JP2015120093A - 温度応答性微多孔膜およびそれを用いてなる固体高分子電解質膜 - Google Patents
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Abstract
Description
・ポリ−N−アルキルアクリルアミド誘導体
・ポリイソプロピルアクリルアミドに代表されるポリアクリルアミド誘導体とポリビニル誘導体との共重合体
・N−ビニルイソ酪酸アミドなどのN−ビニルC3−9アシルアミドと、N−ビニルアセトアミドなどのN−ビニルC1−3アシルアミドとの共重合体
・ポリアクリルアミド誘導体及びポリ−N−ビニルアシルアミド
・N−イソプロピルアクリルアミドで構成された単量体の重合体、およびN−ビニルイソ酪酸アミドで構成された単量体の重合体
本実施態様に係る温度応答性微多孔膜は、ポリオレフィンからなる基材に、両親媒性分子としてのN−イソプロピルアクリルアミドを重合した高分子、またはN−イソプロピルアクリルアミドにアクリル酸、2−カルボキシイソプロピルアクリルアミドおよび3−カルボキシ−n−プロピルアクリルアミドを共重合した高分子が配置されてなる温度応答性微多孔膜である。本実施態様において温度応答性微多孔膜とは、先の微多孔膜表面、あるいは内部に温度変動に伴う水和、脱水和によって分子構造を変化させる分子(両親媒性分子)が担持された膜である。
上記膜厚の値は、接触式厚さ計(ミツトヨ製、VL−50A)を用いて、無作為に選択したMD位置で測定したものである。膜のTD(幅)に沿った点で30cmの距離にわたって5mmの間隔でTDに沿った厚さ測定を5回行い、その算術平均を上記膜厚の値として採用した。
本実施態様において、膜強度の観点から、空孔率の上限は、好ましくは70%以下であり、より好ましくは60%以下である。また、透過性能および電解液含有量の観点から、空孔率の下限は、好ましくは20%以上であり、より好ましくは30%以上である。空孔率を上記範囲内とすることにより、透過性、強度および電界液含有量のバランスが良くなり、電池反応の不均一性が解消され、デンドライト発生が抑制される。その結果、電池セパレータとして用いた際には良好な安全性、強度、透過性が得られる。
本実施態様において、イオン透過性の観点から、膜厚を20μmとしたときの透気抵抗度は100〜1000sec/100cc以下であることが好ましく、100〜800sec/100ccであることがより好ましく、100〜600sec/100ccであることが特に好ましい。ここで、膜厚を20μmとしたときの透気抵抗度とは、膜厚T1(μm)の微多孔膜において、JIS P 8117(2009)に準拠して測定した透気抵抗度がP1であったとき、式:P2=(P1×20)/T1によって算出される透気抵抗度P2のことを指す。なお、以下では、膜厚について特に記載がない限り、「透気抵抗度」という語句を「膜厚を20μmとしたときの透気抵抗度」の意味で用いる。透気抵抗度が1000sec/100ccを超えると、イオン透過性が悪くなり、セパレータとしての絶縁性能が高くなり、電気抵抗が増加するため好ましくない。一方、透気抵抗度が100sec/100cc未満の場合は、電池内部の温度が上昇した際、メルトダウンの前のシャットダウンが十分に行われないおそれがある。
本実施態様の温度応答性微多孔膜の引っ張り強度は、MD方向の引張強度(MD方向における引張破断強度である。以下、単に「MD引張強度」とも記す。)は、通常1000〜4500kgf/cm2であり、好ましくは1500〜4000kgf/cm2であり、より好ましくは1500〜3000kgf/cm2である。MD引張強度が弱いと電池捲回工程において破膜してしまうおそれがあるため、MD引張強度は少なくとも1000kgf/cm2以上であることが好ましい。また、塗工時の搬送張力を考慮すると、1500kgf/cm2以上であることがより好ましい。しかしながら、MD引張強度を上げすぎると、TD方向の引張強度(TD方向における引張破断強度である。以下、単に「TD引張強度」とも記す。)とのバランスが悪くなり、製膜時に張力のバランスが崩れて皺が入りやすくなる。また、スリット時に巻きずれなどが起きてしまうおそれがある。そこで、TD引張強度とのバランスの観点から、MD引張強度の上限としては4500kgf/cm2以下が好ましい。
ポリオレフィン基材の製造方法は、これに制限されるものではないが、MD強度向上の観点から、下記(1)〜(5)の工程を含んでいることが好ましい。
(2)ダイから押し出されたシートを、延伸温度90〜115℃、延伸倍率1.1〜2.0倍にてMD方向に延伸する工程
