JP2015122278A

JP2015122278A - 大気圧プラズマ発生装置、医療器具および大気圧プラズマ処理方法

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Publication number: JP2015122278A
Application number: JP2013266854A
Authority: JP
Inventors: 直樹奥村; Naoki Okumura
Original assignee: Air Water Inc
Current assignee: Air Water Inc
Priority date: 2013-12-25
Filing date: 2013-12-25
Publication date: 2015-07-02
Anticipated expiration: 2033-12-25
Also published as: JP6230411B2

Abstract

【課題】高電圧印加時の異常放電の発生を抑えることができるとともに、処理効果が高く、安定放電領域が広い大気圧プラズマ処理装置、医療器具および大気圧プラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置は、軸方向に延びる絶縁体１を備えている。絶縁体１の内部には、プラズマ発生空間としての第１の中空部５が軸方向に延びるようにして設けられている。絶縁体１の内部に軸方向に延びるようにして設けられた第２の中空部６に軸方向に延びるようにして単電極２が配置されている。また、単電極２に交流電圧を印加するための電源４をさらに備えている。
【選択図】図１

Description

本発明は、大気圧プラズマ発生装置、医療器具および大気圧プラズマ処理方法に関する。

従来より、生体や樹脂フィルム等の、熱ダメージに弱い被処理対象物の表面を改質する方法として、絶縁体管の内部でグロー放電により生成したプラズマをジェット状に噴出させる、あるいは、プラズマにより生成した活性種を噴出させる方法が用いられてきた（たとえば特許文献１〜３参照）。

図５に、従来のプラズマ発生装置の一例の構成を図解する模式的な側面図を示す。図５に示す装置は、絶縁体管１０１の外表面の一部を取り巻くようにして単電極１０２が設置された構成を有している。

図５に示す装置においては、絶縁体管１０１の内部にガス１０３を導入して、高周波電圧印加装置１０４から電極１０２に高周波電圧を印加することによってプラズマ１０５を発生させ、これを絶縁体管１０１の先端からジェット状に噴出させている。

図６に、従来のプラズマ発生装置の一例の構成を図解する模式的な側面図を示す。図６に示す装置は、絶縁体管１０１の外表面の一部を取り巻くようにして第１の電極１０２ａと第２の電極１０２ｂとが互いに間隔を空けて設置された構成を有している。

図６に示す装置においては、絶縁体管１０１の内部にガス１０３を導入して、高周波電圧印加装置１０４から第２の電極１０２ｂに高周波電圧を印加することによってプラズマ１０５を発生させ、これを絶縁体管１０１の先端からジェット状に噴出させている。

図７に、従来のプラズマ発生装置のさらに他の一例の構成を図解する模式的な平面透視図を示す。図７に示す装置は、絶縁体管１０１の内部の中心に棒状の第１の電極１０２ａが挿入されており、絶縁体管１０１の外表面の一部を取り巻くようにして第２の電極１０２ｂが設置された構成を有している。

図７に示す装置においては、絶縁体管１０１の内部にガス１０３を導入して、高周波電圧印加装置１０４から第１の電極１０２ａに高周波電圧を印加することによってプラズマ１０５を発生させ、これを絶縁体管１０１の先端からジェット状に噴出させている。

国際公開２００８／０７２３９０号特開２００１−６８９７号公報特開２０００−２８２２４３号公報

近年、大気圧プラズマを癌細胞に直接照射することにより、癌細胞のアポトーシス（細胞死）を誘導することが発見され、これまで困難であった癌細胞の播種の治療に有効な新しい癌治療法として注目されている。

上記の新しい癌治療法における大気圧プラズマの照射方法についての要望を満たすためには、実用の観点からは、微弱なプラズマから強力なプラズマまで広範囲なプラズマを安定して発生させること、つまり安定放電領域を広く有していることが必要である。

しかしながら、図５に示す装置は、絶縁体管１０１の外表面に設置された単一の単電極１０２を有しているが、単電極１０２の形態上、正弦波形の交流電圧を印加しても放電しない。また、パルス波形の交流電圧を印加した場合には放電するが、極めて高い電圧を印加する必要があるため、実用的とは言い難い。

