JP2015099883A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015099883A5
JP2015099883A5 JP2013240063A JP2013240063A JP2015099883A5 JP 2015099883 A5 JP2015099883 A5 JP 2015099883A5 JP 2013240063 A JP2013240063 A JP 2013240063A JP 2013240063 A JP2013240063 A JP 2013240063A JP 2015099883 A5 JP2015099883 A5 JP 2015099883A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing liquid
intermediate tank
liquid supply
pressure
flow rate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013240063A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5999073B2 (ja
JP2015099883A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013240063A priority Critical patent/JP5999073B2/ja
Priority claimed from JP2013240063A external-priority patent/JP5999073B2/ja
Priority to TW103138903A priority patent/TWI620029B/zh
Priority to KR1020140160639A priority patent/KR102019524B1/ko
Priority to US14/548,719 priority patent/US9778571B2/en
Publication of JP2015099883A publication Critical patent/JP2015099883A/ja
Publication of JP2015099883A5 publication Critical patent/JP2015099883A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5999073B2 publication Critical patent/JP5999073B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2013240063A 2013-11-20 2013-11-20 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体 Active JP5999073B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013240063A JP5999073B2 (ja) 2013-11-20 2013-11-20 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体
TW103138903A TWI620029B (zh) 2013-11-20 2014-11-10 Treatment liquid supply device, treatment liquid supply method, and memory medium
KR1020140160639A KR102019524B1 (ko) 2013-11-20 2014-11-18 처리액 공급 장치, 처리액 공급 방법 및 기억 매체
US14/548,719 US9778571B2 (en) 2013-11-20 2014-11-20 Processing liquid supplying apparatus, processing liquid supplying method and storage medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013240063A JP5999073B2 (ja) 2013-11-20 2013-11-20 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015099883A JP2015099883A (ja) 2015-05-28
JP2015099883A5 true JP2015099883A5 (enExample) 2015-11-26
JP5999073B2 JP5999073B2 (ja) 2016-09-28

Family

ID=53173636

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013240063A Active JP5999073B2 (ja) 2013-11-20 2013-11-20 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9778571B2 (enExample)
JP (1) JP5999073B2 (enExample)
KR (1) KR102019524B1 (enExample)
TW (1) TWI620029B (enExample)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6370567B2 (ja) * 2014-03-13 2018-08-08 エイブリック株式会社 現像装置
JP6407833B2 (ja) * 2015-10-13 2018-10-17 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置
JP6407832B2 (ja) * 2015-10-13 2018-10-17 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置
JP6861084B2 (ja) * 2016-08-25 2021-04-21 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体
US10518199B2 (en) * 2016-09-08 2019-12-31 Tokyo Electron Limited Treatment solution supply apparatus
JP6987649B2 (ja) * 2018-01-12 2022-01-05 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 処理液供給装置及びその脱気方法
JP7072453B2 (ja) * 2018-06-29 2022-05-20 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、および基板処理方法
US11772234B2 (en) 2019-10-25 2023-10-03 Applied Materials, Inc. Small batch polishing fluid delivery for CMP
CN112786479B (zh) * 2019-11-08 2022-12-02 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 管理液体供应的系统与方法
JP7685431B2 (ja) * 2021-12-03 2025-05-29 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置及び処理液排出方法
CN119037923A (zh) * 2024-08-26 2024-11-29 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 化学品供应装置及方法、清洗设备、介质和计算机设备

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3150690B2 (ja) * 1990-11-28 2001-03-26 東京エレクトロン株式会社 薬液処理装置
JPH09260332A (ja) * 1996-03-18 1997-10-03 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置の薬液供給装置
JP3545559B2 (ja) * 1996-12-25 2004-07-21 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置
TW382749B (en) * 1996-12-24 2000-02-21 Tokyo Electron Ltd Liquid supplying device
JP3393534B2 (ja) * 1997-05-16 2003-04-07 タツモ株式会社 処理液供給ノズルシステム
JP3576835B2 (ja) * 1998-10-08 2004-10-13 東京エレクトロン株式会社 薬液供給システムおよび基板処理システム、ならびに液処理方法
US20030010792A1 (en) * 1998-12-30 2003-01-16 Randy Forshey Chemical mix and delivery systems and methods thereof
JP3628895B2 (ja) * 1999-01-28 2005-03-16 大日本スクリーン製造株式会社 処理液供給装置
US7334708B2 (en) * 2001-07-16 2008-02-26 L'air Liquide, Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Integral blocks, chemical delivery systems and methods for delivering an ultrapure chemical
JP4693175B2 (ja) * 2006-06-27 2011-06-01 東京エレクトロン株式会社 加圧式処理液供給装置
KR100980704B1 (ko) * 2008-09-10 2010-09-08 세메스 주식회사 포토레지스트 공급 장치 및 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015099883A5 (enExample)
JP2016084844A5 (enExample)
EP2672247B1 (en) Leak Testing Methods and Systems
CN204816244U (zh) 一种在线称量同时配制多瓶标准混合气的装置
JP2012112390A5 (enExample)
TW200913005A (en) Flow verification system and flow verification method
JP2015510477A5 (enExample)
CN106573097B (zh) 用于确定腹膜压力的设备
JP2012038962A5 (enExample)
JP2015099883A (ja) 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体
JP6461930B2 (ja) スラリーの移送法
US20170340995A1 (en) Chemical liquid supply system and chemical liquid supply method
CA2996491C (en) System and method for testing a fire suppression system
JP2016215079A5 (enExample)
KR20220112267A (ko) 탱크를 충전하기 위한 장치 및 방법
CN104118839B (zh) 基于电子秤和质量流量计的冗余加注系统和方法
JP2022142723A5 (enExample)
JP2015512783A5 (enExample)
EP2562424A3 (en) Method and equipment for controlling a multipoint fluid distribution system
CN104150225A (zh) 压送状态下管道输送防堵塞设备及其使用方法
CN204448451U (zh) 涂料供给装置
JP5645018B2 (ja) 注液管の漏洩検知方法及び漏洩検知システム
JP2012136394A5 (enExample)
CN210024957U (zh) 喷砂机
DK178509B1 (en) Device and Method for Collecting a Fluid