JP2015108171A - 多孔質構造体の製造方法及び多孔質構造体 - Google Patents
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- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
【解決手段】セラミックス又は金属を主成分とする原料を用いて製造する多孔質構造体の製造方法において、化学エッチングによる除去が可能な犠牲層20を基材10の表面を覆うように形成し、形成した犠牲層20の表面に多孔質膜30を溶射し、前記犠牲層20を化学エッチングにより除去することで前記基材10から分離した前記多孔質膜30から構成することを特徴とする多孔質構造体の製造方法。
【選択図】図1
Description
図1は多孔質構造体の製造方法を簡略的に示す模式図である。以下本実施の形態に係る多孔質構造体の製造方法について説明する。まず始めに、平板状の基材10を用意する。基材10の材料は金属、ガラス、セラミックス等であり、例えば、アルミニウム合金、石英ガラス、焼結アルミナ等で構成される。図1Aは研削により形状加工が施された基材10の断面図を示している。
以下、特に説明する構成、作用以外の構成及び作用は実施の形態1と同等であり、簡潔のため記載を省略する。実施の形態2に係る多孔質構造体の製造方法は分離前又は分離後の多孔質膜30に熱処理を行う。
図4は実施の形態3に係る多孔質構造体の製造方法を簡略的に示す模式図である。以下、特に説明する構成、作用以外の構成及び作用は実施の形態1と同等であり、簡潔のため記載を省略する。基材10の表面形状は凹凸パターンを形成してある。すなわち基材10の表面の一部にサンドブラスト加工によって凹凸部を形成してある。基材10に形成された凹凸パターンは表面を部分的に樹脂フィルムでマスキングし、サンドブラスト処理を行うことで形成した。なお、本実施形態において基材10の凹凸パターン形成はサンドブラスト処理を用いて行ったが、マシングセンタ等を用いた機械研削加工によりパターンを形成してもよい。図4Aは実施の形態3に係る基材10の断面図を示している。
図5は実施の形態4に係る多孔質構造体の製造方法を簡略的に示す模式図である。以下、特に説明する構成、作用以外の構成及び作用は実施の形態1と同等であり、簡潔のため記載を省略する。基材10は円柱状である。図5Aは実施の形態4に係る基材10の全体斜視図を示している。
図6は実施の形態5に係る多孔質構造体の製造方法を簡略的に示す模式図である。以下、特に説明する構成、作用以外の構成及び作用は実施の形態1と同等であり、簡潔のため記載を省略する。図6A〜図6Cの工程は実施の形態1と略同様であるため、記載を省略する。多孔質膜30に多孔質膜30とは別材料の溶射粉末を溶射することにより多孔質膜30の一面に多孔質膜60を形成する。図6Dは実施の形態5に係る多孔質膜60、多孔質膜30及び犠牲層20を形成した基材10の断面図を示している。
また、本実施形態における多孔質構造体は、気孔率が異なる多孔質膜を複数積層させることで、気体あるいは液体の透過性を制御できる機能を負荷した部材を製造することができる。
図7は実施の形態6に係る多孔質構造体の製造方法を簡略的に示す模式図である。以下、特に説明する構成、作用以外の構成及び作用は実施の形態1と同等であり、簡潔のため記載を省略する。図7A〜図7Cの工程は実施の形態1と略同様であるため、記載を省略する。多孔質膜30の表面を部分的に被覆した樹脂フィルム70を形成する。樹脂フィルム70は厚み方向に所定のパターンで貫通した貫通孔が形成されている。所定のパターンとは例えば、図柄、模様等である。図7Dは実施の形態6に係る樹脂フィルム70を被覆した多孔質膜30及び犠牲層20を形成した基材10の断面図を示している。
図8は実施の形態7に係る多孔質構造体の製造方法を簡略的に示す模式図である。以下、特に説明する構成、作用以外の構成及び作用は実施の形態1と同等であり、簡潔のため記載を省略する。図8A〜図8Cの工程は実施の形態1と略同様であるため、記載を省略する。
樹脂フィルム80は厚み方向に所定のパターンで貫通した貫通孔が形成されている。図8Dは樹脂フィルム80を被覆した多孔質膜30及び犠牲層20を形成した基材10の断面図を示している。
図9は実施の形態8に係る多孔質構造体の製造方法を簡略的に示す模式図である。以下、特に説明する構成、作用以外の構成及び作用は実施の形態1と同等であり、簡潔のため記載を省略する。基材10は円柱状である。図9Aは実施の形態8に係る基材10の全体斜視図を示している。
41 アノード
42 供給孔
43 供給孔
44 開口部
45 カソード
10 基材
20 犠牲層
30 多孔質膜
50 薬液
60 多孔質膜
70 樹脂フィルム
80 樹脂フィルム
90 犠牲層(第2犠牲層)
100 多孔質膜(第2多孔質膜)
Claims (12)
- セラミックス又は金属を主成分とする原料を用いて製造する多孔質構造体の製造方法において、
化学エッチングによる除去が可能な犠牲層を基材の表面を覆うように形成し、
形成した犠牲層の表面に多孔質膜を溶射し、
前記犠牲層を化学エッチングにより除去することで前記基材から分離した前記多孔質膜から構成する
ことを特徴とする多孔質構造体の製造方法。 - 前記犠牲層の膜厚は、前記基材の表面粗さRyの値より厚く形成されており、
前記基材は、前記犠牲層の化学エッチングに用いられる薬液に耐性を有している
ことを特徴とする請求項1に記載の多孔質構造体の製造方法。 - 前記基材の表面には、凹凸パターンが形成してある
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の多孔質構造体の製造方法。 - 前記多孔質膜の材料は、アルミナ、クロミア、チタニア、イットリア、ジルコニア、カルシア、マグネシア、セリア、リン酸カルシウム、シリカ、シリコンもしくはチタンのうち単一又は複数から構成される
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の多孔質構造体の製造方法。 - 前記犠牲層の材料は、アルミニウム、シリコン又はイットリアである
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1つに記載の多孔質構造体の製造方法。 - 前記基材は、円柱状、円筒状又は有底筒状である
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1つに記載の多孔質構造体の製造方法。 - 前記基材は石英ガラスである
ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1つに記載の多孔質構造体の製造方法。 - 前記多孔質膜は、熱処理をする
ことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1つに記載の多孔質構造体の製造方法。 - 前記多孔質膜の膜厚は、200μm以上である
ことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1つに記載の多孔質構造体の製造方法。 - 前記犠牲層を化学エッチングにより除去するに先立ち、
前記多孔質膜の表面の一部を研削加工又はサンドブラスト加工する
ことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1つに記載の多孔質構造体の製造方法。 - 前記犠牲層を化学エッチングにより除去するに先立ち、
前記多孔質膜の表面の一部に第2犠牲層を形成し、
形成した第2犠牲層及び前記多孔質膜の表面に第2多孔質膜を溶射し、
前記第2犠牲層を前記犠牲層とともに化学エッチングにより除去する
ことを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1つに記載の多孔質構造体の製造方法。 - セラミックス又は金属を主成分とする原料により構成される多孔質構造体において、前記原料は、Al、Ca、Ce、Cr、Mg、Si、Ti、YもしくはZrを含む金属又はそれらの酸化物を含む化合物であり、
表面に凹凸パターンが形成されている
ことを特徴とする多孔質構造体。
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