また、図６に示す装置は、絶縁体管１０１の外表面の同軸上に設置された高電位電極（第２の電極１０２ｂ）とアース電極（第１の電極１０２ａ）とを有しているが、電極の形態上、放電開始電圧が極めて不安定であり、また、安定放電領域が極めて狭いため、実用的とは言い難い。

また、図７に示す装置は、絶縁体管１０１の内部の中心の高電位電極（棒状の第１の電極１０２ａ）と、絶縁体管１０１の外表面のアース電極（第２の電極１０２ｂ）とを有しているが、高電位電極の中心軸が絶縁体管１０１の内部の中心軸とずれていないことが重要である。また、絶縁体管１０１として硬質の材料を用いた場合には、固定用のジグ等を配置することによりこれらの中心軸のずれを解消することは可能と考えられるが、絶縁体管１０１として樹脂チューブ等の可撓性を有する材料を用いた場合には、これらの中心軸のずれを解消することは困難であり、現実的ではない。

上記の事情に鑑みて、本発明の目的は、高電圧印加時の異常放電の発生を抑えることができるとともに、処理効果が高く、安定放電領域が広い大気圧プラズマ処理装置、医療器具および大気圧プラズマ処理方法を提供することにある。

本発明の第１の実施態様によれば、軸方向に延びる絶縁体を備え、絶縁体の内部には、プラズマ発生空間としての第１の中空部が前記軸方向に延びるようにして設けられており、絶縁体の内部に軸方向に延びるようにして設けられた第２の中空部に軸方向に延びるようにして単電極が配置されており、単電極に交流電圧を印加するための電源をさらに備えた大気圧プラズマ発生装置を提供することができる。

本発明の第２の実施態様によれば、本発明の第１の実施態様の大気圧プラズマ発生装置を含む医療器具を提供することができる。

本発明の第３の実施態様によれば、上記のいずれかの大気圧プラズマ発生装置を用いた大気圧プラズマ処理方法であって、第１の中空部にヘリウムを主成分とするガスを導入する工程と、単電極に交流電圧を印加することによってガスのプラズマを大気圧近傍の圧力下で発生させる工程と、プラズマを処理対象物に接触させることによって処理対象物を処理する工程とを含む大気圧プラズマ処理方法を提供することができる。

本発明によれば、高電圧印加時の異常放電の発生を抑えることができるとともに、処理効果が高く、安定放電領域が広い大気圧プラズマ処理装置、医療器具および大気圧プラズマ処理方法を提供することができる。

実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置の模式的な断面図である。図１のＩＩ−ＩＩに沿った模式的な断面図である。実施の形態２の大気圧プラズマ発生装置の模式的な断面図である。実施の形態３の大気圧プラズマ発生装置の模式的な断面図である。従来のプラズマ発生装置の一例の構成を図解する模式的な側面図である。従来のプラズマ発生装置の一例の構成を図解する模式的な側面図である。従来のプラズマ発生装置のさらに他の一例の構成を図解する模式的な平面透視図である。

以下、本発明の一例である実施の形態について説明する。なお、実施の形態の説明に用いられる図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。

＜実施の形態１＞
［大気圧プラズマ発生装置の構成］
図１に、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置の模式的な断面図を示す。実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置は、軸方向に延びる絶縁体管１を備えている。絶縁体管１の内部には、プラズマ発生空間としての第１の中空部５が軸方向に延びるようにして設けられている。また、第１の中空部５とは別に、絶縁体管１の内部に軸方向に延びるようにして設けられた第２の中空部６に単電極２が配置されている。

単電極２は、絶縁体管１の軸方向に延びるようにして第２の中空部６に設けられており、第２の中空部６において、絶縁体管１と単電極２の外表面とが接している。また、単電極２には高周波電圧印加装置４が接続されており、高周波電圧印加装置４から高電圧を印加できる構成となっている。なお、本実施の形態においては、絶縁体管１に対してアース電極は、特別、設置されていない。

