するように作動される、請求項8に記載のシステム。
- シクロデキストリン添加剤を水性アルカリ性スラリー中に分配する撹拌機を更に含む、請求項8に記載のシステム。
- 前記シクロデキストリン添加剤は、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、α−シクロデキストリンの誘導体、β−シクロデキストリンの誘導体、γ−シクロデキストリンの誘導体、α−、β−もしくはγ−シクロデキストリンとエポキシドとの縮合によって製造されるシクロデキストリンの誘導体およびそれらの混合物からなる群から選択される1種以上の錯化剤である、請求項8に記載のシステム。
- 浄化された燃焼排煙中での水銀の放出または再放出のレベルを低下させるためのシステムであって、
貫流する燃焼排煙と直接的に接触させるための水性アルカリ性スラリーを有するWFGDシステムと、
前記水性アルカリ性スラリーを前記燃焼排煙との直接的な接触後に回収するための回収槽であって生成された浄化された排煙中の水銀濃度を測定して水銀の測定濃度を得るための前記槽内に配置された1つ以上の水銀センサを有する回収槽と、
前記水銀の測定濃度と予め決められた水銀濃度とを比較して、それを基礎としてデバイスを制御する制御デバイスと
前記制御デバイスによって制御される、前記水性アルカリ性スラリーに供給されるシクロデキストリン添加剤の量を調整して、前記水性アルカリ性スラリー中に溶解された水銀種の濃度を増加または減少させて、生成された浄化された排煙中での水銀の放出および/または再放出のレベルを低下させるためのデバイスと、
を含む前記システム。 - 溶解された水銀種の濃度を測定して溶解された水銀種の測定濃度を得るための水性アルカリ性スラリー中の1つ以上の溶解された水銀種のセンサを更に含み、その際、前記制御デバイスは、前記溶解された水銀種の測定濃度を予め決められた溶解された水銀種の濃度と比較して、それを基礎として前記水性アルカリ性スラリーに供給されるシクロデキストリン添加剤の量を調整して、溶解された水銀種の濃度を増加または減少させて、生成された浄化された排煙中での水銀の放出および/または再放出のレベルを低下させるように作動される、請求項13に記載のシステム。
- 前記シクロデキストリン添加剤は、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、α−シクロデキストリンの誘導体、β−シクロデキストリンの誘導体、γ−シクロデキストリンの誘導体、α−、β−もしくはγ−シクロデキストリンとエポキシドとの縮合によって製造されるシクロデキストリンの誘導体およびそれらの混合物からなる群から選択される1種以上の錯化剤である、請求項13に記載のシステム。
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