(3)MD方向に延伸されたシートを、延伸温度100〜120℃にてMD方向およびTD方向に同時延伸する工程
(4)洗浄により、可塑剤を洗い流す工程
(5)熱固定する工程
NIPAmを溶媒を水として、0.1、1wt%で溶解させた。前述の製造工程を経て得られた微多孔膜(E09HMS; MD引っ張り強度1650kgf/cm2:TD引っ張り強度1100kgf/cm2:透気抵抗度280sec/100cc/20μm:空孔率33%)を基材として用いて、NIPAm水溶液の含浸性を向上させるため、微多孔膜をエタノールに浸漬した後、NIPAm水溶液をディップコートにより塗工した。微多孔膜を70℃、10分間真空オーブンで乾燥させ、NIPAmを表面に担持させた。
〔実施例1〕
接触角測定装置(DM−501 Hi;協和界面科学製)を用い、20℃および45℃の2つの温度条件において、両親媒性分子(ポリNイソプロピルアクリルアミド;アルドリッチ製)をコートしたポリエチレン微多孔膜の2水準の温度における2種の溶媒(水(極性溶媒)とジヨードメタン(非極性溶媒))の滴下後25秒後における動的接触角を測定し、Owens−Wendt法で基板の表面自由エネルギーを算出した。
実施例1と同様の測定を、両親媒性分子をコートしていないポリエチレン微多孔膜について実施した。測定結果を表2に示す。
平均粒径:0.5μmのアルミナ粉末(日本軽金属(株)製、LS−231(商品名))60wt%と、平均粒径:50μm、2.4μmの2種のアルミナ粉末(同社製のLS−22(商品名))40wt%を混合したアルミナ粉末に、純水と市販のポリカルボン酸アンモニウム塩を主成分とする分散剤(東亜合成(株)製、商品名A−6114)を添加して混合し、スラリー濃度を50wt%とした。その後、濾過粒子サイズ(初期濾過効率:95%)が10μmのフェルト型ポリプロピレン製フィルタで精密濾過し、塗布液とした
ポリオレフィン基材の塗工をハンドコートにより実施し、微多孔膜上に前述の塗布液を室温でコーティングし、室温、30minで乾燥させた。
ポリオレフィン基材の塗工をハンドコートにより実施し、微多孔膜上に前述の塗布液を45℃のホットプレート上でコーティングし、室温、30minで乾燥させた。
ポリオレフィン基材の塗工をハンドコートにより実施し、微多孔膜上に前述の塗布液を45℃のホットプレート上でコーティングし、45℃、30minで乾燥させた。
実施例2および比較例2〜3において、塗工時の濡れ性判定は、塗工液を適量滴下し、微多孔膜上の濡れ広がりの様子を目視確認することにより行った。塗材を5ml滴下後、2cm×2cmの範囲に広がるまでの時間を測定した。判定基準は以下の通りである。
10s以上:不良
塗工性判定は、10cm×5cmの大きさのサンプルを無作為に採取し、塗工ムラ(しわ、塗材のはがれ、クラックなど)の有無について目視確認を行い、塗工ムラ箇所が少ないものほど塗工性が良いとした。判定基準は以下の通りである。
4〜10箇所:良好
11箇所以上:不良
Claims (6)
- ポリオレフィンからなる基材に両親媒性分子が配置されてなる温度応答性微多孔膜であって、前記基材の表面自由エネルギーが20℃において45mJ/m2以上であり、かつ前記表面自由エネルギーが45℃において35mJ/m2以下であることを特徴とする温度応答性微多孔膜。
- 前記基材が、重量平均分子量の異なる二種以上のポリオレフィンからなる、請求項1に記載の温度応答性微多孔膜。
- 前記ポリオレフィンが、エチレン、プロピレン、1−ブテン、4−メチル−ペンテン−1および1−ヘキセンからなる群より選ばれる1種以上を重合してなる重合体またはその混合物である、請求項1または2に記載の温度応答性微多孔膜。
- 前記両親媒性分子が、N−イソプロピルアクリルアミドを重合した高分子、またはN−イソプロピルアクリルアミドにアクリル酸、2−カルボキシイソプロピルアクリルアミドおよび3−カルボキシ−n−プロピルアクリルアミドを共重合した高分子である、請求項1〜3のいずれかに記載の温度応答性微多孔膜。
- MD方向における引張破断強度が1000〜4500kgf/cm2であり、TD方向における引張破断強度が1000〜3000kgf/cm2である、請求項1〜4のいずれかに記載の温度応答性微多孔膜。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の温度応答性微多孔膜から構成されている固体高分子電解質膜。
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