図２に、図１のＩＩ−ＩＩに沿った模式的な断面図を示す。図２に示される絶縁体管１の断面は、内部に円形状の第１の中空部５を備えるドーナツ形状となっているため、絶縁体管１は全体として円筒形状を有している。また、図２に示される単電極２の断面は、円形状となっているため、単電極２は全体として円柱形状を有している。なお、本実施の形態においては、軸方向に延びる中空の絶縁体として絶縁体管１が円筒形状である場合について説明するが、軸方向に延びる中空の絶縁体は、軸方向に垂直な断面の形状が円形または楕円形である場合に限定されず、たとえば、軸方向に垂直な断面の形状が多角形等の形状であってもよい。

［絶縁体管］
絶縁体管１としては、絶縁性の材料であれば特に限定なく用いることができ、たとえば石英のほかアルミナなどのセラミック、またはポリイミド樹脂、フッ素系樹脂若しくはＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）樹脂などの樹脂を用いることができる。

なかでも、絶縁体管１としては、樹脂などの可撓性を有する材料を用いることが好ましい。この場合には、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置自体に可撓性を持たせることができる。また、この場合には、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置を内視鏡またはカテーテルと組み合わせた医療器具として用いることによって、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置を人間の体内の湾曲した消化器官の内部に挿入して、胃や腸などの患部まで到達させることができる。そして、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置から大気圧プラズマを発生させて人間の体内の患部に照射することによって、当該患部の治療が可能となる。さらに、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置をたとえばカテーテルなどの医療器具の一部として用いることもできる。この場合にも、人間の体内に挿入して、人間の体内の患部まで実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置を到達させ、大気圧プラズマを発生させて人間の体内の患部に照射することによって、当該患部の治療が可能となる。

［単電極］
単電極２は、導電性の材料であれば特に限定なく用いることができ、たとえば、ステンレス、銅、タングステン、アルミニウム、モリブデン、チタンおよび鉛からなる群から選択された少なくとも１種を含む金属、酸化インジウム・スズ、酸化亜鉛などの電気導電性酸化物、窒化チタン等の電気導電性窒化物、ＰＥＤＯＴ（ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン））などの電気導電性高分子またはカーボン系電気導電性材料などを用いることができる。

また、上記においては、単電極２が円柱形状である場合について説明したが、単電極２の形状はこれに限定されず、たとえば、スパイラル状、棒状、中空状、短冊状または網目状であってもよい。単電極２がスパイラル状である場合には、スパイラル状に巻かれる導電線の太さは特に限定されず、単電極２に可撓性を持たせる観点からは、導電線の太さは０．５ｍｍ以下であることが好ましく、０．０４ｍｍ以下であることがより好ましい。

また、単電極２の軸方向の長さは、絶縁体管１の軸方向の長さと同一とは限らず、絶縁体管１の先端（ガス３の下流側の絶縁体管１の先端）からたとえば数ｍｍ〜数ｃｍ程度短くなっていてもよい。単電極２の軸方向の長さを変えることにより、大気圧プラズマの照射強度を調整することができる。

［高周波電圧印加装置］
高周波電圧印加装置４としては、たとえば、従来から公知の高周波電源などを用いることができる。なお、本実施の形態においては、単電極２に交流電圧を印加するための電源として高周波電圧印加装置４を用いる場合について説明したが、これに限定されず、単電極２に低周波電圧を印加する低周波電源を用いてもよい。なお、高周波は１０ｋＨｚ以上の周波数を意味しており、低周波は１０ｋＨｚ未満の周波数を意味している。

［大気圧プラズマ発生装置の製造方法］
実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置は、たとえば以下のようにして製造することができる。まず、開口径の大きさが異なる２つの第１の中空部５と第２の中空部６とを内部に有する絶縁体からなる絶縁体管１と、一方向に延びる導電線からなる単電極２とを準備する。次に、絶縁体管１の開口径が小さい方の第２の中空部６に単電極２を挿入する。その後、たとえば絶縁体管１の後述するガスが流れる方向の上流側において、高周波電圧印加装置４を単電極２に接続する。これにより、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置を製造することができる。

［大気圧プラズマ処理方法］
以下、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置を用いた大気圧プラズマ処理方法の一例について説明する。まず、図１および図２に示す実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置を準備する。次に、図１に示すように、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置の絶縁体管１の第１の中空部５内にガス３を導入する。

ここで、絶縁体管１の第１の中空部５内に導入されるガス３は、大気圧プラズマ処理に応じて適宜設定することができるが、異常放電の発生を抑制する観点からは、ヘリウムを主成分（ガス３全体の体積流量の６０％以上を占める）とするガスを用いることが好ましい。ヘリウムを主成分とするガスとしては、ヘリウムのみからなるガスを用いてもよく、ヘリウムを主成分とし、ヘリウム以外のガス（たとえば、アルゴン、酸素および窒素からなる群から選択された少なくとも１種を含むガス）を副成分とするガスを用いてもよい。

次に、高周波電圧印加装置４から単電極２に高周波電圧を印加することによって、絶縁体管１の第１の中空部５内に導入されたガス３のプラズマを大気圧近傍の圧力下で発生させる。

絶縁体管１の第１の中空部５内で発生するプラズマは、大気圧近傍の圧力下で発生させられる大気圧プラズマである。なお、本明細書において、「大気圧近傍の圧力」は、絶縁体管１の第１の中空部５内の圧力が６００００Ｐａ以上２１００００Ｐａ以下の範囲の圧力であることを意味する。

また、単電極２に高電圧を印加する場合の印加電圧は、大気圧プラズマ処理効果を高める観点からは、６．８ｋＶ以上であることが好ましく、７．５ｋＶ以上であることがより好ましく、９．８ｋＶ以上であることがさらに好ましい。また、異常放電の発生を抑える観点からは、単電極２に高電圧を印加する場合の印加電圧は、１１．５ｋＶ以下であることが好ましい。

また、単電極２に高周波電圧が印加される場合の高周波電圧の周波数は、たとえば１ｋＨｚ以上３０ＭＨｚ以下とすることができる。

次に、上述のようにして発生させた大気圧プラズマは、ガス３の下流側の絶縁体管１の先端から放出される。そして、絶縁体管１の先端から放出されたプラズマを処理対象物に照射して接触させることによって、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置を用いた大気圧プラズマ処理が行なわれる。なお、処理対象物は、特に限定されず、たとえばポリエステル（ＰＥＴ）フィルムなどの樹脂フィルムのような工業用部材であってもよく、がん細胞などの生体の患部であってもよい。

［作用効果］
実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置においては、理由は不明であるが、高周波電圧印加装置４から単電極２に高電圧を印加した場合においても、従来と比べて異常放電の発生を抑えることができ、広い放電領域で安定放電を維持することができる。そのため、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置によれば、高電圧印加時の異常放電の発生を抑えることができるとともに、高電圧を印加することによってプラズマによる処理対象物への処理効果を高くすることができ、安定放電領域を広く有するものとすることができる。

また、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置は、絶縁体管１の外径を約１ｍｍ程度にまで細くすることが可能である。そのため、絶縁体管１の最小許容曲げ半径（使用可能な最小の曲げ半径で、絶縁体管１の中心軸までの距離）を５ｍｍ程度にすることができ、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置に非常に高い可撓性を持たせることが可能である。

単電極２がプラズマ発生空間に存在する場合には、プラズマが単電極２に接触することにより単電極２から生じるパーティクルによって処理対象物が汚染される懸念があるが、実施の形態１の大気圧プラズマ発生装置においては、単電極２の設置箇所と、プロセスガスであるガス３が導入される第１の中空部５の設置箇所とが、絶縁体管１を構成する絶縁体１によって分け隔てられていることから、処理対象物への汚染を懸念する必要がない。

＜実施の形態２＞
図３に、実施の形態２の大気圧プラズマ発生装置の模式的な断面図を示す。実施の形態２の大気圧プラズマ発生装置は、第２の中空部６において、絶縁体管１と単電極２の外表面とが接していないことを特徴としている。

実施の形態２の大気圧プラズマ発生装置においても、単電極２の設置箇所と、プロセスガスであるガス３が導入される第１の中空部５の設置箇所とが、絶縁体管１を構成する絶縁体１によって分け隔てられていることから、処理対象物への汚染を懸念する必要がない。

また、実施の形態２の大気圧プラズマ発生装置においては、単電極２の周囲に空間が存在しているため、単電極２の脱着が容易となるという効果も得られる。

実施の形態２における上記以外の説明は実施の形態１と同様であるため、ここではその説明については省略する。

＜実施の形態３＞
図４に、実施の形態３の大気圧プラズマ発生装置の模式的な断面図を示す。実施の形態３の大気圧プラズマ発生装置は、第１の中空部５および第２の中空部６に加えて、絶縁体管１の内部に絶縁体管１の軸方向に延在する第３の中空部７をさらに備えているとともに第２の中空部６に配置されている単電極２が中空であることを特徴としている。

実施の形態３の大気圧プラズマ発生装置においては、第１の中空部５をプラズマ発生空間とし、第２の中空部６を単電極２の設置部とし、第３の中空部７をたとえば各種センサ等の設置部とすることができる。なお、単電極２としては、実施の形態１および実施の形態２と同様の中空ではない単電極を用いてもよく、第２の中空部６において絶縁体管１と単電極２の外表面とは接していてもよく、接していなくてもよい。

実施の形態３における上記以外の説明は実施の形態１および実施の形態２と同様であるため、ここではその説明については省略する。

＜実施例１＞
まず、中央に開口径が２ｍｍの中空部を有するとともに、その隣に開口径が０．５ｍｍの中空部を有するラテックスチューブと、一方向に延びる金属線とを準備した。次に、図１および図２に示すように、ラテックスチューブからなる絶縁体管１の開口径が０．５ｍｍの中空部に金属線を挿入し、これを単電極２とした。次に、絶縁体管１のガス３が流れる方向の上流側において、高周波電圧印加装置４を単電極２に接続した。これにより、実施例１の大気圧プラズマ発生装置を作製した。

そして、実施例１の大気圧プラズマ発生装置の絶縁体管１の第１の中空部５内にヘリウムのみからなるガス３を２Ｌ（リットル）／ｍｉｎ（分）の流量で導入した。そして、高周波電圧印加装置４から単電極２に９ｋＶの大きさの交流電圧を周波数４０ｋＨｚで２０秒間印加した。これにより、絶縁体管１の内部のガス３の流れる方向の下流側の先端付近に、大気圧近傍の圧力下で、ヘリウムガスからなるガス３の大気圧プラズマを発生させた。

次に、絶縁体管１の先端から噴出した大気圧プラズマを短冊状に切り取ったＰＥＴフィルムの表面に２０秒間接触させることによって、ＰＥＴフィルムの表面（未処理時の水接触角６３．３°）の大気圧プラズマ処理を行なった。ここで、絶縁体管１の先端とＰＥＴフィルムの表面との間の距離は５ｍｍとした。

そして、大気圧プラズマ処理後のＰＥＴフィルムの表面の水接触角を測定した。その結果を表１に示す。表１に示すように、実施例１の大気圧プラズマ発生装置を用いた大気圧プラズマ処理後のＰＥＴフィルムの表面（未処理時の水接触角６３．３°）の水接触角は４８．９°であった。

なお、実施例１の大気圧プラズマ発生装置においては、高周波電圧印加装置４から単電極２への電圧の大きさを大きくした場合にも異常放電を発生させずに安定的な放電が可能であった。なお、高周波電圧印加装置４から単電極２に印加される電圧を、１０ｋＶ、１１ｋＶおよび１２ｋＶとしたときの大気圧プラズマ処理を行なった後のＰＥＴフィルムの表面の水接触角は、それぞれ、表１に示すように、４５．９°、４４．１°および４２．７°であった。

＜比較例１＞
中央に開口径が２ｍｍの中空部を有するとともに、その隣に開口径が０．５ｍｍの中空部を有するラテックスチューブからなる絶縁体管１の外表面にアルミニウムテープを巻き付けて、アルミニウムテープを単電極２としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の大気圧プラズマ発生装置を作製した。

そして、比較例１の大気圧プラズマ発生装置の単電極２に交流電圧を印加して、実施例１と同一の条件でプラズマを発生させることを試みたが、放電しなかった。また、単電極２に印加される交流電圧の大きさを２０ｋＶまで上昇させても放電しなかった。

＜比較例２＞
中央に開口径が２ｍｍの中空部を有するとともに、その隣に開口径が０．５ｍｍの中空部を有するラテックスチューブからなる絶縁体管１の外表面の２箇所に互いに間隔を空けてアルミニウムテープを巻き付け、ガス３が流れる方向の上流側のアルミニウムテープをアース電極とし、下流側のアルミニウムテープを高電位電極としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例２の大気圧プラズマ発生装置を作製した。

そして、比較例２の大気圧プラズマ発生装置の単電極２に交流電圧を印加して、実施例１と同一の条件でプラズマを発生させることを試みたところ、放電開始電圧が１０．５ｋＶ〜１２．２ｋＶと安定しなかった。また、単電極２に印加される交流電圧の大きさを１２．５ｋＶまで上昇したところ、異常放電が発生した。

＜評価＞
上記の実験結果から明らかなように、実施例１の大気圧プラズマ発生装置は、比較例１および比較例２の大気圧プラズマ発生装置と比べて、高電圧印加時の異常放電の発生を抑えることができるとともに、ＰＥＴフィルムの表面処理効果を高くすることができ、安定放電領域を広くすることができることが確認された。

以上のように本発明の実施の形態および実施例について説明を行なったが、上述の各実施の形態および各実施例の構成を適宜組み合わせることも当初から予定している。

今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

本発明は、大気圧プラズマ発生装置および大気圧プラズマ処理方法に利用することができ、特に大気圧プラズマ発生装置が可撓性を有している場合には、内視鏡またはカテーテルと組み合わせることによってプラズマ照射によるがん細胞のアポトーシスを誘因する誘起させる医療器具などに利用することができる可能性がある。さらに、本発明の大気圧プラズマ発生装置をたとえばカテーテルなどの医療器具の一部として用いることもできる。

１絶縁体管、２単電極、３ガス、４高周波電圧印加装置、５第１の中空部、６第２の中空部、７第３の中空部、１０１絶縁体管、１０２単電極、１０２ａ第１の電極、１０２ｂ第２の電極、１０３ガス、１０４高周波電圧印加装置、１０５プラズマ（活性種）。

Claims

軸方向に延びる絶縁体を備え、
前記絶縁体の内部には、プラズマ発生空間としての第１の中空部が前記軸方向に延びるようにして設けられており、
前記絶縁体の内部に前記軸方向に延びるようにして設けられた第２の中空部に前記軸方向に延びるようにして単電極が配置されており、
前記単電極に交流電圧を印加するための電源をさらに備えた、大気圧プラズマ発生装置。
前記絶縁体と前記単電極の外表面とが接している、請求項１に記載の大気圧プラズマ発生装置。
前記単電極は、スパイラル状、棒状、中空状、短冊状または網目状である、請求項１または請求項２に記載の大気圧プラズマ発生装置。
前記絶縁体の内部に前記軸方向に延びるようにして第３の中空部がさらに設けられている、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の大気圧プラズマ発生装置。
前記第１の中空部にガスを導入するためのガス導入装置をさらに備えた、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の大気圧プラズマ発生装置。
前記絶縁体が可撓性を有する、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の大気圧プラズマ発生装置。
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の大気圧プラズマ発生装置を含む、医療器具。
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の大気圧プラズマ発生装置を用いた大気圧プラズマ処理方法であって、
前記第１の中空部にヘリウムを主成分とするガスを導入する工程と、
前記単電極に交流電圧を印加することによって前記ガスのプラズマを大気圧近傍の圧力下で発生させる工程と、
前記プラズマを処理対象物に接触させることによって前記処理対象物を処理する工程と、を含む、大気圧プラズマ処理方法。